[發明專利]一種觸控層的制作方法及設備

有效

• 申請號: 201810689115.4
• 申請日: 2018-06-28
• 公開（公告）號: CN108776423B
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 劉威;崔子龍;俎阿敏;吳德生
• 申請（專利權）人: 信利光電股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G06F3/041;C23C14/34;C23C14/08
• 代理公司: 深圳市深佳知識產權代理事務所(普通合伙) 44285
• 代理人: 王仲凱

1.一種觸控層的制作方法，其特征在于，包括：

向光刻膠層上濺鍍透光膜層；

采用曝光光源通過鉻板膜面及所述透光膜層對所述光刻膠層進行曝光處理，使所述鉻板膜面上的圖案轉移至所述光刻膠層上；其中，所述鉻板膜面與所述透光膜層直接接觸；

將所述鉻板從所述透光膜層上移開，并去除位于曝光后的光刻膠層上的透光膜層，得到帶有所述圖案的光刻膠層；

其中，所述去除位于曝光后的光刻膠層上的透光膜層的過程為：

采用化學蝕刻的方法對位于曝光后的光刻膠層上的透光膜層進行蝕刻處理，以去除所述透光膜層；

所述向光刻膠層上濺鍍透光膜層的過程為：

采用磁控濺鍍的方式通過包含鈮的氧化銦錫靶材將氧化銦錫濺鍍至所述光刻膠層的表面形成氧化銦錫膜層；

在濺鍍過程中，鈮在氧氣的氣氛下會生成氧化鈮，由于鈮的作用使鍍至光刻膠層表面的膜層為ITO和氧化鈮的混合物，通過氧化鈮和ITO的混合可以將鍍出的ITO膜層的折射率調整為1.64—1.69的范圍內，即使鍍出的ITO膜層的折射率與光刻膠層的折射率一致。

2.根據權利要求1所述的觸控層的制作方法，其特征在于，所述采用化學蝕刻的方法對位于曝光后的光刻膠層上的透光膜層進行蝕刻處理，以去除所述透光膜層的過程為：

采用酸刻蝕的方式對位于曝光后的光刻膠層上的氧化銦錫膜層進行蝕刻處理，以去除所述氧化銦錫膜層。

3.根據權利要求1-2任意一項所述的觸控層的制作方法，其特征在于，還包括通過酸蝕刻的方法對位于所述光刻膠層下方的金屬層進行蝕刻處理，以便所述金屬層形成具有所述圖案的金屬電極。

4.一種用于實現如權利要求1所述的觸控層的制作方法的觸控層的制作設備，其特征在于，包括：

濺鍍裝置，用于向光刻膠層上濺鍍透光膜層；

曝光裝置，用于采用曝光光源通過鉻板膜面及所述透光膜層對所述光刻膠層進行曝光處理，使所述鉻板膜面上的圖案轉移至所述光刻膠層上；其中，所述鉻板膜面與所述透光膜層直接接觸；

清潔裝置，用于將所述鉻板從所述透光膜層上移開，并去除位于曝光后的光刻膠層上的透光膜層，得到帶有所述圖案的光刻膠層；

其中，所述清潔裝置去除位于曝光后的光刻膠層上的透光膜層的過程為：

采用化學蝕刻的方法對位于曝光后的光刻膠層上的透光膜層進行蝕刻處理，以去除所述透光膜層。