[發明專利]電磁屏蔽膜、線路板及電磁屏蔽膜的制備方法在審
| 申請號: | 201810847390.4 | 申請日: | 2018-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN110769586A | 公開(公告)日: | 2020-02-07 |
| 發明(設計)人: | 蘇陟 | 申請(專利權)人: | 廣州方邦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H05K1/02 | 分類號: | H05K1/02;H05K9/00 |
| 代理公司: | 44202 廣州三環專利商標代理有限公司 | 代理人: | 梁順宜;郝傳鑫 |
| 地址: | 510530 廣東省廣州市廣州高*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 樹脂 第一屏蔽層 凸起 樹脂膜層 膠膜層 電磁屏蔽膜 凸起部 通孔 線路板 屏蔽功能 電荷 刺穿 導出 地層 伸入 壓合 制備 凝固 保證 覆蓋 | ||
本發明實施例提供了一種電磁屏蔽膜、線路板及電磁屏蔽膜的制備方法,其中,電磁屏蔽膜包括樹脂膜層、第一屏蔽層和膠膜層,樹脂膜層上設有第一通孔,第一通孔處設有樹脂凸起,樹脂凸起由樹脂從第一通孔的一側流至另一側后凝固形成;第一屏蔽層設于樹脂膜層靠近樹脂凸起的一側,并覆蓋樹脂凸起,從而在第一屏蔽層的外表面與樹脂凸起對應的位置形成凸起部;膠膜層設于第一屏蔽層遠離樹脂膜層的一側,凸起部伸入膠膜層,使得凸起部在壓合的過程中保證第一屏蔽層能夠順利地刺穿膠膜層,與線路板地層接觸,進而保證干擾電荷正常導出,實現屏蔽功能。
技術領域
本發明涉及電子領域,尤其涉及一種電磁屏蔽膜、線路板及電磁屏蔽膜的 制備方法。
背景技術
隨著電子工業的迅速發展,電子產品進一步向小型化,輕量化,組裝高密 度化發展,極大地推動撓性電路板的發展,從而實現元件裝置和導線連接一體 化。撓性電路板可廣泛應用于手機、液晶顯示、通信和航天等行業。
在國際市場的推動下,功能撓性電路板在撓性電路板市場中占主導地位, 而評價功能撓性電路板性能的一項重要指標是電磁屏蔽((Electromagnetic InterferenceShielding,簡稱EMI Shielding)。隨著手機等通訊設備功能的整合, 其內部組件急劇高頻高速化。例如:手機功能除了原有的音頻傳播功能外,照 相功能已成為必要功能,且WLAN(Wireless Local Area Networks,無線局域網)、 GPS(Global Positioning System,全球定位系統)以及上網功能已普及,再加上 未來的感測組件的整合,組件急劇高頻高速化的趨勢更加不可避免。在高頻及 高速化的驅動下所引發的組件內部及外部的電磁干擾、信號在傳輸中衰減以及 插入損耗和抖動問題逐漸嚴重。
目前,現有線路板常用的屏蔽膜包括屏蔽層和導電膠層,通過導電膠層將 屏蔽層與線路板地層連接,進而將干擾電荷導入線路板地層,實現屏蔽。但是 在高溫時,由于導電膠層膨脹,使得導電膠層內原本互相接觸的導電粒子拉開 或是將原本與線路板地層相接觸的導電粒子拉開,導致接地失效,不能將干擾 電荷迅速導出,無法實現屏蔽功能。
發明內容
本發明實施例的目的是提供一種電磁屏蔽膜、線路板及電磁屏蔽膜的制備 方法,能夠實現屏蔽膜與線路板地層可靠連接,進而實現高可靠性的屏蔽功能。
為實現上述目的,本發明實施例提供了一種電磁屏蔽膜,包括樹脂膜層、 第一屏蔽層和膠膜層,所述樹脂膜層上設有貫穿其上下表面的第一通孔,所述 第一通孔設有樹脂凸起,所述樹脂凸起由樹脂從所述第一通孔的一側流至另一 側后凝固形成;所述第一屏蔽層設于所述樹脂膜層靠近所述樹脂凸起的一側, 并覆蓋所述樹脂凸起,從而在所述第一屏蔽層的外表面與所述樹脂凸起對應的 位置形成凸起部;所述膠膜層設于所述第一屏蔽層遠離所述樹脂膜層的一側, 所述凸起部伸入所述膠膜層。
作為上述方案的改進,所述樹脂凸起由樹脂在常溫下從所述第一通孔的一 側流至另一側后,在固化溫度下凝固形成;或,
所述樹脂凸起由樹脂在熔化溫度下從所述第一通孔的一側流至另一側后, 經瞬間冷卻形成。
作為上述方案的改進,所述凸起部的表面設有凸狀的導體顆粒;所述導體 顆粒的高度為0.1μm-30μm。
作為上述方案的改進,所述膠膜層包括含有導電粒子的黏著層;或,所述 膠膜層包括不含導電粒子的黏著層。
作為上述方案的改進,所述第一屏蔽層分別包括金屬屏蔽層、碳納米管屏 蔽層、鐵氧體屏蔽層和石墨烯屏蔽層中的一種或多種。
作為上述方案的改進,,所述金屬屏蔽層包括單金屬屏蔽層和/或合金屏蔽 層;其中,所述單金屬屏蔽層由鋁、鈦、鋅、鐵、鎳、鉻、鈷、銅、銀和金中 的任意一種材料制成,所述合金屏蔽層由鋁、鈦、鋅、鐵、鎳、鉻、鈷、銅、 銀和金中的任意兩種或兩種以上的材料制成。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣州方邦電子股份有限公司,未經廣州方邦電子股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810847390.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:表面波等離子體裝置
- 下一篇:電磁屏蔽膜、線路板及電磁屏蔽膜的制備方法





