[發明專利]導電層疊結構及其制備方法、顯示面板和顯示裝置

有效

• 申請號: 201810703635.6
• 申請日: 2018-06-30
• 公開（公告）號: CN108958545B
• 公開（公告）日: 2020-07-17
• 發明（設計）人: 張偉;黃華;張曉龍
• 申請（專利權）人: 廣州國顯科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;H01B5/14;H01B13/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 周耀君

本發明揭示了一種導電層疊結構及其制備方法、顯示面板和顯示裝置。本發明提供的導電層疊結構及其制備方法中，包括基底；以及位于所述基底上的納米金屬線層，所述納米金屬線層摻雜有不含光引發劑的光學透明樹脂。由此，不僅可以提高納米金屬線層的附著力，防止剝離現象發生，還可以提高納米金屬線層抗紫外線能力。

技術領域

本發明涉及納米金屬線材料及其應用領域，特別是涉及一種導電層疊結構及其制備方法、顯示面板和顯示裝置。

背景技術

透明導體因其可以應用于諸如觸控面板(touch panel)、液晶顯示器(liquidcrystal display)、薄膜光電池(thin film photo voltaic cells)及有機發光二極管器件(organic light emitting diode devices)等領域，其需求量逐年增長。

目前，透明導電材料以氧化銦錫(indiumtin oxide，ITO)為主，其具有優異的透光率及導電性。但是，這類透明導電材料通常利用濺射工藝沉積而成，制備溫度高，并且其中含有稀缺性金屬使得價格昂貴，這類薄膜受彎折時還容易斷裂，因而不適于制備柔性器件，這就導致ITO的性能以及產量存在諸多限制。因此，業界提出了納米金屬線如納米銀線(Silver Nano Wires，SNW)1(如圖3所示)，以替代ITO作為導電材料制備的透明導體。與ITO相比，納米金屬線不僅具有良好的光學、電學以及力學性能，還具有金屬納米線表面積大和量子尺寸效應等特點。但是，目前納米金屬線的附著性較差。

發明內容

本發明的目的在于，提供一種導電層疊結構及其制備方法、顯示面板和顯示裝置，以提高納米金屬線的附著性，并提高納米金屬線層抗紫外線能力。

為解決上述技術問題，本發明提供一種導電層疊結構，包括：

基底；以及

位于所述基底上的納米金屬線層，所述納米金屬線層摻雜有不含光引發劑的光學透明樹脂。

可選地，對于所述的導電層疊結構，所述不含光引發劑的光學透明樹脂的介電常數介于3～4.5之間。

可選地，對于所述的導電層疊結構，所述不含光引發劑的光學透明樹脂為單組分聚氨酯泡沫。

可選地，對于所述的導電層疊結構，所述導電層疊結構還包括：走線層，所述走線層設置在所述納米金屬線層上。

可選地，對于所述的導電層疊結構，所述基底經過等離子體處理。

本發明還提供一種導電層疊結構的制備方法，包括：

提供一基底；以及

在所述基底上形成納米金屬線層，所述納米金屬線層摻雜有不含光引發劑的光學透明樹脂。

可選地，對于所述的導電層疊結構的制備方法，在所述基底上形成納米金屬線層，所述納米金屬線層摻雜有不含光引發劑的光學透明樹脂的步驟包括：

在所述基底上涂布納米金屬線溶液；

在涂布有納米金屬線溶液的所述基底上涂布光學透明樹脂，所述光學透明樹脂與所述納米金屬線溶液的體積比為2:1～3:1；以及

加熱并冷卻以進行固化，獲得所述納米金屬線層。

可選地，對于所述的導電層疊結構的制備方法，獲得所述納米金屬線層之后，還包括：

對所述納米金屬線層進行圖案化；以及

在圖案化的所述納米金屬線層上邊緣處設置走線層。

可選地，對于所述的導電層疊結構的制備方法，提供基底之后，在所述基底上形成納米金屬線層之前，還包括：

對所述基底進行等離子體處理。