[發(fā)明專利]掩膜版及濾光基板的制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810697287.6
• 申請(qǐng)日: 2018-06-29
• 公開（公告）號(hào): CN110658645A
• 公開（公告）日: 2020-01-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王達(dá)興;王菁晶;徐廣軍;范剛洪
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海儀電顯示材料有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/13
• 分類號(hào): G02F1/13;G02F1/1335;G03F1/26;G03F7/00
• 代理公司: 11227 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 薛異榮;吳敏

1.一種用于形成濾光基板的掩膜版，其特征在于，包括：

基板；

位于基板上的擋光層，所述擋光層包括不透光區(qū)域、第一圖案區(qū)域和第二圖案區(qū)域，第一圖案區(qū)域和第二圖案區(qū)域分立，所述第一圖案區(qū)域被不透光區(qū)域包圍，且第二圖案區(qū)域被不透光區(qū)域包圍，所述第一圖案區(qū)域全透光，所述第一圖案區(qū)域用于形成主間隔柱，所述第二圖案區(qū)域用于形成副間隔柱；

所述第二圖案區(qū)域包括第一子區(qū)和第二子區(qū)，第一子區(qū)包圍第二子區(qū)，第一子區(qū)部分透光，第二子區(qū)全透光。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第二子區(qū)具有特征尺寸，所述第二子區(qū)的特征尺寸為1微米～5微米；所述第二子區(qū)的邊緣至所述第二圖案區(qū)域的邊緣之間的最小距離大于等于8微米；所述第二子區(qū)的總面積為所述第一子區(qū)的總面積的1％～10％。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第二子區(qū)為環(huán)狀結(jié)構(gòu)，所述第二子區(qū)的中心與所述第二圖案區(qū)域的中心重合。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述環(huán)狀結(jié)構(gòu)為多邊環(huán)或圓環(huán)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述多邊環(huán)包括偶數(shù)邊環(huán)。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版，其特征在于，在每個(gè)第二圖案區(qū)域中，第二子區(qū)的數(shù)量為一個(gè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版，其特征在于，在每個(gè)第二圖案區(qū)域中，第二子區(qū)的數(shù)量為多個(gè)，各第二子區(qū)相互分立，一個(gè)第二子區(qū)套設(shè)在另一個(gè)第二子區(qū)的外圍。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩膜版，其特征在于，各個(gè)第二子區(qū)之間的距離為4um～16um。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第二子區(qū)為多邊形或圓形。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩膜版，其特征在于，在每個(gè)第二圖案區(qū)域中，所述第二子區(qū)的數(shù)量為一個(gè)，所述第二子區(qū)的中心與所述第二圖案區(qū)域的中心重合。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩膜版，其特征在于，在每個(gè)第二圖案區(qū)域中，所述第二子區(qū)的數(shù)量為多個(gè)，各第二子區(qū)相互分立，所述第二子區(qū)沿著第二圖案區(qū)域的周向均勻分布。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第二子區(qū)均為開口結(jié)構(gòu)；所述第一圖案區(qū)域均為開口結(jié)構(gòu)。

13.一種濾光基板的制造方法，其特征在于，包括：

提供基底；

在所述基底上形成遮光圖案層和濾光層；

在所述基底、遮光圖案層和濾光層上形成光阻層；

采用權(quán)利要求1至12任意一項(xiàng)所述的掩膜版對(duì)所述光阻層進(jìn)行光刻，使所述光阻層形成主間隔柱和副間隔柱，所述主間隔柱的位置對(duì)應(yīng)所述第一圖案區(qū)域，所述副間隔柱的位置對(duì)應(yīng)所述第二圖案區(qū)域。