[發明專利]標識制作方法及殼體

在審

• 申請號: 201810756204.6
• 申請日: 2018-07-11
• 公開（公告）號: CN109130561A
• 公開（公告）日: 2019-01-04
• 發明（設計）人: 張永;吳運峰;周建德;唐銘宏;黃孟凱
• 申請（專利權）人: 合肥聯寶信息技術有限公司
• 主分類號: B41M1/28
• 分類號: B41M1/28;B41M1/22;B41M5/382;B41M5/52
• 代理公司: 北京金信知識產權代理有限公司 11225
• 代理人: 黃威;郭迎俠

本發明實施例公開了一種標識制作方法，其包括如下步驟：在金屬基體的整體或局部噴涂形成涂層；選取熱轉印膜，所述熱轉印膜至少包括相貼合的顏色層和電鍍層；利用熱轉印設備將所述熱轉印膜轉印至所述涂層的表面。本發明實施例的標識制作方法通過在金屬陽極層表面增加前制程處理后，再通過熱轉印方式實現標識的高亮效果，使其具有新穎的外觀質感，同時減少制程步驟，提高生產效率。

技術領域

本發明涉及電子設備領域，尤其涉及一種標識制作方法及殼體。

背景技術

在包裝制造行業中，對于外觀圖案的要求越來越豐富，為此多采用轉印的方式，然而傳統的轉印方式在工藝，外觀，環境處理上，均存在一定局限性，尤其針對金屬件無法直接進行轉印，必須通過一定制程處理方可實現。

對于金屬件的外觀設計，越來越多的要求實現一體化，特別是針對局部外觀特征，要求達到無縫隙和無臺階效果，以提高外觀品質及較佳的視覺效果。

為了實現上述較高的外觀品質及較佳的視覺效果，目前主要存在的技術難點為：

1、如何使高亮區域亮度的呈現方式便于批量生產；

2、如何使高亮區域與金屬表面目視無縫隙和臺階制程方式；

3、如何解決高亮區域復雜的外觀特征與設計保持一致；

例如，復雜的字體外觀造型(較窄的自寬和不規則的字體形狀)，多處棱線過度位置尖角，最窄字體寬度僅0.15mm等。

目前針對金屬陽極件主要涉及以下外觀處理方式：

1、激光鐳雕，采用1064nm不可見光，對金屬陽極層進行高溫腐蝕處理；激光鐳雕存在的問題：

1)無手感的情況下(不破除表面氧化層)，無法實現亮面效果；

2)通過破壞氧化層狀況下，鐳雕后會有一定的深度，受高溫腐蝕鐳雕區域表面顆粒感明顯，觸感粗糙；

3)此制程對于產品變形度要求較高，受激光焦點影響，非同一平面鐳雕后表面深度不均，穩定性較差；

4)鐳雕后粉塵對于環境有一定的污染；

綜上，激光雷雕制程無法滿足設計需求。

2、前制程材料處理，主要是針對金屬基材在著色前進行材料物理和化學拋光制程，針對高亮區域在原材上進行拋光及打磨處理，在陽極氧化層工作站使用高亮區域遮蔽處理，最后剝離遮蔽層呈現出高亮區域，使其局部或整體達到高亮效果；前制程材料處理存在的問題：

1)制程工序過于繁瑣，綜合良率低于20％，產能較低，不具備量產性；

2)拋光區域容易出現材料紋；

3)經過多次制程處理導致成本較高；

綜上，該前制程材料處理制程無法滿足設計需求。

3、正面貼附方式，拆分外觀設計，通過組合方式來實現，常見材質SUS(不銹鋼)/PET/PMMA(亞克力)，主要原理是通過凹凸設計在高亮區域使用CNC(數控機床)加工凹槽，增加分體式的料件進行組合；正面貼附方式存在的問題：

1)CNC加工缺陷是無法加工出直角，受限于此制程受加工拐角處出現一定的R角(≥0.15)，已改變原始設計；

2)分體式貼附式必須要預留一定的縫隙，否則無法完成作業，已改變原始設計；

3)受到產品平面度和加工誤差的影響，組合式方式會有一定臺階產生，已改變原始設計；

綜上，該正面貼附方式制程無法滿足設計需求。

發明內容