[發(fā)明專利]反應(yīng)腔室及半導(dǎo)體熱處理設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810834696.6
• 申請(qǐng)日: 2018-07-26
• 公開（公告）號(hào): CN110767569A
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊帥;董金衛(wèi);楊慧萍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 11112 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td>

本發(fā)明提供一種反應(yīng)腔室及半導(dǎo)體熱處理設(shè)備，包括內(nèi)爐管，套置在內(nèi)爐管外周的外爐管和進(jìn)氣管，進(jìn)氣管包括依次串接且連通的第一管部、第二管部和第三管部；第一管部的出氣端伸入設(shè)置在內(nèi)爐管上的第一通孔中，且第一管部通過(guò)第一通孔與內(nèi)爐管的內(nèi)部連通；第二管部設(shè)置在內(nèi)爐管和外爐管之間，第三管部的進(jìn)氣端通過(guò)設(shè)置在外爐管上的第二通孔延伸至外爐管的外部；第一管部與第一通孔相配合，且第三管部固定在第二通孔處，以能夠使進(jìn)氣管整體固定不動(dòng)。其可以提高進(jìn)氣管的固定穩(wěn)定性，并能夠防止進(jìn)氣管與基片發(fā)生碰撞，減少損失，且工藝氣體不會(huì)受到進(jìn)氣管自身結(jié)構(gòu)的影響，提高工藝氣體在反應(yīng)腔室內(nèi)分布的均勻性，從而提高半導(dǎo)體熱處理的工藝效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體熱處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種反應(yīng)腔室及半導(dǎo)體熱處理設(shè)備。

背景技術(shù)

目前，半導(dǎo)體熱處理設(shè)備是集成電路制造的重要工藝設(shè)備，主要包括反應(yīng)腔室及石英進(jìn)氣管，工藝氣體通過(guò)石英進(jìn)氣管進(jìn)入反應(yīng)腔室內(nèi)。石英進(jìn)氣管的出氣口位置以及其自身結(jié)構(gòu)都會(huì)影響工藝氣體的在反應(yīng)腔室內(nèi)的分布，進(jìn)而影響半導(dǎo)體熱處理的工藝效果，因此，石英進(jìn)氣管的安裝位置以及穩(wěn)定性對(duì)于半導(dǎo)體熱處理設(shè)備是非常重要的。

如圖1所示，在現(xiàn)有的一種半導(dǎo)體熱處理設(shè)備中，進(jìn)氣管11包括水平部分與豎直部分，其中，豎直部分位于反應(yīng)腔室內(nèi)，水平部分的一端與豎直部分連接，另一端穿過(guò)反應(yīng)腔室壁12，并向外延伸。工藝氣體依次通過(guò)水平部分與豎直部分進(jìn)入反應(yīng)腔室內(nèi)。并且，在反應(yīng)腔室內(nèi)，且位于豎直部分的下方還設(shè)置有支架13，該支架13具有螺紋孔13，并在該螺紋孔13中安裝有螺栓14，該螺栓14的上端與進(jìn)氣管11的水平部分抵接，以起到支撐進(jìn)氣管11的作用，并可以通過(guò)旋轉(zhuǎn)螺栓14來(lái)調(diào)整進(jìn)氣管11的位置。

在圖1所示的現(xiàn)有技術(shù)中，進(jìn)氣管11僅由螺栓14支撐，容易造成進(jìn)氣管11發(fā)生傾斜，導(dǎo)致進(jìn)氣管11的出氣口位置發(fā)生變化，從而影響工藝氣體在反應(yīng)腔室中的分布，并且螺栓14直接頂在進(jìn)氣管11的底部，容易造成進(jìn)氣管11的底壁發(fā)生破碎，而且由于進(jìn)氣管11設(shè)置在反應(yīng)腔室內(nèi)部，進(jìn)氣管11自身結(jié)構(gòu)會(huì)影響工藝氣體的氣流以及溫度的均勻性，且若進(jìn)氣管11的固定失效，進(jìn)氣管11可能會(huì)傾斜并磕碰反應(yīng)腔室內(nèi)的基片，造成嚴(yán)重?fù)p失，并且由于反應(yīng)腔室內(nèi)溫度較高，容易出現(xiàn)螺栓14與螺紋孔13卡死或者松動(dòng)影響進(jìn)氣管11的正常使用。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一，提出了一種反應(yīng)腔室及半導(dǎo)體熱處理設(shè)備，其可以提高進(jìn)氣管的固定穩(wěn)定性，并能夠防止進(jìn)氣管與基片發(fā)生碰撞，減少損失，且工藝氣體不會(huì)受到進(jìn)氣管自身結(jié)構(gòu)的影響，提高工藝氣體在反應(yīng)腔室內(nèi)分布的均勻性，從而提高半導(dǎo)體熱處理的工藝效果。

為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的而提供一種反應(yīng)腔室，包括內(nèi)爐管和套置在所述內(nèi)爐管外周的外爐管，還包括進(jìn)氣管，所述進(jìn)氣管包括依次串接且連通的第一管部、第二管部和第三管部，其中，

所述內(nèi)爐管上設(shè)置有第一通孔；所述第一管部的出氣端伸入所述第一通孔中，且所述第一管部通過(guò)所述第一通孔與所述內(nèi)爐管的內(nèi)部連通；

所述第二管部設(shè)置在所述內(nèi)爐管和外爐管之間；

所述外爐管上設(shè)置有第二通孔；所述第三管部的進(jìn)氣端通過(guò)所述第二通孔延伸至所述外爐管的外部；

所述第一管部與所述第一通孔相配合，且所述第三管部固定在所述第二通孔處，以能夠使所述進(jìn)氣管整體固定不動(dòng)。

優(yōu)選的，所述第一通孔的直徑大于或者等于所述第一管部的外徑；并且，在所述第一通孔的直徑大于所述第一管部的外徑時(shí)，所述第一管部與所述第一通孔相接觸，以限定所述第一管部的位置。

優(yōu)選的，所述第二管部與所述外爐管的內(nèi)側(cè)壁相貼合。

優(yōu)選的，所述內(nèi)爐管的管壁上沿其厚度方向貫穿形成所述第一通孔；所述外爐管的管壁上沿其厚度方向貫穿形成所述第二通孔；

所述第一管部水平設(shè)置；