[發明專利]一種氧化銅介孔納米片的制備方法有效
| 申請號： | 201810775268.0 | 申請日： | 2018-07-16 |
| 公開（公告）號： | CN108585021B | 公開（公告）日： | 2020-02-21 |
| 發明（設計）人： | 劉超;劉沖;紀秀杰;趙陽陽;陳琪玲 | 申請（專利權）人： | 河北工業大學 |
| 主分類號： | C01G3/02 | 分類號： | C01G3/02;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 天津翰林知識產權代理事務所(普通合伙) 12210 | 代理人： | 趙鳳英 |
| 地址： | 300130 天津市紅橋區*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 氧化銅 納米 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種氧化銅介孔納米片的制備方法，其特征為該方法包括以下步驟：
（1）制備20份濃度為0.00045~0.0009摩爾/毫升的乙酸銅水溶液，待用；
（2）制備20份濃度為0.036~0.072克/毫升的氫氧化鈉水溶液，待用；
（3）在攪拌條件下，將步驟(1) (2)中配制的溶液依次加入到回流反應器中，升溫至回流反應溫度，反應1~4小時；
（4）然后將步驟(3)中所得混合物移到高壓反應釜中，密封升溫到120℃~160℃，自生壓力下水熱反應12~36小時；
（5）室溫下原液靜置0~3天，然后水洗，再經抽濾，烘干，得到黑色的氧化銅介孔納米片；
所述的氧化銅介孔納米片的長度為115~192納米，寬度為36~86納米，厚度為8~24納米的納米片，且納米片上分布有孔徑為2~5納米的介孔結構，其BET比表面積為34.7m2/g，孔體積為0.26cm3/g。
2.如權利要求1所述的氧化銅介孔納米片的制備方法，其特征為所述的步驟（3）中的回流反應溫度為100℃。
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