[發(fā)明專利]用于半導(dǎo)體封裝元件解封的腐蝕液組合物在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810738359.7 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108899276A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-11-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳一;陳慨;王娟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 無(wú)錫通芝微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/311 | 分類號(hào): | H01L21/311;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 林斯凱 |
| 地址: | 214028 江蘇省無(wú)錫市高新*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體封裝元件 腐蝕液組合物 解封 打線結(jié)構(gòu) 發(fā)煙硝酸 封裝材料 強(qiáng)度測(cè)定 芯片表面 濃硫酸 體積比 線結(jié)構(gòu) 包覆 焊線 刻蝕 去除 申請(qǐng) 暴露 清晰 | ||
1.一種用于半導(dǎo)體封裝元件解封的腐蝕液組合物,其中,所述腐蝕液組合物由發(fā)煙硝酸與濃硫酸依照體積比為約5:1的比例組成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腐蝕液組合物,其中所述濃硫酸中的硫酸濃度至少為98%以上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腐蝕液組合物,其中所述發(fā)煙硝酸中的硝酸濃度至少為95%以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腐蝕液組合物,其中所述半導(dǎo)體封裝元件中的打線的主要材料為銅。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的腐蝕液組合物,其中所述打線的寬度為約25μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腐蝕液組合物,其中所述半導(dǎo)體封裝元件中的包覆層包括環(huán)氧樹脂。
7.一種半導(dǎo)體封裝元件解封方法,其包括將半導(dǎo)體封裝元件浸入腐蝕液組合物中,所述腐蝕液組合物由發(fā)煙硝酸與濃硫酸依照體積比為約5:1的比例組成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其進(jìn)一步包括先將所述腐蝕液組合物加熱到90℃-100℃。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中將所述半導(dǎo)體封裝元件浸入所述腐蝕液組合物中的浸泡時(shí)間為1分鐘至5分鐘。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其進(jìn)一步包括在將所述半導(dǎo)體封裝元件浸入所述腐蝕液組合物中的步驟前,打磨所述半導(dǎo)體封裝元件的窗口。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其進(jìn)一步包括:在將所述半導(dǎo)體封裝元件浸入所述腐蝕液組合物中的步驟后,使用常溫發(fā)煙硝酸清洗所述半導(dǎo)體封裝元件;隨后將所述半導(dǎo)體封裝元件依序通過(guò)第一次清水清洗、超音波清洗及第二次清水清洗。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其進(jìn)一步包括將清洗后的所述半導(dǎo)體封裝元件通過(guò)脫水劑進(jìn)行脫水。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





