[發明專利]一種掩膜版、顯示基板及其制作方法和顯示裝置有效
| 申請號： | 201810835651.0 | 申請日： | 2018-07-26 |
| 公開（公告）號： | CN108919569B | 公開（公告）日： | 2022-08-05 |
| 發明（設計）人： | 杜宏偉;李圭鉉;陳都 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1339 | 分類號： | G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人： | 許靜;賈玉 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 掩膜版 顯示 及其 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種掩膜版，用于制作顯示基板上的柱狀隔墊物，其特征在于，所述掩膜版包括遮光層，所述遮光層包括遮光圖形和由所述遮光圖形包圍的多個開口圖形，在垂直于所述掩膜版平面的方向上，所述開口圖形的截面呈倒梯形，所述倒梯形不是直角梯形；
所述掩膜版還包括透明襯底，所述遮光層設置于所述透明襯底上，制作柱狀隔墊物的光線先經過透明襯底，后經過遮光層，遮光層包括三層遮光膜，最靠近透明襯底的一層遮光膜采用鉻形成，位于中間的一層遮光膜采用鉻的氮化物形成，最遠離透明襯底的一層遮光膜采用鉻的氧化物形成。
2.如權利要求1所述的掩膜版，其特征在于，在設定刻蝕條件下，從靠近所述透明襯底到遠離所述透明襯底的方向上，所述三層遮光膜的刻蝕速率逐漸變小。
3.一種掩膜版的制作方法，所述掩膜版用于制作顯示基板上的柱狀隔墊物，其特征在于，所述方法包括：
形成所述掩膜版的遮光層，所述遮光層包括遮光圖形和由所述遮光圖形包圍的多個開口圖形，在垂直于所述掩膜版平面的方向上，所述開口圖形的截面呈倒梯形，所述倒梯形不是直角梯形；
所述掩膜版還包括透明襯底，所述遮光層設置于所述透明襯底上，制作柱狀隔墊物的光線先經過透明襯底，后經過遮光層，遮光層包括三層遮光膜，最靠近透明襯底的一層遮光膜采用鉻形成，位于中間的一層遮光膜采用鉻的氮化物形成，最遠離透明襯底的一層遮光膜采用鉻的氧化物形成。
4.如權利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述形成所述掩膜版的遮光層的步驟包括：
提供一透明襯底；
在所述透明襯底上依次形成三層遮光膜，其中，在設定刻蝕條件下，從靠近所述透明襯底到遠離所述透明襯底的方向上，所述三層遮光膜的刻蝕速率逐漸變小；
在所述三層遮光膜上形成光刻膠層；
對所述光刻膠層進行構圖，形成光刻膠保留區和光刻膠去除區，所述光刻膠去除區對應所述開口圖形；
在設定刻蝕條件下，對所述光刻膠去除區的所述三層遮光膜進行刻蝕，得到所述遮光圖形和所述開口圖形；
去除剩余的光刻膠層。
5.一種顯示基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：
采用如權利要求1-2任一項所述的掩膜版制作柱狀隔墊物，所述柱狀隔墊物的頂部尺寸和底部尺寸的差值小于或等于預設閾值。
6.一種顯示基板，其特征在于，
所述顯示基板采用如權利要求5所述的顯示基板的制作方法制作而成，包括：
柱狀隔墊物，所述柱狀隔墊物的頂部尺寸和底部尺寸的差值小于或等于預設閾值。
7.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求6所述的顯示基板。
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