[發(fā)明專利]一種有機(jī)分子的真空沉積裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810817100.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108837962A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-11-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 傅晶晶;張向平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 金華職業(yè)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | B05B5/08 | 分類號(hào): | B05B5/08;B05B5/03 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 321017 *** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 離子聚束器 真空段 真空腔體 電極 金屬環(huán)形電極 真空沉積裝置 線性遞減 相鄰電極 有機(jī)分子 絕緣片 起始端 隔開(kāi) 四極質(zhì)量過(guò)濾器 材料制備領(lǐng)域 電噴霧裝置 擋板 軸線旋轉(zhuǎn) 靜電 毛細(xì)管 偏向器 位移臺(tái) 樣品臺(tái) 內(nèi)管 外管 | ||
本發(fā)明涉及材料制備領(lǐng)域,一種有機(jī)分子的真空沉積裝置,包括電噴霧裝置、位移臺(tái)、毛細(xì)管、真空腔體、離子聚束器I、離子聚束器II、靜電偏向器、四極質(zhì)量過(guò)濾器和樣品臺(tái),離子聚束器I將真空腔體分為真空段I和真空段II,離子聚束器I位于真空腔體起始端一側(cè)的真空段I中,離子聚束器II位于真空段II起始端一側(cè)的真空段II中,離子聚束器I由三十塊厚度為一毫米的金屬環(huán)形電極組成,相鄰電極用一毫米厚的絕緣片隔開(kāi),電極的內(nèi)徑從五十毫米到五毫米線性遞減;離子聚束器II由六十個(gè)金屬環(huán)形電極組成,相鄰電極用二毫米厚的絕緣片隔開(kāi),其中前十個(gè)電極內(nèi)徑三十毫米,后五十個(gè)電極的內(nèi)徑從三十毫米到二毫米線性遞減;擋板能繞外管和內(nèi)管的軸線旋轉(zhuǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及材料制備領(lǐng)域,尤其是一種具有特殊噴霧方法的一種有機(jī)分子的真空沉積裝置。
背景技術(shù)
電噴霧沉積方法是一種用于沉積分子量較大且易分解的分子的方法,通過(guò)電噴霧裝置使得包含有待沉積分子的溶液霧化,并使得分子帶電而以離子形式進(jìn)入真空系統(tǒng),在電場(chǎng)或不同真空段的氣壓差的作用下運(yùn)動(dòng)并最終沉積到襯底上。現(xiàn)有技術(shù)缺陷一:采用氣體分流器來(lái)分隔真空腔內(nèi)的不同真空段,缺點(diǎn)是離子的透射率較低;現(xiàn)有技術(shù)缺陷二:電噴霧的質(zhì)量流量輸出較低。對(duì)于某些應(yīng)用,還要考慮一些特殊的技術(shù)需求,比如沉積過(guò)程中避免襯底損壞,需要待沉積分子的動(dòng)能較低,另外,需要避免中性粒子雜質(zhì)污染襯底,所述一種有機(jī)分子的真空沉積裝置能夠解決問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問(wèn)題,本發(fā)明一種有機(jī)分子的真空沉積裝置具有串聯(lián)的離子聚束器以增加離子束流的透射率,另外,電噴霧裝置具有可旋轉(zhuǎn)的帶缺口的擋板,通過(guò)調(diào)節(jié)擋板的位置,能夠改變噴射出的霧化液滴的大小及噴霧形狀。
