[發明專利]一種掩模裝置、曝光設備及曝光方法

有效

• 申請號: 201810785237.3
• 申請日: 2018-07-17
• 公開（公告）號: CN110727169B
• 公開（公告）日: 2021-04-06
• 發明（設計）人: 張家錦;楊向超
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F1/62
• 分類號: G03F1/62;G03F1/42
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種掩模裝置，其特征在于，包括：

掩模版組，包括至少兩個子掩模版，每個子掩模版上形成有子掩模圖形；

掩模固定機構，用于固持所述至少兩個子掩模版，且將所述至少兩個子掩模版層疊設置，所述層疊設置的至少兩個子掩模版的子掩模圖形構成所述掩模版組的掩模圖形；

位置調整機構，用于調整掩模固定機構上至少一個子掩膜版的位置，以調整所述掩模版組的掩模圖形，以使所述子掩模圖形的位置姿態與基板上一個曝光場內對應的單元芯片的位置姿態一致；

所述子掩模版上子掩模圖形以外的區域為透光區域；各所述子掩模版的子掩模圖形的垂直投影無重疊。

2.根據權利要求1所述的掩模裝置，其特征在于，還包括位置檢測機構，與所述位置調整機構電連接，用于檢測子掩模版上子掩模圖形的位置信息，并將所述位置信息發送給位置調整機構，所述位置調整機構用于根據所述子掩模圖形的位置信息，以及基板上待曝光的單元芯片的位置信息調整所述至少一個子掩模版的位置。

3.根據權利要求2所述的掩模裝置，其特征在于，所述子掩模版上形成有對準標記，所述位置檢測機構用于檢測所述對準標記的位置信息，確定所述子掩模版上子掩模圖形的位置信息。

4.根據權利要求1所述的掩模裝置，其特征在于，所述掩模固定機構包括掩模臺底座及至少兩組相對設置的夾持組件，每組所述夾持組件用于固定一個所述子掩模版。

5.根據權利要求4所述的掩模裝置，其特征在于，所述位置調整機構與所述夾持組件連接，用于驅動所述夾持組件對所述子掩模版進行位置調整。

6.根據權利要求1所述的掩模裝置，其特征在于，所述掩模版組中子掩模版的數目為2-4個。

7.根據權利要求1所述的掩模裝置，其特征在于，所述子掩模版的厚度范圍為1.0-3.0mm。

8.根據權利要求1所述的掩模裝置，其特征在于，掩模版組的子掩模版的總厚度小于或等于10.0mm。

9.根據權利要求1所述的掩模裝置，其特征在于，所述每個子掩模版上形成的子掩模圖形的數目為一個或多個，且數目為多個時，所述子掩模圖形成行列式排布。

10.根據權利要求9所述的掩模裝置，其特征在于，相鄰的兩個子掩模版上的子掩模圖形在行或者列方向上間隔設置。

11.一種曝光設備，其特征在于，包括權利要求1-10中任一所述的掩模裝置。

12.一種曝光方法，其特征在于，該方法基于權利要求11所述的曝光設備，包括：

上載所述至少兩個子掩模版，掩模固定機構固持所述子掩模版；所述至少兩個子掩模版層疊設置，所述層疊設置的至少兩個子掩模版的子掩模圖形構成所述掩模版組的掩模圖形；所述子掩模版上子掩模圖形以外的區域為透光區域；各所述子掩模版的子掩模圖形的垂直投影無重疊；

位置調整機構對至少一個子掩模版進行位置調整，以調整所述掩模版組的掩模圖形，以使所述子掩模圖形的位置姿態與基板上一個曝光場內對應的單元芯片的位置姿態一致；

掩模版組的掩模圖形處于正確的位置后，開始曝光作業。

13.根據權利要求12所述的曝光方法，其特征在于，所述掩模裝置還包括位置檢測機構；所述位置調整機構對子掩模版進行位置調整包括：

所述位置檢測機構檢測所述子掩模版上子掩模圖形的位置信息，并發送給所述位置調整機構；

所述位置調整機構根據所述子掩模圖形的位置信息和待曝光的單元芯片的位置信息調整所述子掩模版的位置。