[發明專利]導電層疊結構及其制備方法、顯示面板和顯示裝置

有效

• 申請號: 201810703635.6
• 申請日: 2018-06-30
• 公開（公告）號: CN108958545B
• 公開（公告）日: 2020-07-17
• 發明（設計）人: 張偉;黃華;張曉龍
• 申請（專利權）人: 廣州國顯科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;H01B5/14;H01B13/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 周耀君

1.一種導電層疊結構，其特征在于，包括：

基底，所述基底經過等離子體處理，所述等離子體處理采用氮氣和壓縮空氣，所述氮氣和所述壓縮空氣的體積比為450：1～550：1，所述基底與等離子體發射端的距離為5～10mm，所述等離子體發射端在平行于所述基底頂表面所在平面相對橫移時的移動速率為20mm/s～30mm/s，清潔時間為5～10s；以及

位于所述基底上的納米金屬線層，所述納米金屬線層摻雜有不含光引發劑的光學透明樹脂，所述不含光引發劑的光學透明樹脂的介電常數介于3～4.5之間，所述不含光引發劑的光學透明樹脂為單組分聚氨酯泡沫。

2.如權利要求1所述的導電層疊結構，其特征在于，所述導電層疊結構還包括：走線層，所述走線層設置在所述納米金屬線層上。

3.一種導電層疊結構的制備方法，其特征在于，包括：

提供一基底，對所述基底進行等離子體處理，所述等離子體處理采用氮氣和壓縮空氣，所述氮氣和所述壓縮空氣的體積比為450：1～550：1，所述基底與等離子體發射端的距離為5～10mm，所述等離子體發射端在平行于所述基底頂表面所在平面相對橫移時的移動速率為20mm/s～30mm/s，清潔時間為5～10s；以及

在所述基底上形成納米金屬線層，所述納米金屬線層摻雜有不含光引發劑的光學透明樹脂，所述不含光引發劑的光學透明樹脂的介電常數介于3～4.5之間，所述不含光引發劑的光學透明樹脂為單組分聚氨酯泡沫。

4.如權利要求3所述的導電層疊結構的制備方法，其特征在于，在所述基底上形成納米金屬線層的步驟包括：

在所述基底上涂布納米金屬線溶液；

在涂布有納米金屬線溶液的所述基底上涂布光學透明樹脂，所述光學透明樹脂與所述納米金屬線溶液的體積比為2:1～3:1；以及

加熱并冷卻以進行固化，獲得所述納米金屬線層。

5.一種顯示面板，其特征在于，包括：

蓋板；

膠層；以及

如權利要求1至2中任一項所述的導電層疊結構，所述膠層粘結所述蓋板和所述導電層疊結構。

6.一種顯示裝置，其特征在于，包括：

如權利要求1至2中任一項所述的導電層疊結構。