[發明專利]偏振膜的攝像裝置、檢查裝置以及檢查方法有效
| 申請號: | 201810846121.6 | 申請日: | 2018-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN109324063B | 公開(公告)日: | 2022-09-09 |
| 發明(設計)人: | 佐佐木俊介;末廣一郎;柴田秀平;大衛·伊格·塞拉諾·加西亞;大谷幸利 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社;國立大學法人宇都宮大學 |
| 主分類號: | G01N21/95 | 分類號: | G01N21/95 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 偏振 攝像 裝置 檢查 以及 方法 | ||
本發明提供一種偏振膜的攝像裝置、檢查裝置以及檢查方法,所述偏振膜的攝像裝置具備:光源,其向成為檢查對象的偏振膜照射光;以及攝像部,其在該光源的光軸上且與所述光源相反的一側以朝向所述偏振膜的方式配置,該偏振膜的攝像裝置還具備配置在所述光源與所述偏振膜之間的圓偏振片、以及配置在所述偏振膜與所述攝像部之間的波片中的至少任一方。
技術領域
本發明涉及一種拍攝偏振膜的偏振特性的攝像裝置、具備該攝像裝置的檢查裝置、以及使用該攝像裝置的檢查方法。
背景技術
自以往以來,提供一種用于檢查使偏振為特定的方向的光通過的偏振膜的檢查裝置。在該檢查裝置中組入有拍攝偏振膜的偏振特性的攝像裝置。
例如,專利文獻1公開的檢查裝置(缺陷檢測裝置)中所組入的攝像裝置具備向偏振膜照射光的光源2、在來自光源2的光的光路上以與光源2夾著偏振膜排列的方式配置并且構成為拍攝偏振膜的透過光的攝像部、能夠在所述光路上的偏振膜與攝像部之間變更配置的偏振濾波片和相位差濾波片。
根據所述攝像裝置,根據要檢查的偏振膜來改變偏振濾波片、相位差濾波片的配置,由此能夠構建適于偏振膜的攝像的攝像環境。
專利文獻1:日本特開2007-212442號公報
發明內容
然而,有時通過偏振膜中的產生了缺陷的區域的光的偏振特性相對于通過了偏振膜中的缺陷周圍的區域(即沒有缺陷的區域)的光的偏振特性只產生些微的差異。因此,在所述攝像裝置中,偏振膜的缺陷難以映現在圖像中,有時導致缺陷的漏檢測。
因此,本發明鑒于該實際情況,其課題在于提供一種能夠得到增強了偏振膜的缺陷的圖像的攝像裝置、具備該攝像裝置的檢查裝置、以及使用該攝像裝置的檢查方法。
本發明的偏振膜的攝像裝置具備:光源,其用于朝向成為檢查對象的偏振膜照射光;以及攝像部,其在該光源的光軸上且在相對于所述偏振膜與所述光源相反的一側以朝向所述偏振膜的方式配置,該偏振膜的攝像裝置還具備配置在所述光源與所述偏振膜之間的圓偏振片、以及配置在所述偏振膜與所述攝像部之間的波片中的至少任一方。
在本發明的攝像裝置中,也可以是,所述波片構成為使入射光的相位偏移四分之一波長。
在本發明的攝像裝置中,也可以是,所述偏振膜以相對于所述光軸傾斜的狀態配置。
在本發明的攝像裝置中,也可以是,所述光源的光的波長為400nm~500nm、或700nm~1000nm。
本發明的偏振膜的檢查裝置具備:上述任一攝像裝置;以及缺陷檢測部,其檢測映現在由該攝像裝置拍攝到的偏振膜的圖像中的該偏振膜的缺陷。
本發明的偏振膜的檢查方法利用上述任一攝像裝置拍攝偏振膜,并且檢測映現在由該攝像裝置拍攝到的圖像中的該偏振膜的缺陷。
附圖說明
圖1是本發明的一個實施方式所涉及的偏振膜的攝像裝置的框圖。
圖2是該實施方式所涉及的偏振膜的攝像裝置的解析部的框圖。
圖3是本發明的其它實施方式所涉及的偏振膜的攝像裝置的框圖。
圖4是由該實施方式所涉及的偏振膜的攝像裝置拍攝到的圖像的圖像圖。
圖5是本發明的另一實施方式所涉及的偏振膜的攝像裝置的框圖。
圖6是由該實施方式所涉及的偏振膜的攝像裝置拍攝到的圖像的圖像圖。
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