[發明專利]掩膜版及其制作方法以及顯示裝置

在審

• 申請號: 201810860496.8
• 申請日: 2018-08-01
• 公開（公告）號: CN109097727A
• 公開（公告）日: 2018-12-28
• 發明（設計）人: 王慧娟;曲連杰;董學;徐婉嫻;尤楊
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;H01L51/56
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 趙天月

1.一種制作掩膜版的方法，其特征在于，包括：

在基板的一個表面上形成第一凸起部或者第一凹陷部，以便得到第一模板；

利用第一模板制作得到金屬模板，所述金屬模板的一個表面上具有第二凸起部，所述第二凸起部的形狀與所述第一凸起部的形狀一致或者與所述第一凹陷部相匹配；

利用所述金屬模板制作得到有機層，所述有機層中含有通孔，所述通孔與所述第二凸起部相匹配；

在所述有機層的一個表面上形成第一金屬層。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一模板的一個表面上具有所述第一凹陷部，且所述利用第一模板制作得到金屬模板包括：

在所述第一模板具有所述第一凹陷部的表面上形成第二金屬層；

去除所述第一模板，得到所述金屬模板。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一模板的一個表面上具有所述第一凸起部，且所述利用第一模板制作得到金屬模板包括：

在所述第一模板具有所述第一凸起部的表面上形成聚合物層，然后去除所述第一模板，得到過渡膜層，所述過渡膜層的一個表面上具有第二凹陷部，所述第二凹陷部與所述第一凸起部相匹配；

在所述過渡膜層具有所述第二凹陷部的表面上形成第二金屬層；

去除所述過渡膜層，得到所述金屬模板。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一模板的一個表面上具有所述第一凸起部，且所述利用第一模板制作得到金屬模板包括：

在所述第一模板具有所述第一凸起部的表面上形成第二金屬層；

去除所述第一模板，得到所述金屬模板。

5.根據權利要求1-4任一項所述的方法，其特征在于，所述第一凹陷部或所述第一凸起部是通過干法刻蝕或者鐳雕的方式形成的；

所述有機層是通過注塑或者澆注的方式形成的；

所述第一金屬層是通過蒸鍍、濺射的方式形成的。

6.根據權利要求1-4任一項所述的方法，其特征在于，所述金屬模板的厚度為5-20mm。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一金屬層的厚度為1-20微米。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述第一金屬層的材料包括鎳和鐵鎳合金中的至少之一。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述有機層的厚度為5-50微米。

10.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述通孔的直徑為2-30微米。

11.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述通孔的側壁與所述通孔的中心軸之間的距離從下至上逐漸減小。

12.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述通孔的側壁與所述有機層的下表面所處平面之間的銳角夾角小于85°。

13.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述有機層的材料包括聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯中的至少之一。

14.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述基板的材料包括半導體。

15.一種掩膜版，其特征在于，是通過權利要求1-14中任一項所述的方法制作得到的。

16.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置中的OLED器件是利用權利要求15所述的掩膜版制作得到的。