[發(fā)明專利]過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層的制備方法及包含該過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層的可鋼化低輻射鍍膜玻璃

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810794815.X
• 申請日: 2018-07-19
• 公開（公告）號: CN109136870B
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 唐晶;梁干;武瑞軍
• 申請（專利權(quán)）人: 吳江南玻華東工程玻璃有限公司;中國南玻集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/08;C03C17/36
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 孫仿衛(wèi);都春燕

1.一種過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：采用NiCr合金靶材，在直流電源的控制下，保持磁控濺射鍍膜設(shè)備的背景本底真空度優(yōu)于5×10^-4Pa，在工藝氣氛點采用反應(yīng)式濺射的方式在上一膜層的表面順次進(jìn)行沉積，所述的工藝氣氛點對應(yīng)為氬氧氛圍，且通入的氬氣和氧氣的流量比為8/1-12/1，即得過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層；

所述工藝氣氛點所對應(yīng)的氬氣和氧氣的流量比例采用以下方法獲得：保持磁控濺射鍍膜設(shè)備的背景本底真空度優(yōu)于5×10^-4Pa，保持磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射功率不變，保持氬氣的流量不變，從零開始逐步增加O₂的流量，記錄不同O₂流量下的電壓值，繪制電壓-O₂流量曲線，找出所述電壓-O₂流量曲線上最大電壓值所對應(yīng)的氬氣和氧氣的流量比例，即為所述工藝氣氛點所對應(yīng)的氬氣和氧氣的流量比例。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層的制備方法，其特征在于：所述過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層的厚度為1.5-5nm。

3.一種包含由權(quán)利要求1至2任一項所述的方法制備的過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基體以及鍍設(shè)于所述玻璃基體一側(cè)表面的復(fù)合膜層，其特征在于：所述復(fù)合膜層包括自所述玻璃基體朝外依次沉積的打底層、第一種子層、第一銀層、第一過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層、第一中間層、第二種子層、第二銀層、第二過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層和頂部保護(hù)層；

所述第一種子層/第二種子層的膜層材料為氧化鋅，其厚度為8-15nm；

所述第一銀層/第二銀層的厚度為8-20nm；所述第一過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層/第二過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層的厚度為1.5-5nm；

所述第一中間層至少包含一層氧化物介質(zhì)層，所述第一中間層的厚度為50-80nm；

所述頂部保護(hù)層至少包含一層氮化硅層，其厚度為20-50nm；

所述打底層的膜層材料為氮化硅，其厚度為15-30nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第二過渡態(tài)氧化鎳鉻層和所述頂部保護(hù)層之間自內(nèi)向外還依次鍍設(shè)有第二中間層、第三種子層、第三銀層和第三過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一種子層/第二種子層/第三種子層的膜層材料為氧化鋅，其厚度為8-15nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一銀層/第二銀層/第三銀層的厚度為8-20nm；所述第一過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層/第二過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層/第三過渡態(tài)氧化鎳鉻膜層的厚度為1.5-5nm。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一中間層/第二中間層至少包含一層氧化物介質(zhì)層，所述第一中間層的厚度為50-80nm；所述第二中間層的厚度為40-60nm。