[發明專利]互連線結構、顯示基板及其制作方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 201810703265.6
• 申請日: 2018-06-30
• 公開（公告）號: CN108899328A
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發明（設計）人: 胡坤;李亞龍;喬貴洲
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L27/32;H01L23/532;H01L21/768;B82Y30/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 智云

1.一種互連線結構，其特征在于，所述互連線結構包括相互連接的第一區域和第二區域，所述第二區域的應力大于所述第一區域的應力，所述第一區域包括導電線，所述第二區域包括納米金屬線。

2.如權利要求1所述的互連線結構，其特征在于，所述互連線結構為折線結構，所述第二區域位于折線的拐點處。

3.如權利要求1或2所述的互連線結構，其特征在于，所述第二區域的應力為所述第一區域的應力的1.2倍以上。

4.如權利要求1或2所述的互連線結構，其特征在于，所述第二區域的圖案為四邊形、五邊形、六邊形、圓弧形、V字形中的一種或多種，其中，所述V字形的夾角為直角、鈍角或者銳角。

5.如權利要求1或2所述的互連線結構，其特征在于，所述導電線的材料包括金線、銀線或銅線，所述納米金屬線的材料包括納米銀線、納米金線、納米鉑線或納米銅線。

6.一種顯示基板，其特征在于，包括基底以及設置在所述基底上的如權利要求1至5中任意一項所述的互連線結構。

7.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求6所述的顯示基板。

8.一種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基底；

在所述基底上形成互連線結構，所述互連線結構具有相互連接的第一區域和第二區域，所述第二區域的應力大于所述第一區域的應力；其中，

在所述基底上形成導電線圖案，所述導電線圖案構成所述互連線結構的第一區域；以及，

在所述基底上形成納米金屬線圖案，所述納米金屬線圖案與所述導電線圖案相連通，所述納米金屬線圖案構成所述互連線結構的第二區域。

9.如權利要求8所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在所述基底上形成導電線圖案的步驟包括：在所述基底上形成一金屬薄膜；刻蝕所述金屬薄膜以形成所述導電線圖案。

10.如權利要求8所述的顯示基板的制作方法，在所述基底上形成納米金屬線圖案的步驟包括：涂布一納米金屬層，所述納米金屬層覆蓋所述導電線圖案和暴露的所述基底；去除部分納米金屬層以形成所述納米金屬線圖案。