[發(fā)明專利]一種防清潔死角的太陽能電池晶體硅清洗裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810737315.2 | 申請日: | 2018-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN108899293A | 公開(公告)日: | 2018-11-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉宏;王春定;龔志國;姚學(xué)森;劉柏林 | 申請(專利權(quán))人: | 天長市百盛半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司: | 合肥市長遠(yuǎn)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 34119 | 代理人: | 傅磊 |
| 地址: | 239300 安徽省滁州市天長*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 側(cè)板 底板 托盤 高壓氣流 夾腔 水槽 太陽能電池 第一滑塊 供給機(jī)構(gòu) 清潔死角 清洗裝置 晶體硅 托盤組 滑槽 連通 可拆卸連接 第二滑塊 清洗死角 清洗效果 相對布置 鏤空結(jié)構(gòu) 內(nèi)側(cè)壁 側(cè)壁 卡槽 位柱 預(yù)留 | ||
1.一種防清潔死角的太陽能電池晶體硅清洗裝置,其特征在于,包括:水槽(1)、托盤組、以及用于提供高壓氣流的高壓氣流供給機(jī)構(gòu)(2),其中:
水槽(1)的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有豎直延伸的第一滑槽和與第一滑槽相對布置的第二滑槽;
托盤組包括至少一個(gè)托盤(3),且托盤(3)的一側(cè)設(shè)有用于卡入第一滑槽內(nèi)的第一滑塊,其遠(yuǎn)離第一滑塊的一側(cè)設(shè)有用于卡入第二滑槽內(nèi)的第二滑塊;
托盤(3)包括底板(31)和若干個(gè)側(cè)板(32),底板(31)為鏤空結(jié)構(gòu),底板(31)的下方設(shè)有豎直布置并與其固定的限位柱(4),各側(cè)板(32)均固定在底板(31)的上方并在任意相鄰的兩個(gè)側(cè)板(32)之間預(yù)留間距以形成供工件放入的卡槽;各側(cè)板(32)的內(nèi)均均設(shè)有夾腔(a),且各側(cè)板(32)上的夾腔(a)通過管路(5)彼此連通;任意相鄰的兩個(gè)側(cè)板(32)相互靠近的一側(cè)側(cè)壁上均設(shè)有與其夾腔(a)連通的氣孔(b);
高壓氣流供給機(jī)構(gòu)(2)與所述管路(5)可拆卸連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防清潔死角的太陽能電池晶體硅清洗裝置,其特征在于,管路(5)包括主管若干個(gè)與主管連通的支管,各支管與各側(cè)板(32)的夾腔(a)一一對應(yīng)并分別與對應(yīng)的夾腔(a)連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的防清潔死角的太陽能電池晶體硅清洗裝置,其特征在于,任意一個(gè)支管均通過可自動(dòng)控制開合度的控制閥與對應(yīng)的夾腔(a)連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的防清潔死角的太陽能電池晶體硅清洗裝置,其特征在于,任意一個(gè)側(cè)板(32)的兩側(cè)側(cè)壁上均分別安裝有用于檢測卡槽內(nèi)的工件是否與側(cè)板(32)的側(cè)壁抵靠的傳感器,且當(dāng)其中任意一個(gè)傳感器檢測到工件與側(cè)板(32)的側(cè)壁抵靠時(shí),與該側(cè)板(32)對應(yīng)的控制閥控制其開合度增大。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防清潔死角的太陽能電池晶體硅清洗裝置,其特征在于,卡槽的兩端均設(shè)有與底板(31)固定的擋板(6),且擋板(6)為鏤空結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的防清潔死角的太陽能電池晶體硅清洗裝置,其特征在于,卡槽內(nèi)部設(shè)有多個(gè)與底板(31)固定的擋板(6),各擋板(6)均為鏤空結(jié)構(gòu),且各擋板(6)在卡槽內(nèi)部由其一端向其另一端間距布置以將卡槽分隔成多個(gè)槽腔。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的防清潔死角的太陽能電池晶體硅清洗裝置,其特征在于,托盤(3)設(shè)有多個(gè),且任意一個(gè)托盤(3)的上盤面上均設(shè)有限位槽,且該限位槽與該托盤(3)上的限位柱(4)位于同一直線上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的防清潔死角的太陽能電池晶體硅清洗裝置,其特征在于,高壓氣流供給機(jī)構(gòu)(2)固定安裝在水槽(1)的外壁上。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





