[發明專利]一種用于太陽電池的增透減反薄膜的后處理方法

在審

• 申請號: 201810814335.5
• 申請日: 2018-07-23
• 公開（公告）號: CN110828582A
• 公開（公告）日: 2020-02-21
• 發明（設計）人: 張德忠;王雪戈
• 申請（專利權）人: 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
• 主分類號: H01L31/0216
• 分類號: H01L31/0216;H01L31/18;B82Y30/00
• 代理公司: 北京風雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 李莎

1.一種用于太陽電池的增透減反薄膜的后處理方法，其特征在于，其包括以下步驟：S1：將鍍有增透減反薄膜的基底放入鹽溶液中浸泡；S2：將浸泡過的基底高溫煅燒。

2.根據權利要求1所述的后處理方法，其特征在于，所述鹽溶液選自氯化鈉、氯化鉀、硝酸鈉、硝酸鉀、氯化鋅、硝酸鋅、硫酸鉀、硫酸鈉或硫酸鋅中的一種或幾種。

3.根據權利要求1所述的后處理方法，其特征在于，所述鹽溶液的濃度為1-10％wt，優選為5-10％wt。

4.根據權利要求1所述的后處理方法，其特征在于，所述步驟S1中浸泡時間為24-96小時，優選為24-72小時。

5.根據權利要求1所述的后處理方法，其特征在于，所述步驟S2的煅燒溫度為600-650攝氏度。

6.根據權利要求1所述的后處理方法，其特征在于，所述增透減反薄膜為二氧化硅納米顆粒薄膜。

7.根據權利要求6所述的后處理方法，其特征在于，所述二氧化硅納米顆粒薄膜采用提拉鍍膜法制備。

8.根據權利要求6所述的后處理方法，其特征在于，所述二氧化硅納米顆粒薄膜利用有機硅前驅體，在有機溶劑中制備。

9.根據權利要求6所述的后處理方法，其特征在于，所述二氧化硅納米顆粒薄膜利用水溶性分散的二氧化硅納米顆粒，加入酸或堿溶液調節pH值，在表面活性劑以及交聯劑作用下制備。

10.根據權利要求1所述的后處理方法，其特征在于，所述基底為浮法玻璃。