[發明專利]電容式觸控屏的單層雙面電極及其制備方法在審
| 申請號: | 201810688348.2 | 申請日: | 2018-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN108984025A | 公開(公告)日: | 2018-12-11 |
| 發明(設計)人: | 周劍飛;黃浩;張蓉 | 申請(專利權)人: | 湖南興威新材料有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/041 | 分類號: | G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司: | 北京紐樂康知識產權代理事務所(普通合伙) 11210 | 代理人: | 黃敏華 |
| 地址: | 410200 湖南省長沙市望城經濟開*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 納米銀線 電容式觸控屏 單層雙面 電極 制備 薄膜層表面 透明油墨層 導電線路 基材 透明導電薄膜層 電極制備過程 化學穩定性 透明導電層 導電性 印刷 表面制備 化學蝕刻 基材兩側 激光蝕刻 空氣接觸 雙層電極 透明油墨 一次貼合 薄膜層 保護層 電腐蝕 光學膠 銀遷移 變差 | ||
本發明提供一種電容式觸控屏的單層雙面電極及其制備方法,其包括基材和設置在基材兩側表面的導電線路;導電線路包括納米銀線薄膜層和印刷在納米銀線薄膜層表面的透明油墨層。所述電容式觸控屏的單層雙面電極制備過程如下:1)在基材的兩側表面制備納米銀線透明導電薄膜層;2)在納米銀線薄膜層表面印刷透明油墨,形成保護層;3)進行化學蝕刻,形成電容式觸控屏的單層雙面電極。本發明的電極中,透明油墨層能避免納米銀線透明導電層與空氣接觸,有效克服了納米銀線發生電腐蝕以及銀遷移等現象帶來的納米銀線層的化學穩定性變差和導電性降低的問題,解決目前激光蝕刻無法制備雙層電極的問題,省去一次貼合過程,省去了一層光學膠的使用。
技術領域
本發明涉及電子材料技術領域,具體來說,涉及一種電容式觸控屏的單層雙面電極及其制備方法。
背景技術
觸控屏,即觸控面板,是一種可接收輸入訊號的感應式顯示裝置,作為目前最方便、自然的人機交互方式的輸入設備,是一種應用領域極為廣泛的全新多媒體交互設備。隨著電子器件市場的不斷發展,行業內對透明導電材料的各方面性能及綜合成本的要求逐漸提高,觸控屏中雙層導電膜的貼合無論是在成本、制備工藝上還是產品外觀及顯示效果上都難以滿足人們對觸控屏質感和應用性能方面日益增長的需求,尤其是對大尺寸觸控屏的需求。因此,近年來該領域的研究者期望使用一種透明度高、輕薄化的單層雙面導電膜替代傳統的多層貼合膜。
目前,市面上現有的單層雙面導電膜中常見的電極是采用ITO和金屬網格材料,但前者存在稀缺金屬價格昂貴、材料脆性大的缺陷,使得生產成本高,而且受鍍膜溫度的影響,導致基材的使用受限,難滿足柔性和大尺寸的應用需求;后者存在透過率低和消影差的缺陷,使得圖案線條清晰可見,存在較大的視覺反差,導致光學效果和顯示效果大大降低。因此,單層雙面導電的納米銀線膜受到行業內研究者的青睞,但透明導電膜存在雙面激光蝕刻至背面的現象。
CN201410001423.5公開一種單片式電容觸摸屏及其制備方法,該單片式電容觸摸屏包括單片基板,所述單片基板下側表面上設置有透明導電薄膜層;在所述透明導電薄膜層表面上絲印有第一油墨層;所述第一油墨層上設置有導通孔;所述導通孔通過導電油墨貫通;所述導電油墨通過銀漿引線聯通,形成綁定Pin及金屬引線;所述第一油墨層下側絲印有蓋底油墨層及裝飾層。能實現新材料在單片式電容觸摸屏上的應用,但仍舊無法解決雙面激光蝕刻至背面的問題,具有一定的局限性。
CN201410044389.X公開一種透明感應薄膜材料的制造方法,包括:使用絲網印刷的方式將含有納米導電金屬線的透明導電油墨印刷到柔性透明基材上,固化透明導電油墨得到透明導電膜層。該方法,通過采用絲網印刷的方式降低了印刷成本以及操作的復雜性,但納米導電金屬線與空氣直接接觸,存在導電膜化學穩定性和使用壽命的問題,具有一定的局限性。
綜上所述,為滿足消費者對觸控屏的綜合應用性和產品外觀等方面的要求,急需提供一種智能化、輕薄化的可用于電容式觸控屏使用的單層雙面電極。
發明內容
針對相關技術中的上述技術問題,本發明提供了一種電容式觸控屏的單層雙面電極及其制備方法,解決目前激光蝕刻無法制備雙層電極的問題,省去一次貼合過程,省去了一層光學膠的使用,增加了產品良率,減少材料成本;同時由于油墨的二次保護,使所得產品化學穩定性好、耐候性強。
為實現上述技術目的,本發明的技術方案是這樣實現的:
一方面,本發明提供一種電容式觸控屏的單層雙面電極,包括基材和設置在基材兩側表面的導電線路;所述導電線路包括涂覆在基材表面的納米銀線層和印刷在納米銀線層表面的透明油墨層。
進一步地,所述基材為柔性透明基材,優選為PET。
進一步地,所述導電線路通過化學蝕刻形成。
進一步地,所述化學蝕刻的方式包括酸蝕刻、堿蝕刻、氧化性金屬離子蝕刻、蝕刻膏蝕刻或臭氧蝕刻等方式。
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