[發(fā)明專利]濾除圖形匹配度誤報錯的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810840252.3
• 申請日: 2018-07-27
• 公開（公告）號: CN109190159B
• 公開（公告）日: 2023-04-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 顧婷婷;陳翰;張辰明
• 申請（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G06F30/39
• 分類號: G06F30/39
• 代理公司: 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211
• 代理人: 欒美潔

1.一種濾除圖形匹配度誤報錯的方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1，利用PM技術(shù)進行SRAM圖形匹配度檢查，輸出匹配區(qū)域；

步驟2，在匹配區(qū)域中設(shè)置檢查區(qū)域；

步驟3，檢查區(qū)域去除矩形結(jié)構(gòu)的匹配區(qū)域形成中間圖形temp1；

步驟4，檢查區(qū)域去除所有匹配區(qū)域形成中間圖形temp2；

步驟5，檢查區(qū)域去除所有匹配區(qū)域的延伸圖形形成中間圖形temp3，所述延伸圖形是將匹配區(qū)域內(nèi)的空白全部填充并沿著圖形所在最大邊界填充成的矩形圖形；

步驟6，中間圖形temp1與中間圖形temp2進行異或運算形成中間圖形temp4；

步驟7，中間圖形temp2與中間圖形temp4有共同邊的圖形形成中間圖形temp5；

步驟8，中間圖形temp5去除中間圖形temp3形成需要人工審核的第一類圖形；

步驟9，在中間圖形temp2中選取需要人工審核的第二類圖形，所述第二類圖形為中間圖形temp2中寬度大于溝道免檢范圍b的圖形；

步驟10，步驟8形成的第一類圖形和步驟9形成的第二類圖形的合集為最終需進一步檢查的圖形。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾除圖形匹配度誤報錯的方法，其特征在于，在步驟2中，所述檢查區(qū)域的各邊界與匹配區(qū)域的相鄰邊界之間的間距為1μm～3μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾除圖形匹配度誤報錯的方法，其特征在于，所述溝道免檢范圍b的取值范圍為1.5μm～3.5μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾除圖形匹配度誤報錯的方法，其特征在于，在步驟1中，所述匹配區(qū)域是由一個個匹配成功的矩形圖形連接而成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濾除圖形匹配度誤報錯的方法，其特征在于，所述匹配區(qū)域包括矩形區(qū)域和/或非矩形區(qū)域。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濾除圖形匹配度誤報錯的方法，其特征在于，所述非矩形區(qū)域中的不匹配圖形為設(shè)定好的匹配單元尺寸或多個匹配單元的組合結(jié)構(gòu)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的濾除圖形匹配度誤報錯的方法，其特征在于，所述匹配單元是以設(shè)定好的矩形結(jié)構(gòu)尺寸為準。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾除圖形匹配度誤報錯的方法，其特征在于，步驟1進一步包括：

步驟S11，在整體版圖中選取SRAM區(qū)域；

步驟S12，在SRAM區(qū)域中設(shè)定進行圖形匹配度檢查的檢查區(qū)域；

步驟S13，對檢查區(qū)域進行圖形匹配度檢查，輸出匹配區(qū)域。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濾除圖形匹配度誤報錯的方法，其特征在于，在步驟S12中，檢查區(qū)域的各邊界與SRAM區(qū)域的相鄰邊界之間的間距為1μm～3μm。