[發明專利]硅片切割廢液的處理方法及處理系統在審
| 申請號: | 201810686469.3 | 申請日: | 2018-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN108773934A | 公開(公告)日: | 2018-11-09 |
| 發明(設計)人: | 陳江俊 | 申請(專利權)人: | 阜寧協鑫光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/04 | 分類號: | C02F9/04 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 唐清凱 |
| 地址: | 224400 江蘇省鹽*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 廢液 硅片切割 廢液收集池 連通 處理系統 板框壓濾 離子交換罐 陶瓷膜組件 膜過濾 清液 壓濾 加酸裝置 凈化處理 離子交換 水質要求 依次設置 用水需求 壓濾液 生產工藝 | ||
本發明涉及一種硅片切割廢液的處理方法及處理系統。其中,處理系統包括依次設置有:廢液收集池,用于收集硅片切割過程中產生的廢液;與所述廢液收集池一端連通的加酸裝置,用于調節所述廢液收集池的pH值;與所述廢液收集池另一端連通的板框壓濾裝置,用于對流經所述板框壓濾裝置的廢液進行壓濾;與所述板框壓濾裝置連通的陶瓷膜組件,用于對壓濾后的壓濾液進行膜過濾;與所述陶瓷膜組件連通的離子交換罐,用于對膜過濾后的透濾液進行離子交換得到清液;以及與所述離子交換罐連通的清液利用端。上述硅片切割廢液的處理系統結構簡單,可以實現對硅片切割廢液的凈化處理,進而可滿足對水質要求較高的生產工藝的用水需求。
技術領域
本發明涉及硅片切割領域,特別是涉及一種硅片切割廢液的處理方法及處理系統。
背景技術
目前硅片切割領域,普遍采用金剛線對硅錠進行切割,而在切割過程中需要不斷在金剛線表面噴淋冷卻液以防止局部過熱損害切割設備和金剛線。但是冷卻液多為聚合高分子化合物,成本高,但使用過后的冷卻液又會攜帶硅片切割過程中脫落的硅粉、碳化硅及膠質雜質而成為硅片切割廢液,傳統方法還無法對上述廢液進行有效的二次利用。
發明內容
基于此,有必要針對無法對硅片切割廢液進行二次利用的問題,提供一種硅片切割廢液的處理方法及處理系統,經該處理系統處理后的清液可滿足對水質要求較高的生產工藝的用水需求。
一種硅片切割廢液的處理系統,包括依次設置有:
廢液收集池,用于收集硅片切割過程中產生的廢液;
與所述廢液收集池一端連通的加酸裝置,用于調節所述廢液收集池的pH值;
與所述廢液收集池另一端連通的板框壓濾裝置,用于對流經所述板框壓濾裝置的廢液進行壓濾;
與所述板框壓濾裝置連通的陶瓷膜組件,用于對壓濾后的壓濾液進行膜過濾;
與所述陶瓷膜組件連通的離子交換罐,用于對膜過濾后的透濾液進行離子交換得到清液;
以及與所述離子交換罐連通的清液利用端。
上述硅片切割廢液的處理系統結構簡單,可以實現對硅片切割廢液的凈化處理,進而可滿足對水質要求較高的生產工藝的用水需求,例如:供再次作為硅片切割冷卻液進行重復使用。具體而言,該廢液處理系統中含有加酸裝置,可在廢液進入板框壓濾裝置前,將廢液收集池中的酸堿度調制為最佳,進而有利于廢液在板框壓濾裝置中得到充分凈化,以防止因廢液中的pH值過高,而漿液的pH升高后,硅粉會和OH根反應,形成膠質狀的硅酸鹽,硅酸鹽會致阻塞板框壓濾裝置中的濾布孔發生堵塞。此外,將經陶瓷膜組進行膜過濾的透濾液加入離子交換罐中,通過離子交換,降低透濾液的電導率,進而可滿足對水質要求較高的生產工藝的用水需求,從而實現原料的再次利用,降低成本。
在其中一個實施例中,所述離子交換罐包括依次設置的陽離子樹脂罐和陰離子樹脂罐。
在其中一個實施例中,所述陽離子樹脂罐中的陽離子樹脂為強酸性苯乙烯系陽離子交換樹脂,陽離子樹脂的粒徑為0.315-1.250mm。
在其中一個實施例中,所述陰離子樹脂罐中的陰離子樹脂為強堿性苯乙烯系陰離子交換樹脂,陰離子樹脂的粒徑為0.315-1.250mm。
在其中一個實施例中,所述陽離子樹脂罐中設定的壓力為0.2-0.4MPa。
在其中一個實施例中,所述陰離子樹脂罐中設定的壓力為0.2-0.4MPa。
在其中一個實施例中,所述陶瓷膜組件包括支撐體層、過渡層以及微孔膜層。
在其中一個實施例中,所述陰離子樹脂罐中安裝有電導率測試儀。
本發明還提供了一種硅片切割廢液的處理方法。
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