[發明專利]過渡態氧化鎳鉻膜層的制備方法及包含該過渡態氧化鎳鉻膜層的可鋼化低輻射鍍膜玻璃

有效

• 申請號: 201810794815.X
• 申請日: 2018-07-19
• 公開（公告）號: CN109136870B
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 唐晶;梁干;武瑞軍
• 申請（專利權）人: 吳江南玻華東工程玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/08;C03C17/36
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 孫仿衛;都春燕

本發明涉及玻璃生產技術領域，具體涉及過渡態氧化鎳鉻膜層的制備方法及包含該過渡態氧化鎳鉻膜層的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，本發明的制備方法包括如下步驟：采用NiCr合金靶材，在直流電源或直流脈沖電源的控制下，保持磁控濺射鍍膜設備的背景本底真空度優于5×10^?4Pa，在工藝氣氛點采用反應式濺射的方式在上一膜層的表面順次進行沉積，所述的工藝氣氛點對應為氬氧氛圍，且通入的氬氣和氧氣的流量比為8/1?12/1，即得過渡態氧化鎳鉻膜層，由本發明的制備方法制得的過渡態氧化鎳鉻膜層，將其作為阻擋層應用于可鋼化低輻射鍍膜玻璃可大幅減少玻璃鋼化前后的色差，有利于生產過程中的顏色控制，并且還能大幅提高透過率，透過色更加中性。

技術領域

本發明涉及玻璃生產技術領域，具體涉及過渡態氧化鎳鉻膜層的制備方法及包含該過渡態氧化鎳鉻膜層的可鋼化低輻射鍍膜玻璃。

背景技術

以銀為功能層的離線低輻射玻璃在建筑玻璃獲得廣泛的應用，可鋼化低輻射玻璃具有可異地加工的特點，將鍍膜大板與后續的鋼化、中空等環節隔開，具有更大的加工便利性。因而在住宅門窗及部分公建項目上應用較多。

低輻射玻璃的膜層結構隨著多年的發展逐漸趨于穩定和成熟，功能層Ag膜的厚度一般為8～20nm，在鍍膜過程及后續的鋼化過程中極易氧化或硫化。阻擋層的作用是通過在Ag層表面鍍制一層薄薄的材料來保護Ag層，避免Ag層氧化或硫化，目前常用的阻擋層材料包括金屬的NiCr或者Ti。可鋼化低輻射玻璃的加工需經過鋼化爐加熱過程，溫度高達690℃，在鋼化過程中由于上述金屬材料部分甚至完全氧化，其膜層材料的化學計量比發生變化，光學常數也隨之發生顯著的變化。反應到外觀上就是鋼化前后的外觀顏色有很大的變化。

上述鋼化前后較大的色差會導致可鋼化低輻射玻璃的鋼化穩定性差，不利于低輻射玻璃的大規模使用。特別是對于可鋼化低輻射大板產品，受限于下游加工廠商的鋼化設備和工藝管控水平，鋼化前后的色差越大，則不同鋼化爐設備、不同批次間加工的產品的顏色差異的可能性就越大。玻璃幕墻或玻璃門窗作為一種建筑材料，相當于建筑的外衣，這種色差將嚴重影響外觀形象，若投訴更換玻璃，將導致巨大的財力和物力的浪費。同時，因為色差原因導致的補片也必須采用“鍍膜-鋼化”的先后工序，補片過程仍有色差的風險，導致交貨困擾。因此，如何控制鋼化前后的色差是玻璃深加工鍍膜行業研究的熱點之一。

發明內容

本發明提供一種過渡態氧化鎳鉻膜層的制備方法，由該方法制備的過渡態氧化鎳鉻膜層作為可鋼化低輻射鍍膜玻璃的阻擋層，可以有效降低玻璃產品鋼化前后的色差，大幅提高玻璃產品的透過率，還能使透過色更加中性。

為達到上述目的，本發明采用的技術方案是：一種過渡態氧化鎳鉻膜層的制備方法，包括如下步驟：采用NiCr合金靶材，在直流電源或直流脈沖電源的控制下，保持磁控濺射鍍膜設備的背景本底真空度優于5×10^-4Pa，在工藝氣氛點采用反應式濺射的方式在上一膜層的表面順次進行沉積，所述的工藝氣氛點對應為氬氧氛圍，且通入的氬氣和氧氣的流量比為8/1-12/1，即得過渡態氧化鎳鉻膜層。

進一步的，所述過渡態氧化鎳鉻膜層的厚度為1.5-5nm。

進一步的，所述工藝氣氛點所對應的氬氣和氧氣的流量比例采用以下方法獲得：保持磁控濺射鍍膜設備的背景本底真空度優于5×10^-4Pa，保持磁控濺射鍍膜設備的濺射功率不變，保持氬氣的流量不變，從零開始逐步增加O₂的流量，記錄不同O₂流量下的電壓值，繪制電壓-O₂流量曲線，找出所述電壓-O₂流量曲線上最大電壓值所對應的氬氣和氧氣的流量比例，即為所述工藝氣氛點所對應的氬氣和氧氣的流量比例。