[發明專利]量子點膜及其制備方法

在審

• 申請號: 201810744892.4
• 申請日: 2018-07-09
• 公開（公告）號: CN109031776A
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: 王允軍;馬卜
• 申請（專利權）人: 蘇州星爍納米科技有限公司
• 主分類號: G02F1/13357
• 分類號: G02F1/13357
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本申請提供了一種量子點膜，所述量子點膜包括：用于發光的量子點層，所述量子點層包括入光面和出光面；沉積在所述入光面和出光面上的無機鍍層，所述無機鍍層用于阻隔水氧；設置在所述無機鍍層上的有機保護層。基于本申請的的量子點膜厚度較小，有利于背光顯示產品的輕薄化設計。

相關申請的交叉引用

本申請要求2017年7月19日提交的題為“量子點膜及其制備方法”的中國專利申請“201710591392.7”的優先權，該申請的全部內容通過引用并入本文中。

技術領域

本申請涉及量子點膜領域，尤其是涉及一種量子點膜及其制備方法。

背景技術

量子點是一種三維尺寸都在1-20納米內的無機半導體納米晶，由于其尺寸小于或接近激子玻爾半徑，量子點具有激發波長范圍寬，粒徑可控、半峰寬窄等優點。

現有量子點背光顯示技術主要可分為基于量子點玻璃管和量子點膜的兩種背光技術。與量子點玻璃管相比，量子點膜更有利于背光顯示產品的輕薄化和窄邊框設計。現有量子點膜一般包括三層結構，量子點層和位于量子點層入光面和出光面兩側的保護層。保護層一般為具有水氧阻隔能力的PET基材膜，而現有常用量子點膜中PET基材膜的厚度一般大于50微米，導致量子點膜的厚度較大。

發明內容

針對上述技術問題，本申請旨在提供一種量子點膜及其制備方法，以解決量子點膜厚度較大的缺點。

本申請的一方面在于提供一種量子點膜，所述量子點膜包括：用于發光的量子點層，所述量子點層包括入光面和出光面；沉積在所述入光面和出光面上的無機鍍層，所述無機鍍層用于阻隔水氧；設置在所述無機鍍層上的有機保護層。

優選地，所述量子點層包括聚合物基質、均勻分散在所述聚合物基質中的量子點和光散射粒子。

優選地，所述量子點層和所述無機鍍層之間設置有一層平滑涂層，所述平滑涂層的表面粗糙度小于10納米。

優選地，所述無機鍍層的厚度在5-400納米。

優選地，所述無機鍍層包括氧化鋁、氮化鋁、氮氧化鋁、氧化鈦、氮化鈦、氮氧化鈦、氧化鋯、氮化鋯、氮氧化鋯、氧化硅、碳化硅、氮氧化硅、石墨烯中的至少一種。

優選地，所屬無機鍍層的設置方法包括噴射、濺射、蒸鍍、真空沉積、等離子增強化學氣相沉積或者原子層沉積。

優選地，所述有機保護層的厚度在0.5-20微米。

優選地，有機保護層包括聚硅樹脂、聚環氧樹脂、聚氨酯、聚碳酸酯、聚氟樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲醛、聚乙烯、聚偏氯乙烯、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚四氟乙烯、聚乙烯醇丁縮醛、聚丙烯、聚酰胺、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、或聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚丙烯酸酯、聚苯乙烯丙烯腈樹脂、聚哥倫比亞樹脂、聚CR-39樹脂、聚OZ系列樹脂、聚TS-26樹脂、聚APO樹脂、聚MR樹脂、聚MH樹脂、聚NAS樹脂、聚ADC樹脂、聚TOPAS樹脂、聚ARTON樹脂中至少一種。

本申請的另一方面在于提供一種量子點膜的制備方法，包括如下過程：步驟S1、制備預定厚度的量子點層；步驟S2、在所述量子點層的入光面和出光面上分別沉積一層無機鍍層無機鍍層；S3、在所述無機鍍層的表面設置一層有機保護層，得到所述量子點膜。

優選地，所述步驟S1包括如下過程：在惰性氣氛下，將量子點膠液涂布在離型膜上，接著固化量子點膠液，剝離離型膜得到量子點層。

本申請具有以下有益效果：本申請提供了一種水氧阻隔能力好的量子點膜及其制備方法，通過調節無機鍍層和有機保護層的厚度可以有效的減小量子點膜的厚度。

附圖說明