[發(fā)明專利]一種基于調(diào)控ZIF-8薄膜暴露晶面比例的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810771292.7 | 申請日: | 2018-07-13 |
| 公開(公告)號: | CN108892392B | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 田守勤;劉秋芬;吳森偉 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢理工大學(xué) |
| 主分類號: | C03C17/32 | 分類號: | C03C17/32;C08G83/00 |
| 代理公司: | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102 | 代理人: | 唐萬榮 |
| 地址: | 430070 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 調(diào)控 zif 薄膜 暴露 比例 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種基于調(diào)控ZIF?8薄膜暴露晶面比例的方法,包含如下步驟:a、將Zn(OAc)2·2H2O和2?甲基咪唑混合溶解于溶劑中配制ZIF?8溶膠;b、薄膜襯底的清洗;c、ZIF?8溶膠在襯底上旋涂成膜;d、旋涂成膜后的樣品的熱處理。本發(fā)明制備的ZIF?8薄膜因反應(yīng)物(金屬離子與咪唑配體)的摩爾比不同會呈現(xiàn)不同的暴露晶面比例從而吸附、分離和光催化等性能也會有所不同,可根據(jù)實(shí)際需要自由選取比例制備;且制備ZIF?8薄膜的操作方法簡單,設(shè)備要求低,成本低,制備出來的ZIF?8薄膜的穩(wěn)定性和重復(fù)性好。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及薄膜暴露晶面比例調(diào)控領(lǐng)域,具體涉及不同反應(yīng)原料的比例對ZIF-8暴露晶面比例的簡單調(diào)控方法。
背景技術(shù)
沸石咪唑骨架化合物(ZIFs)是金屬有機(jī)骨架化合物(MOFs)的一個子類,該類化合物是由四面體金屬結(jié)點(diǎn)和咪唑連接劑組成。ZIF-8材料是ZIFs中的一種具有廣泛應(yīng)用前景的材料之一。ZIF-8是由Zn2+金屬離子和2-甲基咪唑(2-MeIm)鍵合物為原料,具有方納石拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),與其它ZIFs和MOFs相比,具有較高的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性,并已用于多種分離、吸附和光催化等的應(yīng)用研究。
ZIF-8材料的制備一般在室溫下通過鋅源溶液、2-甲基咪唑配體溶液不同比例相互充分混合并靜置一段時(shí)間,然后經(jīng)過3-5次高速離心洗滌過程,烘干后即可得到ZIF-8粉體,然后進(jìn)行各種方面的研究。
目前已有不少研究ZIF-8材料的,但更多的是關(guān)注的是ZIF-8粉體的研究,目前還未見有關(guān)于ZIF-8薄膜暴露晶面比例調(diào)控的一種簡單方法。
發(fā)明內(nèi)容
基于以上現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明所解決的技術(shù)問題在于提供一種簡單的關(guān)于ZIF-8薄膜暴露晶面比例調(diào)控的方法,采用該方法可以制備出穩(wěn)定性和重復(fù)性較好的不同暴露晶面比例的ZIF-8薄膜。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種基于調(diào)控ZIF-8薄膜暴露晶面比例的方法,包含如下步驟:
a、將Zn(OAc)2·2H2O和2-甲基咪唑混合溶解于溶劑中配制ZIF-8溶膠;
b、薄膜襯底的清洗;
c、ZIF-8溶膠在襯底上旋涂成膜;
d、旋涂成膜后的樣品的熱處理。
作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選,本發(fā)明提供的基于調(diào)控ZIF-8薄膜暴露晶面比例的方法進(jìn)一步包括下列技術(shù)特征的部分或全部:
作為上述技術(shù)方案的改進(jìn),步驟a中所述Zn(OAc)2·2H2O和2-甲基咪唑的摩爾比為1:6~20;所述2-甲基咪唑和溶劑的比例為0.025摩爾:10~25ml。
作為上述技術(shù)方案的改進(jìn),步驟a中所述溶劑選自甲醇。
作為上述技術(shù)方案的改進(jìn),步驟a中所述ZIF-8溶膠的具體配置過程為,將Zn(OAc)2·2H2O和2-甲基咪唑與溶劑混合,室溫?cái)嚢柚辽?4h,得到均勻的白色懸濁液,即ZIF-8溶膠。
作為上述技術(shù)方案的改進(jìn),步驟b中所述的薄膜襯底為FTO導(dǎo)電玻璃,即F摻雜的SnO2導(dǎo)電玻璃;所述清洗過程為先用洗潔精手洗襯底,接著依次采用洗潔精溶液、二用酒精、去離子水以及新酒精超聲清洗,每次超聲時(shí)間為40-60min。
作為上述技術(shù)方案的改進(jìn),所述步驟c所述的旋涂成膜方法如下,將步驟b清洗后的襯底置于旋涂儀平臺上,采用滴管滴加的方式將ZIF-8溶膠均勻涂覆在襯底上,利用旋涂儀的離心力均勻鍍膜。
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