[發(fā)明專利]基板處理裝置及元件制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810732338.4 | 申請(qǐng)日: | 2016-02-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108919610B | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鈴木智也;奈良圭;加藤正紀(jì);渡辺智行;鬼頭義昭;堀正和;林田洋祐;小宮山弘樹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社尼康 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 王天堯;湯在彥 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 元件 制造 方法 | ||
一種基板處理裝置,具備:旋轉(zhuǎn)圓筒DR,以既定速度往與基板P寬度方向交叉的搬送方向搬送;描繪裝置11,具有多個(gè)描繪模塊UW1~UW5,將投射于基板P的描繪光束沿著基板P的描繪線掃描以將既定圖案描繪于基板P上,以通過多個(gè)描繪模塊UW1~UW5的各個(gè)而描繪于基板P上的圖案彼此在寬度方向相接合的方式,將彼此在寬度方向相鄰的描繪線于搬送方向配置成相隔既定間隔;調(diào)整機(jī)構(gòu)24,調(diào)整描繪線相對(duì)于基板P寬度方向的傾斜;以及旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu),檢測(cè)出基板P的搬送速度;根據(jù)以旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)出的搬送速度,通過旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)24調(diào)整描繪線的相對(duì)傾斜。
本發(fā)明是申請(qǐng)日為2016年02月26日、申請(qǐng)?zhí)枮?01680006570.9、發(fā)明名稱為“基板處理裝置、元件制造系統(tǒng)及元件制造方法”的分案申請(qǐng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于基板處理裝置及元件制造方法。
背景技術(shù)
以往,作為基板處理裝置,已知有一種對(duì)片狀媒體(基板)上的既定位置進(jìn)行描繪的掃描式描繪裝置(參照例如文獻(xiàn)1)。掃描式描繪裝置具備描繪臺(tái)、激光光源、光調(diào)變器、以及掃描光學(xué)系。描繪臺(tái)在載置有媒體的狀態(tài)搬送于搬送方向(副掃描方向)。激光光源往光調(diào)變器照射激光。光調(diào)變器例如使用聲光調(diào)變?cè)?AOM:Acousto Optic Modulator),將從激光源照射的激光予以調(diào)變。光調(diào)變器,在被切換成ON后,通過繞射使激光偏向,將激光投射于媒體上。另一方面,光調(diào)變器,在被切換成OFF后,不使激光偏向而成為不將激光投射于媒體上的狀態(tài)。掃描光學(xué)系,將從光調(diào)變器射出的激光從媒體上的掃描開始端至掃描結(jié)束端為止沿著既定掃描線掃描于掃描方向。接著,掃描式描繪裝置,一邊通過描繪臺(tái)使媒體搬送于副掃描方向、一邊以光調(diào)變器調(diào)變激光,通過使以掃描光學(xué)系調(diào)變后的激光的點(diǎn)光掃描于掃描方向,以對(duì)媒體進(jìn)行描繪。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2000-227661號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明解決的技術(shù)問題
此外,作為描繪對(duì)象的基板,會(huì)伴隨元件大型化而變大。若基板變大,描繪于基板的圖案亦變大。此處,專利文獻(xiàn)1的掃描式描繪裝置,由于系以一條掃描線進(jìn)行描繪,因此在描繪于基板的圖案變大的情形時(shí),激光的點(diǎn)光所形成的掃描線變長(zhǎng)。然而,專利文獻(xiàn)1的掃描式描繪裝置,由于掃描線長(zhǎng)度有其極限,因此描繪于基板的圖案的大小受到掃描線長(zhǎng)度限制。
因此,可考量以多條掃描線(描繪線)將圖案描繪于基板的所謂多光束型的描繪方式。此種多光束型描繪方式,將多條描繪線于掃描線的方向排列配置,通過將以各掃描線形成的各個(gè)圖案在與基板的搬送方向正交的寬度方向相接合,而能對(duì)基板描繪較大圖案。
即使多光束型描繪方式,由于亦一邊將基板搬送于搬送方向、一邊以多條描繪線將圖案描繪于基板,因此從各描繪線的描繪開始位置描繪至描繪結(jié)束位置的圖案,于基板的搬送速度產(chǎn)生速度不均等的情形時(shí),描繪開始位置與描繪結(jié)束位置會(huì)在搬送方向以微米等級(jí)的差異位于不同位置。因此,可能產(chǎn)生在基板寬度方向相鄰的圖案彼此的相接合精度惡化的現(xiàn)象、亦即產(chǎn)生接合誤差。
本發(fā)明的實(shí)施態(tài)樣,有鑒于上述問題點(diǎn),即使連結(jié)有多條描繪線的多光束型的描繪方式,亦可良好地減低在基板寬度方向相接合的圖案彼此的接合誤差。
解決問題采用的技術(shù)手段
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G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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