[發明專利]量子點膜及其制備方法、背光模組及顯示裝置

有效

• 申請號: 201810890335.3
• 申請日: 2018-08-07
• 公開（公告）號: CN109061941B
• 公開（公告）日: 2022-01-18
• 發明（設計）人: 尤楊;趙合彬;楊瑞智;王瑞勇;吳俊;呂振華
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/13357
• 分類號: G02F1/13357
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 楊廣宇

1.一種量子點膜，其特征在于，所述量子點膜包括：第一阻隔層，設置在所述第一阻隔層上的量子點結構和隔離結構，以及設置在所述量子點結構和所述隔離結構上的第二阻隔層，所述隔離結構為光聚合粒子發生光聚合反應形成，所述隔離結構被配置為隔離所述量子點膜周圍環境中的水分和氧氣；

其中，所述隔離結構包圍至少一部分所述量子點結構；

所述隔離結構為網格結構，所述網格結構將所述第一阻隔層劃分為多個單元格，且所述量子點結構分布在所述第一阻隔層中每個單元格上，所述多個單元格包括邊緣單元格和非邊緣單元格，所述網格結構包圍所述多個單元格中的每個所述非邊緣單元格；

所述網格結構由交叉的多個條狀結構組成，且所述多個條狀結構的寬度相同；

所述多個單元格中的所有邊緣單元格圍成環形，且所述環形的寬度大于所述條狀結構的寬度，所述環形的寬度小于或等于顯示裝置的邊框的寬度。

2.根據權利要求1所述的量子點膜，其特征在于，所述條狀結構的寬度小于50微米，所述環形的寬度為D，50微米≤D≤200微米。

3.一種量子點膜的制備方法，其特征在于，所述量子點膜為權利要求1或2所述的量子點膜，所述方法包括：

形成第一阻隔層，設置在所述第一阻隔層上的量子點結構和隔離結構，以及設置在所述量子點結構和所述隔離結構上的第二阻隔層，所述隔離結構為光聚合粒子發生光聚合反應形成，所述隔離結構被配置為隔離所述量子點膜周圍環境中的水分和氧氣；

其中，所述隔離結構包圍至少一部分所述量子點結構；

所述隔離結構為網格結構，所述網格結構將所述第一阻隔層劃分為多個單元格，且所述量子點結構分布在所述第一阻隔層中每個單元格上，所述多個單元格包括邊緣單元格和非邊緣單元格，所述網格結構包圍所述多個單元格中的每個所述非邊緣單元格；所述網格結構由交叉的多個條狀結構組成，且所述多個條狀結構的寬度相同；所述多個單元格中的所有邊緣單元格圍成環形，且所述環形的寬度大于所述條狀結構的寬度，所述環形的寬度小于或等于顯示裝置的邊框的寬度。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述形成第一阻隔層，設置在所述第一阻隔層上的量子點結構和隔離結構，以及設置在所述量子點結構和所述隔離結構上的第二阻隔層，所述隔離結構為光聚合粒子發生光聚合反應形成，包括：

制造初始結構，所述初始結構包括相對設置的第一阻隔層和第二阻隔層，以及位于所述第一阻隔層和所述第二阻隔層之間的混合層，所述混合層包括：量子點和光聚合粒子；

采用紫外光照射所述初始結構中混合層的部分區域，以使得所述部分區域中的光聚合粒子發生光聚合反應以形成隔離結構，以及所述混合層中除所述部分區域中的光聚合粒子之外的部分形成量子點結構，且所述隔離結構包圍至少一部分所述量子點結構。

5.一種背光模組，其特征在于，所述背光模組包括權利要求1或2所述的量子點膜。

6.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括權利要求5所述的背光模組。