[發(fā)明專利]一種基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810813401.7 | 申請日: | 2018-07-23 |
| 公開(公告)號: | CN108801944B | 公開(公告)日: | 2021-02-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐德剛;劉松;蔡耀儀;陽春華;桂衛(wèi)華 | 申請(專利權(quán))人: | 中南大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/27 | 分類號: | G01N21/27 |
| 代理公司: | 長沙市融智專利事務(wù)所(普通合伙) 43114 | 代理人: | 歐陽迪奇 |
| 地址: | 410083 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 二元 狀態(tài) 轉(zhuǎn)換 懲罰 平滑 光譜 基線 校正 方法 | ||
1.一種基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一,參數(shù)初始化:對基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正方法的參數(shù)進行初始化,需要初始化的參數(shù)包括最大迭代次數(shù)、狀態(tài)轉(zhuǎn)移算法中的替代因子SF和交換率SR、B樣條平滑的懲罰參數(shù)p和每個光譜數(shù)據(jù)點的二元狀態(tài)信息變量
步驟二,通過狀態(tài)轉(zhuǎn)換算法中的交換和替代操作,改變二元狀態(tài)信息變量所形成的二元個體集合x′j的項;
步驟三,懲罰B樣條平滑擬合:將x′j與光譜橫坐標(biāo)對應(yīng)項相乘,刪除其中為0的項,并取剩余項對應(yīng)的光譜強度,組合得到背景迭代點;使用懲罰B樣條平滑擬合背景迭代點,獲得基線數(shù)據(jù);
步驟四,計算適應(yīng)度函數(shù),用于評判迭代過程中擬合的性能;
步驟五,迭代過程中最佳二元個體集合和基線選擇:用適應(yīng)度函數(shù)的最小值選擇當(dāng)前局部最佳二元個體集合和基線;
步驟六,終止迭代過程:當(dāng)連續(xù)兩次迭代過程中最優(yōu)個體適應(yīng)度函數(shù)之差小于設(shè)定閾值,或者達到最大迭代次數(shù)時,則轉(zhuǎn)至步驟八,否則轉(zhuǎn)到步驟七;
步驟七,更新二元個體集合:將背景基線與步驟五中的局部最優(yōu)估計基線進行比較從而更新二元個體集合,即通過查找大于局部最佳估計基線的擬合基線中所有數(shù)據(jù)點位置的原始光譜數(shù)據(jù),如果該強度大于擬合基線對應(yīng)的強度,則該點為特征峰區(qū)域,即對應(yīng)x′i中該點的數(shù)據(jù)更新為0,然后返回步驟二中繼續(xù)執(zhí)行;
步驟八,輸出迭代背景基線作為全局最優(yōu)估計基線,完成校正;
其中步驟三中,基線的建模形式為:
yi=f(xi)+εi
f(·)表示B樣條的線性組合,εi是誤差向量;B樣條表示為:
μ(xi)=∑Bj(xi)βj
βj是B樣條系數(shù),Bj(xi)是具有m等距節(jié)點的j次B樣條在xi處的B樣條基函數(shù),B樣條選取4階均勻樣條,Bj(x)通過DeBoor-Cox定義遞推得到:
通過最小二乘和差異懲罰對參數(shù)βj進行回歸:
Δ2βj=(βj-βj-1)-(βj-1-βj-2)
S代表目標(biāo)函數(shù),Δ2是階數(shù)為2的差分算子,D2β通過D2矩陣求得,p是樣條平滑的懲罰參數(shù);所以參數(shù)βj通過是S取最小值求得:
通常選取的B樣條基函數(shù)小于背景基線迭代點個數(shù),得到參數(shù)βj的懲罰B樣條平滑估計值為:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正方法,其特征在于,所述的步驟一中,初始化的參數(shù)進行初始化的取值分別為:最大迭代次數(shù)為20、狀態(tài)轉(zhuǎn)移算法中的替代因子SF=0.2和交換率SR=0.4、B樣條平滑的懲罰參數(shù)p=10、每個光譜數(shù)據(jù)點的初始二元狀態(tài)信息變量隨機取0或1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于二元狀態(tài)轉(zhuǎn)換的懲罰B樣條平滑光譜基線校正方法,其特征在于,所述的步驟一中,所述的二元狀態(tài)信息變量用于表示在第j次迭代中的光譜數(shù)據(jù)點{ai,bi}是否為背景點,其中光譜數(shù)據(jù)為ai表示光譜波束,bi表示對應(yīng)的光譜強度,m表示光譜數(shù)據(jù)的長度;取值0或1,其中表示對應(yīng)的光譜數(shù)據(jù)點{ai,bi}是背景點,表示為非背景點,即為光譜特征峰區(qū)域的點。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中南大學(xué),未經(jīng)中南大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810813401.7/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 圖像轉(zhuǎn)換設(shè)備、圖像轉(zhuǎn)換電路及圖像轉(zhuǎn)換方法
- 數(shù)模轉(zhuǎn)換電路及轉(zhuǎn)換方法
- 轉(zhuǎn)換設(shè)備和轉(zhuǎn)換方法
- 占空比轉(zhuǎn)換電路及轉(zhuǎn)換方法
- 通信轉(zhuǎn)換方法、轉(zhuǎn)換裝置及轉(zhuǎn)換系統(tǒng)
- 模數(shù)轉(zhuǎn)換和模數(shù)轉(zhuǎn)換方法
- 轉(zhuǎn)換模塊以及轉(zhuǎn)換電路
- 熱電轉(zhuǎn)換材料、熱電轉(zhuǎn)換元件和熱電轉(zhuǎn)換模塊
- 熱電轉(zhuǎn)換材料、熱電轉(zhuǎn)換元件及熱電轉(zhuǎn)換模塊
- 熱電轉(zhuǎn)換材料、熱電轉(zhuǎn)換元件及熱電轉(zhuǎn)換模塊





