[發(fā)明專利]片材、金屬網(wǎng)、配線基板、顯示裝置及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810838096.7 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109306479B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-09-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 折笠誠(chéng);堀川雄平;上林義廣;阿部壽之 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | TDK株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C23C18/16 | 分類號(hào): | C23C18/16;C23C18/20;C23C18/31;G09F9/33 |
| 代理公司: | 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 楊琦;陳明霞 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬網(wǎng) 配線基板 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
1.一種片材,其特征在于:
具備:
樹(shù)脂層,其包含粘結(jié)劑以及多個(gè)催化劑顆粒;
非電解鍍膜,其被設(shè)置于所述樹(shù)脂層的一個(gè)主面?zhèn)炔⒕哂械?非電解鍍膜以及第2非電解鍍膜;以及
基材,其被設(shè)置于所述樹(shù)脂層的另一個(gè)主面?zhèn)龋?/p>
多個(gè)所述催化劑顆粒的至少一部分具有從所述樹(shù)脂層的所述一個(gè)主面露出的露出面,且多個(gè)所述露出面分散于所述樹(shù)脂層的所述一個(gè)主面上,
所述第1非電解鍍膜以分別圍繞所述催化劑顆粒的多個(gè)所述露出面的方式被設(shè)置于所述樹(shù)脂層的所述一個(gè)主面上,
在從所述非電解鍍膜側(cè)俯視所述樹(shù)脂層的所述一個(gè)主面時(shí),所述第1非電解鍍膜的最長(zhǎng)直徑的平均值為18~90nm,所述第1非電解鍍膜占所述一個(gè)主面的面積比率為80~99%,
所述第2非電解鍍膜以覆蓋所述第1非電解鍍膜的方式被設(shè)置,并且所述第2非電解鍍膜的所述第1非電解鍍膜側(cè)的主面形成沿著所述第1非電解鍍膜的表面的凹部,
所述催化劑顆粒為包含選自鈀、銀、鉑、金、鎳、銅以及這些金屬的化合物中的至少1種的金屬顆粒,
所述第1非電解鍍膜以及所述第2非電解鍍膜包含互相相同或者不同種類的金屬或者金屬化合物。
2.如權(quán)利要求1所述的片材,其特征在于:
所述第2非電解鍍膜的與所述第1非電解鍍膜相反側(cè)的主面為粗糙面。
3.如權(quán)利要求1或2所述的片材,其特征在于:
所述基材為透明基材。
4.一種片材的制造方法,其特征在于:
具備:
將包含粘結(jié)劑以及多個(gè)催化劑顆粒的樹(shù)脂層形成于基材上的工序,即,多個(gè)所述催化劑顆粒的至少一部分具有從所述樹(shù)脂層的一個(gè)主面露出的露出面且多個(gè)所述露出面分散于所述樹(shù)脂層的所述一個(gè)主面上,并且所述基材被設(shè)置于所述樹(shù)脂層的另一個(gè)主面?zhèn)鹊墓ば颍?/p>
以分別圍繞多個(gè)所述露出面的方式在所述樹(shù)脂層的所述一個(gè)主面上形成第1非電解鍍膜的工序,其中,在從所述非電解鍍膜側(cè)俯視所述樹(shù)脂層的所述一個(gè)主面時(shí),所述第1非電解鍍膜的最長(zhǎng)直徑的平均值為18~90nm,所述第1非電解鍍膜占所述一個(gè)主面的面積比率為80~99%;以及
以覆蓋所述第1非電解鍍膜的方式形成第2非電解鍍膜的工序,即,所述第2非電解鍍膜的所述第1非電解鍍膜側(cè)的主面形成沿著所述第1非電解鍍膜表面的凹部的工序,
所述催化劑顆粒為包含選自鈀、銀、鉑、金、鎳、銅以及這些金屬的化合物中的至少1種的金屬顆粒,
所述第1非電解鍍膜以及所述第2非電解鍍膜包含互相相同或者不同種類的金屬或者金屬化合物。
5.一種金屬網(wǎng)的制造方法,其特征在于:
具備通過(guò)對(duì)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的片材上的所述非電解鍍膜進(jìn)行刻蝕而形成具有網(wǎng)狀圖案的非電解鍍膜的工序。
6.一種配線基板的制造方法,其特征在于:
具備通過(guò)對(duì)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的片材上的所述非電解鍍膜進(jìn)行刻蝕而形成具有配線圖案的非電解鍍膜的工序。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過(guò)液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無(wú)電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無(wú)電流化學(xué)鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預(yù)處理





