[發明專利]薄膜晶體管及其制作方法、顯示面板的制作方法

有效

• 申請號: 201810907928.6
• 申請日: 2018-08-10
• 公開（公告）號: CN109103263B
• 公開（公告）日: 2022-03-15
• 發明（設計）人: 張偉;李民;徐苗;陶洪;鄒建華;王磊
• 申請（專利權）人: 廣州新視界光電科技有限公司
• 主分類號: H01L29/786
• 分類號: H01L29/786;H01L29/24;H01L21/34
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種薄膜晶體管，其特征在于，包括：

襯底基板；

形成在所述襯底基板上的柵極層、柵極絕緣層、有源層和源漏極層，所述有源層包括第一區域，所述第一區域為未被所述柵極層以及所述源漏極層覆蓋；

形成在所述有源層背離所述襯底基板一側的鈍化層，且所述鈍化層與所述有源層的第一區域直接接觸；

其中，所述有源層和所述鈍化層均整層摻雜有稀土元素。

2.根據權利要求1所述的薄膜晶體管，其特征在于，

所述有源層摻雜有釓、鈧、釔、鑭、釹、鈰、鐠、钷、釤和銪中的至少一種。

3.根據權利要求1所述的薄膜晶體管，其特征在于，

所述鈍化層摻雜有鈰、釤、釓、鉺和銩中的至少一種。

4.一種薄膜晶體管的制作方法，其特征在于，所述薄膜晶體管的制作方法用于制作權利要求1-3中任一項所述的薄膜晶體管；

所述薄膜晶體管的制作方法包括：

提供襯底基板；

在所述襯底基板上形成柵極、柵極絕緣層、有源層和源漏極層，其中，所述有源層包括第一區域，所述第一區域為未被所述柵極層以及所述源漏極層覆蓋；且所述有源層摻雜有稀土元素；

利用溶液法在所述有源層背離所述襯底基板的一側形成鈍化層，所述鈍化層與所述有源層的所述第一區域直接接觸；且所述鈍化層整層摻雜有稀土元素。

5.根據權利要求4所述的薄膜晶體管的制作方法，其特征在于，

利用溶液法在所述有源層背離所述襯底基板的一側形成鈍化層，包括：

將包含摻雜元素的化合物加入到溶劑中，攪拌、靜止老化，過濾得到鈍化層原液；

利用旋涂的方法，將所述鈍化層原液涂布于鈍化層預設區域內，所述鈍化層原液至少覆蓋所述有源層的所述第一區域，以形成鈍化層；

在真空環境下，對所述鈍化層進行退火處理。

6.根據權利要求5所述的薄膜晶體管的制作方法，其特征在于，

執行所述利用旋涂的方法，將所述鈍化層原液涂布于鈍化層預設區域內，所述鈍化層原液至少覆蓋所述有源層的所述第一區域，以形成鈍化層的步驟的次數為至少兩次。

7.根據權利要求5所述的薄膜晶體管的制作方法，其特征在于，

所述在真空環境下，對所述鈍化層進行退火處理的同時，還包括：

利用深紫外線照射所述鈍化層。

8.根據權利要求4所述的薄膜晶體管的制作方法，其特征在于，

所述利用溶液法在所述有源層背離所述襯底基板的一側形成鈍化層，包括：

將包含摻雜元素的化合物、原位燃燒燃料加入到溶劑，攪拌、靜止老化，過濾得到鈍化層原液；

利用噴涂的方法，將所述鈍化層原液涂布于鈍化層預設區域內，所述鈍化層原液至少覆蓋所述有源層的所述第一區域，以形成鈍化層；

在真空環境下，對所述鈍化層進行退火處理。

9.一種顯示面板的制作方法，其特征在于，包括權利要求4-8任一項所述的薄膜晶體管的制作方法。