[發(fā)明專(zhuān)利]排氣裝置及干法刻蝕設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810690779.2
• 申請(qǐng)日: 2018-06-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109087869A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宋德偉
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/67;H01L21/306
• 代理公司: 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種排氣裝置，其特征在于，包括排氣泵和排氣腔體，所述排氣腔體中空且為一框體，所述排氣泵連通所述排氣腔體的中空部分，所述框體于待刻蝕件的放置位置的周邊設(shè)置，所述框體的表面形成有多個(gè)排氣孔，所述排氣泵通過(guò)所述排氣腔體排出所述待刻蝕件周?chē)臍怏w。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣裝置，其特征在于，所述排氣腔體為一矩形框體，所述矩形框體包括4個(gè)相互獨(dú)立的L型排氣模塊，4個(gè)所述L型排氣模塊的端部相互貼合以形成所述矩形框體，4個(gè)所述L型排氣模塊分別與4個(gè)分子泵連通。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣裝置，其特征在于，所述排氣孔位于所述框體的上表面，且所述排氣孔呈矩陣分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣裝置，其特征在于，至少部分所述排氣孔處設(shè)有排氣閥門(mén)，所述排氣閥門(mén)通過(guò)調(diào)節(jié)閥門(mén)開(kāi)度進(jìn)而調(diào)節(jié)所述排氣孔的排氣速率。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的排氣裝置，其特征在于，所述排氣孔的表面設(shè)有氣壓感應(yīng)裝置，所述氣壓感應(yīng)裝置通過(guò)感應(yīng)所述排氣孔表面的氣壓對(duì)所述排氣閥門(mén)的閥門(mén)開(kāi)度進(jìn)行控制，進(jìn)而控制所述排氣孔的排氣速率。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣裝置，其特征在于，所述排氣腔體為一矩形框體，所述矩形框體包括4個(gè)相互獨(dú)立的直線(xiàn)型排氣模塊，4個(gè)所述直線(xiàn)型排氣模塊的端部相互貼合以形成所述矩形框體，4個(gè)所述直線(xiàn)型排氣模塊分別與4個(gè)分子泵連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣裝置，其特征在于，所述排氣孔的形狀為圓形、橢圓形、三角形、多邊形、正方形或矩形中的任一種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣裝置，其特征在于，所述排氣孔的開(kāi)口面積相等。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣裝置，其特征在于，所述框體的截面為圓形、橢圓形、三角形、多邊形、正方形或矩形中的任一種。

10.一種干法刻蝕設(shè)備，其特征在于，包括反應(yīng)腔體和權(quán)利要求1-9任一所述的排氣裝置，所述排氣裝置位于所述反應(yīng)腔體內(nèi)，所述排氣裝置中的排氣泵一端與排氣腔體連通，另一端與所述反應(yīng)腔體的出氣口連通，以將所述反應(yīng)腔體中的氣體排出。