[發(fā)明專利]一種基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810813401.7 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108801944B | 公開(公告)日: | 2021-02-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐德剛;劉松;蔡耀儀;陽春華;桂衛(wèi)華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中南大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/27 | 分類號(hào): | G01N21/27 |
| 代理公司: | 長沙市融智專利事務(wù)所(普通合伙) 43114 | 代理人: | 歐陽迪奇 |
| 地址: | 410083 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 二元 狀態(tài) 轉(zhuǎn)換 懲罰 平滑 光譜 基線 校正 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正方法。通過二元數(shù)據(jù)集合表示光譜數(shù)據(jù)點(diǎn)是否為背景點(diǎn),初始化二元數(shù)據(jù)集合為隨機(jī)產(chǎn)生的數(shù)據(jù)集。取二元數(shù)據(jù)集合中元素為1的數(shù)據(jù)所對(duì)應(yīng)的光譜數(shù)據(jù)點(diǎn)作為基線數(shù)據(jù),采用懲罰B樣條擬合基線數(shù)據(jù)得到光譜基線。通過狀態(tài)轉(zhuǎn)換算法以及將擬合基線和最佳估計(jì)基線比較,不斷更新光譜二元數(shù)據(jù)集合,從而擬合得到最佳基線。本算法獲得的背景基線準(zhǔn)確度高,算法適用性強(qiáng),并且所需確定的參數(shù)較少,能夠有效地消除背景光譜,從而獲得良好的基線校正效果,為進(jìn)一步分析光譜數(shù)據(jù)提供準(zhǔn)確可靠的數(shù)據(jù)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光譜分析領(lǐng)域,具體涉及一種基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正方法。
背景技術(shù)
基線校正是一種常用的消除光譜熒光干擾的方法,是光譜數(shù)據(jù)處理的必要步驟之一。近年來,基于光譜技術(shù)的分析檢測(cè)方法受到了越來越廣泛的關(guān)注,并且已經(jīng)在多個(gè)領(lǐng)域中得到了應(yīng)用。其中原子光譜技術(shù)有原子熒光光譜、原子吸收光譜、電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜等,常用的分子光譜技術(shù)包括紅外光譜、拉曼光譜、紫外可見光譜等。在將光譜應(yīng)用于物質(zhì)定量分析的過程中,往往會(huì)因?yàn)闊晒馕镔|(zhì)干擾、檢測(cè)環(huán)境及樣品的各種噪聲干擾,使獲得的光譜存在較大的基線背景,從而影響數(shù)據(jù)的進(jìn)一步分析,因此需要對(duì)獲得的光譜進(jìn)行基線校正。光譜的基線校正方法有很多,主要是基于以下幾種思想:導(dǎo)數(shù)思想、插值擬合、頻域分析等。如孫毅等基于導(dǎo)數(shù)的思想,采用微分-平滑法校正異丁烷氣體近紅外光譜的背景基線,并與光譜儀自帶的基線校正方法進(jìn)行了對(duì)比。插值擬合一般采用多項(xiàng)式或者B樣條,如Vickers T J等提出了一種扣除非線性背景的方法,首先由人工根據(jù)經(jīng)驗(yàn)指定若干基線點(diǎn),然后利用多項(xiàng)式進(jìn)行擬合,該方法原理簡(jiǎn)單,但需要用戶干預(yù),耗時(shí)較長且容易造成光譜變形。LieberCA等則基于改進(jìn)的最小二乘多項(xiàng)式曲線擬合,通過迭代優(yōu)化提出一種背景自動(dòng)扣除方法,該方法的不足之處在于迭代次數(shù)比較多。頻域分析的方法主要是傅里葉變換和小波變換,如Villanueva-Luna A E等人基于小波理論,提出了一種消除拉曼光譜熒光背景的新方法,但該方法存在著復(fù)雜度較大的缺點(diǎn),靈活性較差。針對(duì)以上問題,本發(fā)明所提出的基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正算法,首先通過狀態(tài)轉(zhuǎn)換算法選擇和改變屬于可疑背景的波束范圍,接下來使用懲罰B樣條平滑法對(duì)可疑背景數(shù)據(jù)點(diǎn)擬合得到光譜背景,迭代過程的引入使得擬合背景不斷收斂于實(shí)際背景,最后達(dá)到或者最大程度接近實(shí)際背景。本算法人工干預(yù)較少,復(fù)雜度較低,可針對(duì)紅外光譜、拉曼光譜等進(jìn)行背景扣除,十分適用于光譜的基線校正。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于解決實(shí)際光譜背景的自動(dòng)扣除問題,提出來一種基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是,
一種基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正方法,包括以下步驟:
步驟一,參數(shù)初始化:對(duì)基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正方法的參數(shù)進(jìn)行初始化,需要初始化的參數(shù)包括最大迭代次數(shù)、狀態(tài)轉(zhuǎn)移算法中的替代因子SF和交換率SR、B樣條平滑的懲罰參數(shù)p和每個(gè)光譜數(shù)據(jù)點(diǎn)的二元狀態(tài)信息變量
步驟二,通過狀態(tài)轉(zhuǎn)換算法中的交換和替代操作,改變二元狀態(tài)信息變量所形成的二元個(gè)體集合x′j的項(xiàng);
步驟三,懲罰B樣條平滑擬合:將x′j與光譜橫坐標(biāo)對(duì)應(yīng)項(xiàng)相乘,刪除其中為0的項(xiàng),并取剩余項(xiàng)對(duì)應(yīng)的光譜強(qiáng)度,組合得到背景迭代點(diǎn);使用懲罰B樣條平滑擬合背景迭代點(diǎn),獲得基線數(shù)據(jù);
步驟四,計(jì)算適應(yīng)度函數(shù),用于評(píng)判迭代過程中擬合的性能;
步驟五,迭代過程中最佳二元個(gè)體集合和基線選擇:用適應(yīng)度函數(shù)的最小值選擇當(dāng)前局部最佳二元個(gè)體集合和基線;
步驟六,終止迭代過程:當(dāng)連續(xù)兩次迭代過程中最優(yōu)個(gè)體適應(yīng)度函數(shù)之差小于設(shè)定閾值,或者達(dá)到最大迭代次數(shù)時(shí),則轉(zhuǎn)至步驟八,否則轉(zhuǎn)到步驟七;
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
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