[發明專利]表面具凸紋結構薄膜的曲面基板及其制造方法在審
| 申請號： | 201810891845.2 | 申請日： | 2018-08-07 |
| 公開（公告）號： | CN110824844A | 公開（公告）日： | 2020-02-21 |
| 發明（設計）人： | 翁沛喜;許銘案 | 申請（專利權）人： | 許銘案;翁沛喜 |
| 主分類號： | G03F7/09 | 分類號： | G03F7/09;G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228 | 代理人： | 程殿軍 |
| 地址： | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 表面 具凸紋 結構 薄膜 曲面 及其 制造 方法 | ||
1.一種表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，包含：
形成一光阻層于一曲面基板上；
以激光直寫影像方式于該光阻層進行曝光、固化，以形成至少一圖案；及
對該光阻層進行顯影，以去除未被曝光的該光阻層的部分而使該曲面基板形成具有該至少一圖案的該光阻層。
2.如權利要求1所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，還包括：
于具有該至少一圖案的該光阻層上形成一保護膜。
3.如權利要求2所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，該保護膜為：一碳化硅薄膜層、一氮化硼薄膜層、一氧化硅薄膜層、一氧化鋁薄膜層或一氧化鋯薄膜層。
4.如權利要求1所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，該曲面基板選自下列基板之一：一玻璃曲面基板、一藍寶石曲面基板、一陶瓷曲面基板、一塑膠曲面基板與一高分子復合材料曲面基板。
5.如權利要求1所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，該曲面基板選自下列基板之一：一透明玻璃曲面基板、一透明藍寶石曲面基板、一透明陶瓷曲面基板、一透明塑膠曲面基板與一透明高分子復合材料曲面基板。
6.如權利要求1所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，該圖案的解析度介于0.1-100微米之間。
7.如權利要求1所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，該圖案的解析度介于0.5-100微米之間。
8.如權利要求1所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，該圖案的解析度介于1-100微米之間。
9.如權利要求1所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，該至少一圖案的厚度介于0.1-100微米之間。
10.如權利要求1所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，該激光直寫影像方式的激光源選自：激光二極體、固態激光、氣體激光、準分子激光、飛秒激光與皮秒激光之一。
11.如權利要求10所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，該激光源的波長介于250-450納米之間。
12.如權利要求10所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，該激光源的波長介于300-450納米之間。
13.一種運用權利要求1所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板，其特征在于：一曲面基板，該曲面基板的表面具有一凸紋結構薄膜，且該凸紋結構薄膜的圖案的解析度介于0.1-100微米之間。
14.如權利要求13所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板，其特征在于，該圖案的解析度更介于0.5-100微米之間。
15.如權利要求13所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板，其特征在于，該圖案的解析度更介于1-100微米之間。
16.如權利要求13所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板，其特征在于，該曲面基板選自下列基板之一：一玻璃曲面基板、一藍寶石曲面基板、一陶瓷曲面基板、一塑膠曲面基板與一高分子復合材料曲面基板。
17.如權利要求13所述的表面具凸紋結構薄膜的曲面基板，其特征在于，該曲面基板選自下列基板之一：一透明玻璃曲面基板、一透明藍寶石曲面基板、一透明陶瓷曲面基板、一透明塑膠曲面基板與一透明高分子復合材料曲面基板。
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