[發(fā)明專利]氣浴腔結(jié)構(gòu)、氣浴裝置及光刻設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810690346.7 | 申請日: | 2018-06-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110658682B | 公開(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 戴思雨;趙建軍 | 申請(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海思捷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
| 地址: | 201203 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣浴腔 結(jié)構(gòu) 裝置 光刻 設(shè)備 | ||
本發(fā)明提供了一種氣浴腔結(jié)構(gòu),并將該氣浴腔結(jié)構(gòu)應(yīng)用到氣浴裝置中。所述氣浴腔結(jié)構(gòu)包括孔板和楔形的氣浴腔,所述孔板設(shè)置于所述氣浴腔內(nèi),將所述氣浴腔分隔為若干靜壓腔。所述氣浴裝置包括進(jìn)風(fēng)管道和所述的氣浴腔裝置,所述進(jìn)風(fēng)管道與所述氣浴腔的進(jìn)風(fēng)口連接。在光刻設(shè)備內(nèi)部空間有限的前提下,本發(fā)明提出的氣浴腔可直接替換原有氣浴腔,未對光刻設(shè)備提出共同改造的要求,具有良好的替代性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路制造設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種氣浴腔結(jié)構(gòu)、氣浴裝置及光刻設(shè)備。
背景技術(shù)
光刻機(jī)是一種高精密設(shè)備,其工作時(shí),內(nèi)部環(huán)境及部件的溫度對光刻精度的影響很大。由于光刻機(jī)內(nèi)部熱源很多,這些熱源產(chǎn)生的熱量會(huì)影響系統(tǒng)內(nèi)各部件及空間溫度的穩(wěn)定,必須加以監(jiān)測和控制。氣浴是光刻機(jī)溫度控制的主要手段之一,通過向工件臺(tái)、掩模臺(tái)、硅片傳輸裝置等關(guān)鍵區(qū)域及部件輸送恒溫恒壓的氣流,達(dá)到控制空間及部件溫度的目的。氣浴裝置就是實(shí)現(xiàn)這一目的的專用裝備。
氣浴裝置是對光刻設(shè)備空間光路或核心器件進(jìn)行精確控溫的裝置。氣浴裝置輸出氣流的均勻性和穩(wěn)定性是評價(jià)氣浴裝置的主要性能指標(biāo),而氣浴裝置結(jié)構(gòu)的緊湊性是決定氣浴裝置是否可集成到整機(jī)上的重要結(jié)構(gòu)指標(biāo)。但工程實(shí)踐中,這兩個(gè)指標(biāo)相互影響,需技術(shù)人員在其中尋求平衡點(diǎn)。
圖1所示的是現(xiàn)有技術(shù)中一種典型的氣浴裝置,進(jìn)風(fēng)管道101與長方體形的氣浴腔102的一端連接,氣體經(jīng)過氣浴腔102的緩沖后再從氣浴腔102一側(cè)面的過濾器103處流出所述氣浴裝置。經(jīng)過氣浴腔102的緩沖以及過濾器103的過濾,從所述氣浴裝置中流出的流動(dòng)氣體的穩(wěn)定性和均勻性均得到改善。但這一改善還不夠理想,不能滿足日益發(fā)展的光刻設(shè)備對空間的需求和對溫度控制的要求。
發(fā)明內(nèi)容
為完善上述問題,使氣浴裝置在有限的空間內(nèi)有效的提升氣體流經(jīng)氣浴裝置后的均勻性和穩(wěn)定性,同時(shí)結(jié)構(gòu)還不復(fù)雜,本發(fā)明提出了一種氣浴腔結(jié)構(gòu),所述氣浴腔結(jié)構(gòu)包括孔板和楔形的氣浴腔,所述孔板設(shè)置于所述氣浴腔內(nèi),將所述氣浴腔分隔為若干靜壓腔。
可選的,上述的氣浴腔結(jié)構(gòu)中,所述氣浴腔包括一斜面和一出風(fēng)面,所述斜面與所述出風(fēng)面相對,所述出風(fēng)面所在平面與所述斜面的夾角大于arctg0.05。
可選的,上述的氣浴腔結(jié)構(gòu)中,所述孔板以預(yù)定的傾角設(shè)置于所述氣浴腔內(nèi);所述傾角為所述孔板與垂直于出風(fēng)面的方向之間的夾角。
可選的,上述的氣浴腔結(jié)構(gòu)中,所述傾角的范圍為12°-30°。
可選的,上述的氣浴腔結(jié)構(gòu)中,所述孔板的數(shù)量至少為3個(gè)。
可選的,上述的氣浴腔結(jié)構(gòu)中,所述孔板為3個(gè),依次為第一孔板、第二孔板和第三孔板;所述第一孔板設(shè)置于所述氣浴腔的進(jìn)風(fēng)口處;所述第一孔板的傾角范圍為12°-18°,所述第二孔板的傾角范圍為20°-25°,所述第三孔板的傾角范圍為25°-30°。
可選的,上述的氣浴腔結(jié)構(gòu)中,所述孔板的開孔率范圍為20%-40%。
可選的,上述的氣浴腔結(jié)構(gòu)中,所述第一孔板的開孔率范圍為20%-30%,所述第二孔板的開孔率范圍為35%-40%,所述第三孔板的開孔率范圍為35%-40%。
可選的,上述的氣浴腔結(jié)構(gòu)中,所述出風(fēng)面所在平面與所述斜面的夾角的正切值與所述孔板的開孔率的乘積范圍為0.01-0.03。
本發(fā)明還提供了一種氣浴裝置,所述氣浴裝置包括進(jìn)風(fēng)管道和上述的氣浴腔結(jié)構(gòu);所述進(jìn)風(fēng)管道與所述氣浴腔的進(jìn)風(fēng)口連接,以使通過所述進(jìn)風(fēng)管道流入的氣體沿所述氣浴腔的長邊運(yùn)動(dòng)。
可選的,上述的氣浴裝置中,還包括過濾器,所述氣浴裝置還包括過濾器,所述過濾器設(shè)置于所述氣浴腔的出風(fēng)面,以隔離可能存在的微粒。
本發(fā)明還提供了一種光刻設(shè)備,所述光刻設(shè)備包括上述的氣浴腔結(jié)構(gòu)。
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