本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是:
所述一種有機(jī)分子的真空沉積裝置主要包括電噴霧裝置、位移臺(tái)、毛細(xì)管、真空腔體、離子聚束器I、離子聚束器II、靜電偏向器、四極質(zhì)量過(guò)濾器和樣品臺(tái),xyz為三維坐標(biāo)系,電噴霧裝置安裝在位移臺(tái)上能夠三維移動(dòng),所述真空腔體為兩段圓柱形真空腔呈90度連接而成、且具有初始端和末端,所述離子聚束器I、離子聚束器II、靜電偏向器、四極質(zhì)量過(guò)濾器、樣品臺(tái)依次均位子真空腔體內(nèi),靜電偏向器位于真空腔的轉(zhuǎn)角處,四極質(zhì)量過(guò)濾器具有極板,樣品臺(tái)上具有襯底,所述真空腔體連接有多個(gè)真空泵組,使得在離子聚束器I處真空度1.0mbar、在離子聚束器II處真空度4×10-2mbar、在靜電偏向器處真空度1×10-5mbar、在四極質(zhì)量過(guò)濾器處真空度1×10-7mbar;所述真空腔體的初始端連接有毛細(xì)管,電噴霧裝置產(chǎn)生的液滴能夠通過(guò)所述毛細(xì)管進(jìn)入真空腔體,液滴中大部分溶劑被真空泵組抽出真空腔體外,液滴中的待沉積分子的離子包和帶電雜質(zhì)依次通過(guò)離子聚束器I、離子聚束器II到達(dá)靜電偏向器,在靜電偏向器中待沉積分子的離子包和帶電雜質(zhì)被偏轉(zhuǎn)90度后,到達(dá)四極質(zhì)量過(guò)濾器,而中性雜質(zhì)不會(huì)被偏轉(zhuǎn),從而達(dá)到過(guò)濾效果;在四極質(zhì)量過(guò)濾器中經(jīng)過(guò)荷質(zhì)比選擇,帶電雜質(zhì)被偏轉(zhuǎn)并與四極質(zhì)量過(guò)濾器的極板碰撞而被過(guò)濾,最終僅有待沉積分子的離子包到達(dá)樣品臺(tái)上的襯底表面;電噴霧裝置由外管、內(nèi)管、擋板、進(jìn)氣口、液體入口組成,所述外管和內(nèi)管均為圓柱形,外管的內(nèi)徑為3000微米,內(nèi)管的外徑為2700微米,所述外管和內(nèi)管為同軸嵌套構(gòu)型,外管和內(nèi)管之間為液體通道,進(jìn)氣口和液體入口分別連接外管外壁并與液體通道連通,外管內(nèi)壁具有分散的沿外管軸向的形狀完全相同的凹槽,能夠增大局域電場(chǎng),離子聚束器I將真空腔體分為真空段I和真空段II,離子聚束器I位于真空腔體起始端一側(cè)的真空段I中,離子聚束器II位于真空段II起始端一側(cè)的真空段II中,離子聚束器I由三十塊厚度為一毫米的金屬環(huán)形電極組成,相鄰金屬環(huán)形電極用一毫米厚的絕緣片隔開(kāi),環(huán)形電極的內(nèi)徑從五十毫米到五毫米線性遞減;離子聚束器II由六十個(gè)金屬環(huán)形電極組成,相鄰金屬環(huán)形電極用二毫米厚的絕緣片隔開(kāi),其中前十個(gè)環(huán)形電極內(nèi)徑三十毫米,后五十個(gè)環(huán)形電極的內(nèi)徑從三十毫米到二毫米線性遞減;所述擋板為直徑2900微米的圓形金屬板,且與所述內(nèi)管的一側(cè)端口同心,并將所述內(nèi)管的一側(cè)端口密封,擋板邊緣具有形狀相同的缺口,相鄰的所述缺口之間的間距一致,擋板能夠繞外管和內(nèi)管的軸線旋轉(zhuǎn),以控制噴射束流,所述外管內(nèi)壁的凹槽的數(shù)量為四到十二個(gè),凹槽斷面形狀為半圓形或正方形或三角形;擋板上缺口的數(shù)量為四到十二個(gè),缺口形狀為半圓形或正方形或三角形,所述半圓形的半徑范圍30微米到50微米,所述正方形的邊長(zhǎng)范圍40微米到60微米,所述三角形邊長(zhǎng)范圍30微米到60微米。
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