[發明專利]成膜裝置、成膜方法以及電子器件制造方法

有效

• 申請號: 201810844844.2
• 申請日: 2018-07-27
• 公開（公告）號: CN109722625B
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發明（設計）人: 石井博
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/50;H01L51/56
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 鄧宗慶

1.一種成膜裝置，用于通過掩模將蒸鍍材料成膜于基板，其中，所述成膜裝置包括：

真空腔，所述真空腔定義進行蒸鍍工序的空間；

基板保持單元，所述基板保持單元設置在所述真空腔內，用于保持并輸送基板；

冷卻板，所述冷卻板在所述真空腔內設置在所述基板保持單元的基板支承部上，用于冷卻基板；

對準臺，所述對準臺設置在所述真空腔的第一外部面上，用于使所述基板保持單元在第一方向以及與第一方向交叉的第二方向上移動或繞以與所述第一方向以及所述第二方向交叉的第三方向為軸的旋轉方向旋轉；以及

冷卻板第三方向驅動機構，所述冷卻板第三方向驅動機構從所述對準臺分離而獨立地設置在所述真空腔的所述第一外部面上，使所述冷卻板在所述第三方向上移動，并且不在所述第一方向、所述第二方向和所述旋轉方向上移動。

2.如權利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述冷卻板第三方向驅動機構以在所述第一方向、所述第二方向以及所述旋轉方向上被固定的方式設置在所述真空腔的所述第一外部面上。

3.如權利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述對準臺包括第一基體板，所述第一基體板以在所述第一方向以及所述第二方向上能夠移動且能夠繞所述旋轉方向旋轉的方式設置在所述真空腔的所述第一外部面上。

4.如權利要求2所述的成膜裝置，其中，

所述冷卻板第三方向驅動機構包括第二基體板，所述第二基體板以在所述第一方向、所述第二方向以及所述旋轉方向上被固定的方式設置在所述真空腔的所述第一外部面上。

5.如權利要求3所述的成膜裝置，其中，

所述成膜裝置還包括基板第三方向驅動機構，所述基板第三方向驅動機構設置在所述第一基體板上，用于在所述第三方向上驅動所述基板保持單元。

6.如權利要求3所述的成膜裝置，其中，

所述成膜裝置還包括掩模保持單元和掩模第三方向驅動機構，所述掩模保持單元用于保持并輸送掩模，所述掩模第三方向驅動機構設置在所述第一基體板上，用于在所述第三方向上驅動所述掩模保持單元。

7.如權利要求6所述的成膜裝置，其中，

所述冷卻板第三方向驅動機構在所述第三方向上將用于對掩模施加磁力的磁鐵板與所述冷卻板一起驅動。

8.如權利要求7所述的成膜裝置，其中，

在所述冷卻板的下部設置對準標記板，所述對準標記板形成有用于所述冷卻板和所述掩模保持單元所保持的掩模在所述第一方向、所述第二方向以及所述旋轉方向上的位置調整的對準標記。

9.如權利要求8所述的成膜裝置，其中，

形成于所述對準標記板的所述對準標記是形成于所述對準標記板的開口。

10.如權利要求7所述的成膜裝置，其中，

在所述磁鐵板的上部設置對準標記板，所述對準標記板用于所述磁鐵板和所述掩模保持單元所保持的掩模在所述第一方向、所述第二方向以及所述旋轉方向上的位置調整。

11.如權利要求10所述的成膜裝置，其中，

形成于所述對準標記板的所述對準標記是形成于所述對準標記板的開口。

12.如權利要求3所述的成膜裝置，其中，

所述成膜裝置還包括：固定在所述真空腔的所述第一外部面上的第一電機、以及將來自所述第一電機的驅動力傳遞到所述第一基體板的第一驅動力傳遞機構。

13.如權利要求4所述的成膜裝置，其中，

所述冷卻板第三方向驅動機構還包括：產生用于在所述第三方向上驅動冷卻板的驅動力的第二電機、以及用于將來自所述第二電機的驅動力傳遞到冷卻板的第二驅動力傳遞機構。