[發明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法

有效

• 申請號: 201810862693.3
• 申請日: 2015-09-30
• 公開（公告）號: CN109107971B
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: S·斯瓦特;S·潘尼
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社;HOYA玻璃磁盤（泰國）公司
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04;G11B5/84;C03C23/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 龐東成

1.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，其包括所述玻璃基板的表面的清洗處理、和在所述清洗處理后使所述表面干燥的干燥處理，

所述干燥處理為如下的處理：將所述玻璃基板配置于包含沸點低于水的水溶性溶劑和水的第2液體的蒸氣中，一邊在所述玻璃基板的表面形成液滴，一邊使所述玻璃基板的液滴的至少一部分從所述玻璃基板滴下，并且使所述玻璃基板干燥，

所述第2液體包含所述水溶性溶劑作為主要成分，并包含超過1.0重量％且小于3.0重量％的所述水。

2.如權利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其中，所述清洗處理包括將所述玻璃基板浸漬到第1液體中的第1液體處理，該第1液體包含沸點低于水的水溶性溶劑和水。

3.如權利要求2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其中，所述第1液體的水的含量為3.0重量％以上。

4.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，其包括所述玻璃基板的表面的清洗處理、和在所述清洗處理后使所述表面干燥的干燥處理，

所述清洗處理包括將所述玻璃基板浸漬到第1液體中的第1液體處理，該第1液體包含沸點低于水的水溶性溶劑和水，

所述第1液體包含所述水溶性溶劑作為主要成分，并包含5.0重量％以上的所述水。

5.如權利要求4所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其中，所述干燥處理為如下的處理：將所述玻璃基板配置于包含沸點低于水的水溶性溶劑和水的第2液體的蒸氣中，一邊在所述玻璃基板的表面形成液滴，一邊使所述玻璃基板的液滴的至少一部分從所述玻璃基板滴下，并且使所述玻璃基板干燥。

6.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，其包括玻璃基板的表面的清洗處理、和在所述清洗處理后使所述表面干燥的干燥處理，

所述清洗處理包括將所述玻璃基板浸漬到第1液體中的第1液體處理，該第1液體包含沸點低于水的水溶性溶劑和水，

所述干燥處理為如下的處理：將所述玻璃基板配置于包含沸點低于水的水溶性溶劑和水的第2液體的蒸氣中，一邊在所述玻璃基板的表面形成液滴，一邊使所述玻璃基板的液滴的至少一部分從所述玻璃基板滴下，并且使所述玻璃基板干燥，

所述第2液體的水的含量低于所述第1液體的水的含量。

7.如權利要求2～6中任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其中，

所述清洗處理包括將所述玻璃基板浸漬到水中從而對所述表面進行清洗的水處理，

按照所述水處理、所述第1液體處理以及所述干燥處理的順序來對所述玻璃基板進行處理。

8.如權利要求1～7中任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其中，

所述水溶性溶劑為異丙醇。

9.一種磁盤的制造方法，其特征在于，在由權利要求1～8中任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法得到的磁盤用玻璃基板的表面至少進行磁性膜的成膜。

10.一種清洗裝置，其是玻璃基板的清洗裝置，其特征在于，

該清洗裝置具備：

清洗槽，其對所述玻璃基板進行清洗；和

干燥處理槽，其具備第2液體和處于所述第2液體的上方并包含所述第2液體的蒸氣的空間，所述第2液體包含沸點低于水的水溶性溶劑和水，

所述干燥處理槽如下構成：將所述玻璃基板配置于包含沸點低于水的水溶性溶劑和水的第2液體的蒸氣中，一邊在所述玻璃基板的表面形成液滴，一邊使所述玻璃基板的液滴的至少一部分從所述玻璃基板滴下，并且使所述玻璃基板干燥，

所述第2液體包含所述水溶性溶劑作為主要成分，并包含超過1.0重量％且小于3.0重量％的所述水。

11.如權利要求10所述的清洗裝置，其中，所述清洗槽存儲包含沸點低于水的水溶性溶劑和水的第1液體，該第1液體用于浸漬所述玻璃基板。