[發明專利]復合襯底及其制造方法在審
| 申請號: | 201810818803.6 | 申請日: | 2018-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN110752251A | 公開(公告)日: | 2020-02-04 |
| 發明(設計)人: | 王興民;李瑞評 | 申請(專利權)人: | 兆遠科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/04 | 分類號: | H01L29/04;H01L29/06;H01L21/02;H01L23/373;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 11021 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 任巖 |
| 地址: | 中國臺灣新竹科學工業園*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 孔洞 襯底 基材 基材表面 填補材料 填補層 復合 耐高溫能力 散熱效果 填平 制造 填補 | ||
一種復合襯底及其制造方法,其制造方法包括有:提供一基材,該基材具有一基材表面,且于該基材表面具有多個孔洞;提供一填補層,該填補層包括有多個填補材料,該些填補材料分別填補于該些孔洞當中,從而制成該復合襯底。通過上述設計,可有效填平基材上的孔洞,提升外延質量,以及有效改善襯底的散熱效果,提升耐高溫能力。
技術領域
本發明涉及復合襯底,尤其涉及一種可提升外延質量的復合襯底及其制造方法。
背景技術
于外延用襯底領域當中,不論是多晶襯底或是非晶襯底,其表面上時常會產生有多個孔洞缺陷,舉例而言,以多晶襯底為例,其于微小單晶顆粒之間存在多個邊界區(Grainboundary),且因為每顆微小顆粒的晶向并不一致,因此于進行拋光加工后,仍會有部分的微小孔洞殘留,而影響后續外延質量。
是以,如何改善上述缺陷,以提升外延質量,是本發明人苦心研究的方向之一。
發明內容
有鑒于此,本發明的目的在于提供一種復合襯底及其制造方法,可有效填平襯底上的孔洞,以提升外延質量,以及提升襯底散熱效果。
為了達成上述目的,本發明提供一種復合襯底,包括有:一基材,具有一基材表面,于該基材表面具有多個孔洞;以及一填補層,設置于該基材表面,該填補層具有一主體以及自該主體一側延伸形成的多個填補材料,該主體的厚度不超過10nm,該些填補材料分別填補于該些孔洞當中。
為了達成上述目的,本發明還提供一種復合襯底,包括有:一基材,具有一基材表面,于該基材表面具有多個孔洞;多個填補材料,分別填補于該些孔洞當中。
為了達成上述目的,本發明另提供一種復合襯底的制造方法,包括有:提供一基材,該基材具有一基材表面,且于該基材表面具有多個孔洞;提供一填補層,該填補層包括有多個填補材料,該些填補材料分別填補于該些孔洞當中。
本發明的效果在于,通過上述設計,可有效填平基材上的孔洞,提升外延質量,以及有效改善襯底的散熱效果,提升耐高溫能力。
附圖說明
圖1為本發明一實施例的復合襯底的制造方法的流程圖。
圖2至圖7為本發明一實施例的復合襯底的結構示意圖。
【符號說明】
[本發明]
100復合襯底
10基材
10a基材表面 12孔洞
20填補層
22主體 24填補材料
30外延層
D厚度
具體實施方式
為能更清楚地說明本發明,現例舉一較佳實施例并配合附圖詳細說明如后。請參圖1至圖4所示,為本發明一實施例的復合襯底100的制造方法流程圖以及該復合襯底100的結構示意圖。該制造方法包括有以下步驟:
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