[發(fā)明專利]液體噴射頭、液體噴射設(shè)備和液體供應(yīng)方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810733947.1
• 申請日: 2018-07-06
• 公開（公告）號: CN109203716B
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 中川喜幸
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: B41J2/18
• 分類號: B41J2/18
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 林振波

本發(fā)明涉及液體噴射頭、液體噴射設(shè)備和液體供應(yīng)方法。液體噴射頭(3)包括記錄元件基板，記錄元件基板包括：用于噴射液體的噴射孔(13)；壓力室(23)，其設(shè)置有能量產(chǎn)生元件(15)，以產(chǎn)生用于噴射液體的能量；液體供應(yīng)路徑(18)，用于將液體供應(yīng)給壓力室；和液體收集路徑(19)，用于從壓力室收集液體。記錄元件基板的液體供應(yīng)路徑、壓力室和液體收集路徑構(gòu)成了液體依此順序流動的循環(huán)路徑的一部分。包括供應(yīng)側(cè)液體供應(yīng)路徑的流路的流動阻力R_In大于包括收集側(cè)液體收集路徑的流路的流動阻力R_Out。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及液體噴射頭、液體噴射設(shè)備和液體供應(yīng)方法。

背景技術(shù)

在噴射液體(例如墨)的液體噴射設(shè)備的液體噴射頭中，液體中的揮發(fā)性組分從噴射液體的噴射孔中蒸發(fā)，因此噴射孔附近的液體粘度增加。由于這種粘度增加，因此產(chǎn)生了噴射液滴的噴射速度改變或影響噴射液滴著落精度的問題。特別是，當(dāng)噴射液體后停機時間較長時，液體粘度增加變得尤為顯著，液體中的固體組分粘附到噴射孔附近，并且由于固體組分粘附而導(dǎo)致流動阻力增大，這會導(dǎo)致噴射不良。

作為應(yīng)對液體粘度增加的對策，已知一種方法是形成通過液體噴射頭的循環(huán)路徑以使液體循環(huán)。日本專利申請?zhí)亻_No.2002﹣355973公開了一種液體噴射頭，該液體噴射頭配置成利用形成在設(shè)置有噴射孔的構(gòu)件與設(shè)置有液體噴射用能量產(chǎn)生元件(例如，加熱器)的基板之間的流路使液體墨循環(huán)。根據(jù)這樣的液體噴射頭，由于即使在不噴射期間液體也流動，因此抑制了液體中的揮發(fā)性組分從噴射孔蒸發(fā)，這有助于防止噴射孔堵塞。

此外，在即使液體循環(huán)時液體粘度也會增加的情況中，有一種方法是通過用加熱器等加熱噴射孔附近以便以低粘度噴射液體。

在日本專利申請?zhí)亻_No.2002﹣355973描述的構(gòu)造中，當(dāng)不噴射液體時，通過壓力室供應(yīng)側(cè)(進入側(cè))和收集側(cè)(排出側(cè))之間的壓差來形成從壓力室供應(yīng)側(cè)流入壓力室并且從壓力室收集側(cè)流出的循環(huán)流，壓力室設(shè)置有能量產(chǎn)生元件并且與噴射孔連通。相反，當(dāng)噴射液體時，液體從供應(yīng)側(cè)和收集側(cè)兩側(cè)流入壓力室中，并引導(dǎo)到噴射孔。此時，為了形成循環(huán)流，供應(yīng)側(cè)壓力高于收集側(cè)壓力。從液體朝向壓力室流動的供應(yīng)側(cè)供應(yīng)的液體量較多，與發(fā)自壓力室的液體流動相反的從收集側(cè)供應(yīng)的液體量較少。通常，液體噴射量大于循環(huán)量，并且在很多情況下在流入設(shè)置有能量產(chǎn)生元件的壓力室之前的供應(yīng)側(cè)液體溫度低于在通過設(shè)有能量產(chǎn)生元件的壓力室之后的收集側(cè)液體溫度。因此，從供應(yīng)側(cè)供應(yīng)的低溫液體量非常大，并且要求當(dāng)通過用加熱器等加熱噴射孔附近以降低液體粘度時通過快速加熱壓力室內(nèi)部來迅速升高液體溫度，從而需要大量電力。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于上述問題，本發(fā)明旨在提供液體噴射頭、液體噴射設(shè)備和液體供應(yīng)方法，可以減少針對循環(huán)通過液體噴射頭并且噴射到外部的液體進行溫度調(diào)節(jié)所需的電力。

根據(jù)本發(fā)明的液體噴射頭包括：記錄元件基板，其包括用于噴射液體的噴射孔；壓力室，其設(shè)置有能量產(chǎn)生元件，以產(chǎn)生用于噴射液體的能量；液體供應(yīng)路徑，其用于將液體供應(yīng)給壓力室；和液體收集路徑，其用于從壓力室收集液體，其中，記錄元件基板的液體供應(yīng)路徑、壓力室和液體收集路徑構(gòu)成了液體按此順序流動的循環(huán)路徑的一部分，并且包括供應(yīng)側(cè)液體供應(yīng)路徑的流路的流動阻力R_In大于包括收集側(cè)液體收集路徑的流路的流動阻力R_Out。

從以下參照附圖對示例性實施例的描述中，本發(fā)明的其他特征將變得明顯。

附圖說明

圖1是示出根據(jù)本發(fā)明第一應(yīng)用例的液體噴射設(shè)備的示意性構(gòu)造的立體圖；

圖2是示出圖1所示液體噴射設(shè)備的第一循環(huán)路徑的視圖；

圖3是示出圖1所示液體噴射設(shè)備的第二循環(huán)路徑的視圖；

圖4A和圖4B是示出根據(jù)本發(fā)明第一應(yīng)用例的液體噴射頭的立體圖；

圖5是圖4A和4B所示液體噴射頭的分解立體圖；