[發明專利]量子點膜及其制備方法

在審

• 申請號: 201810744892.4
• 申請日: 2018-07-09
• 公開（公告）號: CN109031776A
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: 王允軍;馬卜
• 申請（專利權）人: 蘇州星爍納米科技有限公司
• 主分類號: G02F1/13357
• 分類號: G02F1/13357
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種量子點膜，其特征在于，所述量子點膜包括：

用于發光的量子點層，所述量子點層包括入光面和出光面；

沉積在所述入光面和出光面上的無機鍍層，所述無機鍍層用于阻隔水氧；

設置在所述無機鍍層上的有機保護層。

2.根據權利要求1所述的量子點膜，其特征在于，所述量子點層包括聚合物基質、均勻分散在所述聚合物基質中的量子點和光散射粒子。

3.根據權利要求1所述的量子點膜，其特征在于，所述量子點層和所述無機鍍層之間設置有一層平滑涂層，所述平滑涂層的表面粗糙度小于10納米。

4.根據權利要求1所述的量子點膜，其特征在于，所述無機鍍層的厚度在5-400納米。

5.根據權利要求1所述的量子點膜，其特征在于，所述無機鍍層包括氧化鋁、氮化鋁、氮氧化鋁、氧化鈦、氮化鈦、氮氧化鈦、氧化鋯、氮化鋯、氮氧化鋯、氧化硅、碳化硅、氮氧化硅、石墨烯中的至少一種。

6.根據權利要求1所述的量子點膜，其特征在于，沉積所述無機鍍層的方法包括噴射、濺射、蒸鍍、真空沉積、等離子增強化學氣相沉積或者原子層沉積。

7.根據權利要求1所述的量子點膜，其特征在于，所述有機保護層的厚度在0.5-20微米。

8.根據權利要求1所述的量子點膜，其特征在于，有機保護層包括聚硅樹脂、聚環氧樹脂、聚氨酯、聚碳酸酯、聚氟樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲醛、聚乙烯、聚偏氯乙烯、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚四氟乙烯、聚乙烯醇丁縮醛、聚丙烯、聚酰胺、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、或聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚丙烯酸酯、聚苯乙烯丙烯腈樹脂、聚哥倫比亞樹脂、聚CR-39樹脂、聚OZ系列樹脂、聚TS-26樹脂、聚APO樹脂、聚MR樹脂、聚MH樹脂、聚NAS樹脂、聚ADC樹脂、聚TOPAS樹脂、聚ARTON樹脂中至少一種。

9.一種量子點膜的制備方法，其特征在于，包括如下過程：步驟S1、制備預定厚度的量子點層；步驟S2、在所述量子點層的入光面和出光面上分別沉積一層無機鍍層；S3、在所述無機鍍層的表面設置一層有機保護層，得到所述量子點膜。

10.根據權利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S1包括如下過程：在惰性氣氛下，將量子點膠液涂布在離型膜上，接著固化量子點膠液，剝離離型膜得到量子點層。