[發(fā)明專利]一種CVD石墨烯的無(wú)污染轉(zhuǎn)移工藝獲得氧化石墨烯與石墨烯復(fù)合結(jié)構(gòu)的復(fù)合薄膜及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810803422.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108910870B | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李昕;王常;劉衛(wèi)華;趙丹;王旭明;賈唐浩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安交通大學(xué);廣東順德西安交通大學(xué)研究院 |
| 主分類號(hào): | C01B32/194 | 分類號(hào): | C01B32/194;C01B32/198;G01N27/12 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 徐文權(quán) |
| 地址: | 710049 陜*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 cvd 石墨 無(wú)污染 轉(zhuǎn)移 工藝 獲得 氧化 復(fù)合 結(jié)構(gòu) 薄膜 方法 | ||
1.一種CVD石墨烯的無(wú)污染轉(zhuǎn)移工藝獲得氧化石墨烯與石墨烯復(fù)合結(jié)構(gòu)的復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟1),在具有金屬襯底的CVD石墨烯的石墨烯表面旋涂氧化石墨烯分散液,得到結(jié)構(gòu)A;
步驟2),再烘結(jié)構(gòu)A,去除旋涂的氧化石墨烯與石墨烯中的水分,使氧化石墨烯與石墨烯形成復(fù)合結(jié)構(gòu),并對(duì)氧化石墨烯與石墨烯的復(fù)合結(jié)構(gòu)進(jìn)行退火;
步驟3),再去除步驟2)所得結(jié)構(gòu)的金屬襯底,得到氧化石墨烯與石墨烯復(fù)合結(jié)構(gòu)的復(fù)合薄膜;
步驟4),再對(duì)步驟3)得到的復(fù)合薄膜進(jìn)行漂洗,得到干凈的復(fù)合薄膜;
所述步驟3)的具體過(guò)程如下:
將結(jié)構(gòu)A的金屬襯底面朝下,放置于刻蝕溶液液面上,使結(jié)構(gòu)A的金屬襯底去除;
CVD石墨烯為單層石墨烯;
所述步驟1)中,氧化石墨烯分散液的制備過(guò)程如下:
向每40ml去離子水中加入5-50mg氧化石墨烯,得到混合物A,再對(duì)混合物A震蕩10-60分鐘,然后超聲4-24小時(shí),得到分散均勻的氧化石墨烯分散液;
所述步驟1)中,在石墨烯表面旋涂氧化石墨烯分散液時(shí),轉(zhuǎn)速為100-1000轉(zhuǎn)/分鐘,時(shí)間為30-90秒;
步驟2)中,結(jié)構(gòu)A在40-80℃烘1-30分鐘。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CVD石墨烯的無(wú)污染轉(zhuǎn)移工藝獲得氧化石墨烯與石墨烯復(fù)合結(jié)構(gòu)的復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,CVD石墨烯的金屬襯底為銅襯底、鎳襯底、釕襯底或鎳金合金襯底。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CVD石墨烯的無(wú)污染轉(zhuǎn)移工藝獲得氧化石墨烯與石墨烯復(fù)合結(jié)構(gòu)的復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,刻蝕液為過(guò)硫酸銨溶液、三氯化鐵溶液或碘與碘化鉀混合溶液,刻蝕時(shí)間為4-24小時(shí)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CVD石墨烯的無(wú)污染轉(zhuǎn)移工藝獲得氧化石墨烯與石墨烯復(fù)合結(jié)構(gòu)的復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,在去除結(jié)構(gòu)A的金屬襯底前,先用去離子水對(duì)結(jié)構(gòu)A的金屬襯底進(jìn)行沖洗,再吹干結(jié)構(gòu)A。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CVD石墨烯的無(wú)污染轉(zhuǎn)移工藝獲得氧化石墨烯與石墨烯復(fù)合結(jié)構(gòu)的復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,所述步驟4)中,采用浸漬提拉法對(duì)步驟3)得到的復(fù)合薄膜轉(zhuǎn)移到去離子水中漂洗10-120分鐘。
6.一種CVD石墨烯的無(wú)污染轉(zhuǎn)移工藝獲得氧化石墨烯與石墨烯復(fù)合結(jié)構(gòu)的復(fù)合薄膜,其特征在于,所述復(fù)合薄膜通過(guò)權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的方法獲得。
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