[發(fā)明專利]量子點(diǎn)膜及其制備方法、背光模組及顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810890335.3
• 申請(qǐng)日: 2018-08-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109061941B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-01-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 尤楊;趙合彬;楊瑞智;王瑞勇;吳俊;呂振華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/13357
• 分類號(hào): G02F1/13357
• 代理公司: 北京三高永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138
• 代理人: 楊廣宇

本發(fā)明提供了一種量子點(diǎn)膜及其制備方法、背光模組及顯示裝置，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。所述量子點(diǎn)膜包括：第一阻隔層，設(shè)置在第一阻隔層上的量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)和隔離結(jié)構(gòu)，以及設(shè)置在量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)和隔離結(jié)構(gòu)上的第二阻隔層；其中，隔離結(jié)構(gòu)包圍至少一部分量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)。本發(fā)明解決了環(huán)境中的水分和氧氣進(jìn)入量子點(diǎn)膜后影響量子點(diǎn)膜的正常使用的問(wèn)題。本發(fā)明用于制造量子點(diǎn)膜。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種量子點(diǎn)膜及其制備方法、背光模組及顯示裝置。

背景技術(shù)

隨著科技的發(fā)展，顯示裝置的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，顯示裝置中通常包括背光模組。

背光模組通常包括背光源、導(dǎo)光板、量子點(diǎn)膜以及棱鏡膜，量子點(diǎn)膜包括相對(duì)設(shè)置的第一阻隔層和第二阻隔層，以及位于第一阻隔層和第二阻隔層之間的量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)。其中，背光源位于導(dǎo)光板的一側(cè)，量子點(diǎn)膜設(shè)置在導(dǎo)光板和棱鏡膜之間，背光源發(fā)出的第一預(yù)設(shè)光線經(jīng)過(guò)導(dǎo)光板后射入量子點(diǎn)膜中的量子點(diǎn)層，該第一預(yù)設(shè)光線能夠激發(fā)量子點(diǎn)層向量子點(diǎn)膜外發(fā)出第二預(yù)設(shè)光線，并從棱鏡膜射出。

然而，相關(guān)技術(shù)中在使用背光模組的過(guò)程中，背光模組周圍環(huán)境中的水分和氧氣容易進(jìn)入量子點(diǎn)膜中量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的側(cè)邊(也即量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)中未被第一阻隔層和第二阻隔層覆蓋的部分)，影響量子點(diǎn)膜的正常使用，導(dǎo)致顯示裝置的顯示效果較差。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N量子點(diǎn)膜及其制備方法、背光模組及顯示裝置，可以解決相關(guān)技術(shù)中環(huán)境中的水分和氧氣進(jìn)入量子點(diǎn)膜后影響量子點(diǎn)膜的正常使用的問(wèn)題，所述技術(shù)方案如下：

一方面，提供了一種量子點(diǎn)膜，所述量子點(diǎn)膜包括：第一阻隔層，設(shè)置在所述第一阻隔層上的量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)和隔離結(jié)構(gòu)，以及設(shè)置在所述量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)和所述隔離結(jié)構(gòu)上的第二阻隔層；其中，所述隔離結(jié)構(gòu)包圍至少一部分所述量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)。

可選的，所述隔離結(jié)構(gòu)為網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，所述網(wǎng)格結(jié)構(gòu)將所述第一阻隔層劃分為多個(gè)單元格，且所述量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)分布在所述第一阻隔層中每個(gè)單元格上。

可選的，所述網(wǎng)格結(jié)構(gòu)包圍所述多個(gè)單元格中的每個(gè)非邊緣單元格。

可選的，所述網(wǎng)格結(jié)構(gòu)由交叉的多個(gè)條狀結(jié)構(gòu)組成，且所述多個(gè)條狀結(jié)構(gòu)的寬度相同。

可選的，所述多個(gè)單元格中的所有邊緣單元格圍成環(huán)形，且所述環(huán)形的寬度大于所述條狀結(jié)構(gòu)的寬度。

可選的，所述條狀結(jié)構(gòu)的寬度小于50微米，所述環(huán)形的寬度為D，50微米≤D≤200微米。

另一方面，提供一種量子點(diǎn)膜的制備方法，所述量子點(diǎn)膜為上述的量子點(diǎn)膜，所述方法包括：

形成第一阻隔層，設(shè)置在所述第一阻隔層上的量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)和隔離結(jié)構(gòu)，以及設(shè)置在所述量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)和所述隔離結(jié)構(gòu)上的第二阻隔層；

其中，所述隔離結(jié)構(gòu)包圍至少一部分所述量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)。

可選的，所述形成第一阻隔層，設(shè)置在所述第一阻隔層上的量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)和隔離結(jié)構(gòu)，以及設(shè)置在所述量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)和所述隔離結(jié)構(gòu)上的第二阻隔層，包括：

制造初始結(jié)構(gòu)，所述初始結(jié)構(gòu)包括相對(duì)設(shè)置的第一阻隔層和第二阻隔層，以及位于所述第一阻隔層和所述第二阻隔層之間的混合層，所述混合層包括：量子點(diǎn)和光聚合粒子；

采用紫外光照射所述初始結(jié)構(gòu)中混合層的部分區(qū)域，以使得所述部分區(qū)域中的光聚合粒子發(fā)生光聚合反應(yīng)以形成隔離結(jié)構(gòu)，以及所述混合層中除所述部分區(qū)域中的光聚合粒子之外的部分形成量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)，且所述隔離結(jié)構(gòu)包圍至少一部分所述量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)。

又一方面，提供一種背光模組，所述背光模組包括上述的量子點(diǎn)膜。

再一方面，提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括上述背光模組。