[發明專利]液體噴射頭、液體噴射設備和液體供應方法

有效

• 申請號: 201810733947.1
• 申請日: 2018-07-06
• 公開（公告）號: CN109203716B
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 中川喜幸
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: B41J2/18
• 分類號: B41J2/18
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 林振波

1.一種液體噴射頭，包括：

記錄元件基板，其包括：用于噴射液體的噴射孔；壓力室，其設置有能量產生元件，以產生用于噴射液體的能量；液體供應路徑，其用于將液體供應給壓力室；和液體收集路徑，其用于從壓力室收集液體，

其中，記錄元件基板的液體供應路徑、壓力室和液體收集路徑構成了液體依此順序流動的循環路徑的一部分，

包括供應側液體供應路徑的流路的流動阻力R_In大于包括收集側液體收集路徑的流路的流動阻力R_Out，

當P_Noz表示在噴射液體時噴射孔一部分的毛細管力，P_In表示供應側流路壓力，ΔP_in表示毛細管力P_Noz與供應側流路壓力P_In之間的壓差，P_Out表示收集側流路壓力，ΔP_Out表示毛細管力P_Noz和收集側流路壓力P_Out之間的壓差時，滿足0.8≤(ΔP_in/R_In)/(ΔP_Out/R_Out)≤1.2的關系。

2.根據權利要求1所述的液體噴射頭，

其中，供應側流路流動阻力R_In是將液體供應路徑與從液體供應路徑到噴射孔的流路組合而成流路的流動阻力，收集側流路流動阻力R_Out是將從噴射孔到液體收集路徑的流路與液體收集路徑組合而成流路的流動阻力。

3.根據權利要求1所述的液體噴射頭，

其中，滿足(ΔP_in/R_In)/(ΔP_Out/R_Out)＝1.0的關系。

4.根據權利要求1或2所述的液體噴射頭，

其中，供應側流路的至少一部分的寬度小于收集側流路的寬度。

5.根據權利要求1或2所述的液體噴射頭，

其中，供應側流路長度比收集側流路長度長。

6.根據權利要求1或2所述的液體噴射頭，

其中，供應側流路的至少一部分的高度低于收集側流路高度。

7.根據權利要求1或2所述的液體噴射頭，

其中，供應側流路設置的噴嘴過濾器比收集側流路設置的噴嘴過濾器大。

8.根據權利要求1或2所述的液體噴射頭，

其中，液體供應路徑具有的供應口小于液體收集路徑的收集口。

9.根據權利要求1或2所述的液體噴射頭，

其中，循環通過壓力室的液體的流速介于0.1mm/s至100mm/s之間。

10.根據權利要求1或2所述的液體噴射頭，

其中，液體噴射頭是頁寬式液體噴射頭，在頁寬式液體噴射頭中多個記錄元件基板直線排列。

11.根據權利要求1或2所述的液體噴射頭，

其中，壓力室中的液體在壓力室和壓力室外部之間循環。

12.一種液體噴射設備，包括：

根據權利要求1或2所述的液體噴射頭；和

傳送單元，其在面向液體噴射頭的位置處支撐并傳送記錄介質。