[發明專利]一種塞來昔布納米晶體制劑的制備方法

在審

• 申請號: 201810810012.9
• 申請日: 2018-07-23
• 公開（公告）號: CN108542886A
• 公開（公告）日: 2018-09-18
• 發明（設計）人: 丁壯;邢楊楊;趙燕娜;高巖;韓軍
• 申請（專利權）人: 聊城大學
• 主分類號: A61K9/14
• 分類號: A61K9/14;A61K31/635;A61K47/38;A61K47/20;A61K47/32;A61K47/34;A61P29/00;A61P19/02
• 代理公司: 青島致嘉知識產權代理事務所(普通合伙) 37236
• 代理人: 李浩成

1.一種塞來昔布納米晶體制劑的制備方法，其特征在于：采用以水為分散劑的濕法介質研磨法。

2.如權利要求1所述塞來昔布納米晶體制劑的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1) 將離子型穩定劑溶解于水溶液中形成溶液A；

(2) 將空間型穩定劑溶解于溶液A中，形成溶液B；

(3) 將塞來昔布分散于溶液B中，形成混懸液C；

(4) 將混懸液C在置于介質研磨設備中，經高速研磨作用后，形成納米混懸液D；

(5) 向納米混懸液D中加入干燥保護劑，經過噴霧干燥或冷凍干燥得到納米晶體干粉。

3.如權利要求2所述的塞來昔布納米晶體制劑的制備方法，其特征在于，所述步驟(1)中離子型穩定劑為十二烷基硫酸鈉、 十二烷基磺酸鈉、磺基琥珀酸鈉二辛酯、芐索氯銨中的一種或多種；離子型穩定劑含量為0.05wt%~1wt%。

4.如權利要求2所述的塞來昔布納米晶體制劑的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)中空間型穩定劑為醋酸羥丙甲纖維素琥珀酸酯、羥丙基纖維素、羥甲基纖維素、聚乙烯基己內酰胺-聚乙酸乙烯酯-聚乙二醇接枝共聚物、乙烯基吡咯烷酮-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯基吡咯烷酮中的一種或多種；空間型穩定劑含量為0.5wt%~3wt%。

5.如權利要求2所述的塞來昔布納米晶體制劑的制備方法，其特征在于，所述高分子型穩定劑為乙烯基吡咯烷酮-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯基吡咯烷酮中的一種或兩種；優選為乙烯基吡咯烷酮-乙酸乙烯酯共聚物。

6.如權利要求2所述的塞來昔布納米晶體制劑的制備方法，其特征在于，所述步驟(3)中塞來昔布含量為2wt%~5wt%；優選為4%。

7.如權利要求2所述的塞來昔布納米晶體制劑的制備方法，其特征在于，所述步驟(4)中研磨介質規格為直徑0.2~1mm，研磨介質填充量為30~70%，研磨轉速為2000~5000rpm，研磨體系溫度控制在35°C以下，作用時間為30~100分鐘。

8.如權利要求2所述的塞來昔布納米晶體制劑的制備方法，其特征在于，所述步驟(5)中干燥保護劑為乳糖、果糖、葡萄糖、蔗糖、麥芽糖、海藻糖、山梨醇、木糖醇、甘露醇、聚葡萄糖、低聚果糖、低聚麥芽糖、低聚半乳糖、糊精或阿拉伯膠的一種或多種；干燥保護劑含量為0.5wt%~5wt%。

9.如權利要求1~8任一所述的塞來昔布納米晶體制劑的制備方法，其特征在于，所述塞來昔布納米晶體制劑固體粉末含有：

(a) 50wt%~85wt% 塞來昔布

(b) 10wt%~30wt% 空間型穩定劑

(c) 1wt%~10wt% 離子型穩定劑

(d) 10wt%~50wt% 干燥保護劑。

10.如權利要求9所述的塞來昔布納米晶體制劑的制備方法，其特征在于，所述塞來昔布納米晶體制劑中塞來昔布納米顆粒的晶型與原料藥保持一致。