[發明專利]一種適用于酸性氣體、粉塵環境的水洗噴淋裝置

在審

• 申請號: 201810791817.3
• 申請日: 2018-07-18
• 公開（公告）號: CN108619877A
• 公開（公告）日: 2018-10-09
• 發明（設計）人: 楊春水;司馬超;張坤;曹小康;趙力行;鄒昭平;蔣俊海;于浩
• 申請（專利權）人: 安徽京儀自動化裝備技術有限公司
• 主分類號: B01D53/75
• 分類號: B01D53/75;B01D53/86;B01D47/06;B01D53/44
• 代理公司: 蕪湖思誠知識產權代理有限公司 34138
• 代理人: 鄭直

本發明公開了一種適用于酸性氣體、粉塵環境的水洗噴淋裝置，涉及半導體制造過程中制成工藝氣體處理設備的技術領域，包括前端和后端水洗裝置、第一和第二反應腔、冷卻塔和廢水箱，前端水洗裝置和第一反應腔通過連接管道一連接，第一反應腔和第二反應腔通過連接管道二連接，第二反應腔和后端水洗裝置的進氣端連接，冷卻塔和后端水洗裝置的出氣端連接，前端和后端水洗裝置通過連接軟管分別和廢水箱連接。廢氣中含有的粉塵和酸性氣體經過前端水洗裝置后，與水結合掉落到裝置底部并順著水流沖洗到廢水箱中，接著廢氣中的有機物進入第一和第二反應腔充分反應，再經過后端水洗裝置和冷卻塔的水洗噴淋和冷卻降溫后，達到排放標準后從出氣口排出。

技術領域

本發明涉及半導體制造過程中制成工藝氣體處理設備的技術領域，具體涉及一種適用于酸性氣體、粉塵環境的水洗噴淋裝置。

背景技術

在半導體制造過程中既有二氧化硫、氮氧化物、含氟氣體等有害廢氣外排，也有大量的粉塵伴隨廢氣排放到環境中，造成環境空氣污染。應用在半導體行業的傳統廢氣處理設備在長時間運行中會因為廢氣中含有的粉塵導致廢氣處理設備反應腔堵塞，縮短設備的維護周期，影響工廠的產能，同時，在長時間運行中會因為廢氣中的酸性氣體加速腐蝕設備的金屬管路及連接廠務排風的金屬管路，造成氣體泄漏，導致安全事件發生。

中國專利申請號為CN107051092A公開了一種廢氣處理設備，包括：噴淋凈化裝置，包括塔體和噴淋機構，塔體具有容納腔，塔體內沿底部到頂部依次設有旋流結構層和填料層以將容納腔分隔為第一腔室、第二腔室和第三腔室，塔體的底部設有與第一腔室連通的進氣口和出水口，塔體的頂部設有與第三腔室連通的出氣口；噴淋機構包括第一噴淋組件和第二噴淋組件；氣體凈化裝置，包括具有凈化腔的本體，本體上設有與凈化腔連通的進風口和出風口，進風口與出氣口連通，凈化腔包括等離子反應腔，等離子反應腔內設有等離子電場發生器。

中國專利申請號為CN107051067A公開了一種一體化廢氣處理設備，包括：降溫裝置，包括殼體和降溫噴淋機構，殼體具有降溫腔，降溫噴淋機構設于降溫腔內，降溫腔內從降溫進氣口至降溫出氣口設有多個隔板以將降溫腔分隔為多個降溫區，隔板上開設有通孔；噴淋凈化裝置，包括塔體和凈化噴淋機構，塔體具有容納腔，塔體上設有與容納腔連通的凈化進氣口、凈化出水口和凈化出氣口，凈化噴淋機構設于容納腔內，凈化進氣口與降溫出氣口連通；氣體凈化裝置，包括具有凈化腔的本體，本體上設有與凈化腔連通的進風口和出風口，進風口與凈化出氣口連通，凈化腔包括等離子反應腔。

通過對上述對比文件仔細分析后發現：對比文件1中所涉及的技術方案結構上過于復雜，維護成本較高；對比文件2中所涉及的技術方案裝置占用的空間較大，不便應用于半導體制造過程中對制成工藝氣體處理，因此，對應用于半導體制造過程中制成工藝氣體處理設備需要重新進行更加合理的設計。

發明內容

本發明的目的在于提供一種適用于酸性氣體、粉塵環境的水洗噴淋裝置，以解決現有技術中導致的上述多項缺陷。

一種適用于酸性氣體、粉塵環境的水洗噴淋裝置，包括前端水洗裝置、第一反應腔、第二反應腔、后端水洗裝置、冷卻塔和廢水箱，所述前端水洗裝置包括前端水洗腔體和安裝在前端水洗腔體上的進氣法蘭、出氣法蘭和出水法蘭一，所述進氣法蘭和出氣法蘭分別豎直焊接在前端水洗腔體的頂部左側和右側，所述出水法蘭一豎直焊接在前端水洗腔體的底部并通過連接軟管一和廢水箱連接，所述前端水洗腔體的左側上部和下部分別水平焊接有噴頭法蘭一和噴頭法蘭二，所述前端水洗腔體的右側下部水平焊接有噴頭法蘭三，所述噴頭法蘭一、噴頭法蘭二和噴頭法蘭三內均設有噴頭一；