[發明專利]基板處理裝置及元件制造方法

有效

• 申請號: 201810732338.4
• 申請日: 2016-02-26
• 公開（公告）號: CN108919610B
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 鈴木智也;奈良圭;加藤正紀;渡辺智行;鬼頭義昭;堀正和;林田洋祐;小宮山弘樹
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王天堯;湯在彥

1.一種基板處理裝置，其使基板往與寬度方向交叉的搬送方向移動，將根據描繪數據而調變強度后的描繪光束，一邊投射至前述基板上一邊于前述寬度方向進行掃描以于前述基板上描繪圖案，該基板處理裝置具備：

基板搬送機構，一邊支承前述基板、一邊將前述基板以既定速度往前述搬送方向搬送；

描繪裝置，具有排列于前述寬度方向的多個描繪模塊，前述多個描繪模塊沿著將投射于前述基板的前述描繪光束于較前述基板的寬度窄的范圍遠心地掃描于前述寬度方向而得到的描繪線將既定圖案描繪于前述基板上，前述描繪裝置在將前述多個描繪模塊的各個依前述寬度方向的排列順序設為奇數號與偶數號時，以通過彼此相鄰的前述奇數號的描繪模塊的描繪線與前述偶數號的描繪模塊的描繪線的各個而描繪于前述基板上的圖案彼此在前述基板寬度方向相接合的方式，前述奇數號的描繪線與前述偶數號的描繪線于前述搬送方向相隔既定間隔配置，并且從前述寬度方向觀察時，前述奇數號的描繪模塊與前述偶數號的描繪模塊隔著前述既定的間隔而對稱地配置，借此，使沿著前述奇數號的描繪線的前述描繪光束的掃描方向，與沿著前述偶數號的描繪線的前述描繪光束的掃描方向為相反方向；

基板速度檢測裝置，檢測出前述基板的搬送速度的變化；

傾斜調整機構，用以調整前述奇數號的描繪線與前述偶數號的描繪線的各個相對于前述基板寬度方向的相對傾斜；以及

控制裝置，和以前述基板速度檢測裝置檢測出的前述搬送速度的變化相應地控制前述傾斜調整機構。

2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其中，前述控制裝置，在以前述基板速度檢測裝置檢測出的前述搬送速度較既定的基準速度快時，控制前述傾斜調整機構，使前述奇數號與前述偶數號的各個的前述描繪線的描繪開始側位于較前述基準速度的前述描繪線的描繪開始側在前述搬送方向上游側，使前述奇數號與前述偶數號的各個的前述描繪線的描繪結束側位于較前述基準速度的前述描繪線的描繪結束側在前述搬送方向下游側。

3.如權利要求1所述的基板處理裝置，其中，前述控制裝置，在以前述基板速度檢測裝置檢測出的前述搬送速度較既定的基準速度慢時，控制前述傾斜調整機構，使前述奇數號與前述偶數號的各個的前述描繪線的描繪開始側位于較前述基準速度的前述描繪線的描繪開始側在前述搬送方向下游側，使前述奇數號與前述偶數號的各個的前述描繪線的描繪結束側位于較前述基準速度的前述描繪線的描繪結束側在前述搬送方向上游側。

4.如權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其中，前述多個描繪模塊的各個，具有為了在沿著前述描繪線的一方向掃描前述描繪光束的期間中進行前述圖案的描繪動作而產生根據前述圖案的描繪數據調變強度后的前述描繪光束的調變器，與將前述描繪光束沿著前述描繪線一維掃描的掃描器。

5.如權利要求4所述的基板處理裝置，其中，前述描繪裝置具備保持前述多個描繪模塊的平臺；

前述傾斜調整機構包含旋轉機構，該旋轉機構以包含以前述多個描繪模塊的各個形成的前述描繪線的描繪面內的既定點為中心，在前述描繪面內使前述平臺旋轉。

6.如權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其中，前述描繪裝置包含保持前述多個描繪模塊的平臺；

前述傾斜調整機構包含旋轉機構，該旋轉機構以包含以前述多個描繪模塊形成的各前述描繪線的描繪面內的既定點為中心，在前述描繪面內使前述平臺旋轉；

前述控制裝置，和以前述基板速度檢測裝置檢測出的前述搬送速度的變化相應地驅動控制前述旋轉機構。

7.如權利要求6所述的基板處理裝置，其中，前述控制裝置，以由在前述寬度方向彼此相鄰的前述奇數號的描繪線與前述偶數號的描繪線的各個所描繪的圖案彼此的接合部，在前述旋轉機構所致的前述平臺的旋轉后亦在前述搬送方向或前述寬度方向中于前述基板上為同一位置的方式，修正前述描繪模塊的各個的描繪時點。