[發明專利]掩膜版及濾光基板的制造方法

在審

• 申請號: 201810697287.6
• 申請日: 2018-06-29
• 公開（公告）號: CN110658645A
• 公開（公告）日: 2020-01-07
• 發明（設計）人: 王達興;王菁晶;徐廣軍;范剛洪
• 申請（專利權）人: 上海儀電顯示材料有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/1335;G03F1/26;G03F7/00
• 代理公司: 11227 北京集佳知識產權代理有限公司
• 代理人: 薛異榮;吳敏

一種掩膜版及濾光基板的制造方法，其中掩膜版包括：基板；位于基板上的擋光層，所述擋光層包括不透光區域、第一圖案區域和第二圖案區域，第一圖案區域和第二圖案區域分立，所述第一圖案區域被不透光區域包圍，且第二圖案區域被不透光區域包圍，所述第一圖案區域全透光，所述第一圖案區域用于形成主間隔柱，所述第二圖案區域用于形成副間隔柱；所述第二圖案區域包括第一子區和第二子區，第一子區包圍第二子區，第一子區部分透光，第二子區全透光。采用所述掩膜版對光阻層進行曝光，使得副間隔柱的支撐性能提高。

技術領域

本發明涉及液晶顯示領域，尤其涉及一種掩膜版及濾光基板的制造方法。

背景技術

近年來，隨著信息通訊領域的發展，對各種類型的顯示設備的需求越來越大。目前，主流的顯示裝置包括：液晶顯示器、等離子體顯示器、電致發光顯示器和真空熒光顯示器等。由于液晶顯示器具有輕、薄、體積小、耗電小、輻射低等優點，被廣泛應用于各種數據處理設備中，例如電視、筆記本、移動電話、個人數字助理等。

液晶顯示器主要包括：TFT陣列基板、彩色濾光基板、TFT陣列基板和彩色濾光基板之間的液晶層。所述TFT陣列基板和彩色濾光基板上的電極通過控制液晶分子的偏轉，以調節外界光的通過率，進而達到顯示的目的。

其中，彩色濾光基板上具有間隔柱，所述間隔柱用于保持TFT陣列基板和彩色濾光基板之間的距離均勻性，所述間隔柱包括主間隔柱和副間隔柱。

然而，現有的彩色濾光基板的副間隔柱的支撐性能有待提高。

發明內容

本發明解決的問題是提供一種掩膜版及濾光基板的制造方法，以提高副間隔柱的支撐性能。

為解決上述問題，本發明提供一種用于形成濾光基板的掩膜版，包括：基板；位于基板上的擋光層，所述擋光層包括不透光區域、第一圖案區域和第二圖案區域，第一圖案區域和第二圖案區域分立，所述第一圖案區域被不透光區域包圍，且第二圖案區域被不透光區域包圍，所述第一圖案區域全透光，所述第一圖案區域用于形成主間隔柱，所述第二圖案區域用于形成副間隔柱；所述第二圖案區域包括第一子區和第二子區，第一子區包圍第二子區，第一子區部分透光，第二子區全透光。

可選的，所述第二子區具有特征尺寸，所述第二子區的特征尺寸為1微米～5微米；所述第二子區的邊緣至所述第二圖案區域的邊緣之間的最小距離大于等于8微米；所述第二子區的總面積為所述第一子區的總面積的1％～10％。

可選的，所述第二子區為環狀結構，所述第二子區的中心與所述第二圖案區域的中心重合。

可選的，所述環狀結構為多邊環或圓環。

可選的，所述多邊環包括偶數邊環。

可選的，在每個第二圖案區域中，第二子區的數量為一個。

可選的，在每個第二圖案區域中，第二子區的數量為多個，各第二子區相互分立，一個第二子區套設在另一個第二子區的外圍。

可選的，各個第二子區之間的距離為4um～16um。

可選的，所述第二子區為多邊形或圓形。

可選的，在每個第二圖案區域中，所述第二子區的數量為一個，所述第二子區的中心與所述第二圖案區域的中心重合。

可選的，在每個第二圖案區域中，所述第二子區的數量為多個，各第二子區相互分立，所述第二子區沿著第二圖案區域的周向均勻分布。

可選的，所述第二子區均為開口結構；所述第一圖案區域均為開口結構。