[發(fā)明專利]一種大口徑精密光學(xué)元件表面潔凈處理方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810681514.6
• 申請日: 2018-06-27
• 公開（公告）號: CN108906830A
• 公開（公告）日: 2018-11-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 毛衛(wèi)平;張曉燕;章付華;毛建宇
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞市蘭光光學(xué)科技有限公司
• 主分類號: B08B11/00
• 分類號: B08B11/00;B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;B08B3/00;B08B1/00
• 代理公司: 廣東莞信律師事務(wù)所 44332
• 代理人: 蔡邦華

本發(fā)明公開一種大口徑精密光學(xué)元件表面潔凈處理方法，包括以下步驟：元件下線后、清除邊緣殘留的拋光粉和固體污漬、15兆去離子水沖洗3分鐘、270KHZ超聲波清洗2分鐘分鐘、優(yōu)級純酒精置換、酒精脫水和擦拭。本發(fā)明采用的方法可以徹底去除元件表面殘留的拋光粉和固體物質(zhì)。利用去離子水和超聲波快速清洗元件表面然后用優(yōu)級純酒精快速脫水的方法，徹底去除元件加工后元件表面的污物，實現(xiàn)元件表面50級的潔凈要求。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及非金屬材料精密制造，主要用于超強(qiáng)、超短、高功率激光技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種大口徑精密光學(xué)元件表面潔凈處理方法。

背景技術(shù)

大口徑光學(xué)元件由于材料特點的原因表面易潮解，根據(jù)元件精密潔凈處理的常規(guī)經(jīng)驗，元件表面潔凈處理的最好方法是采用水劑清洗，有機(jī)溶劑是無法徹底去除元件表面殘留的拋光粉和固體物質(zhì)的。為此，設(shè)計了一個水劑快速清洗元件表面后，用優(yōu)級純酒精快速脫水的方法，徹底去除元件加工后元件表面的污物，實現(xiàn)元件表面50級的潔凈要求。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，提供一種大口徑精密光學(xué)元件表面潔凈處理方法。使大口徑精密光學(xué)元件表面的潔凈度達(dá)到50級的要求。

為解決現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，本發(fā)明提供的技術(shù)方案是：一種大口徑精密光學(xué)元件表面潔凈處理方法，包括以下步驟：

S1)拋光完成的大口徑精密光學(xué)元件的預(yù)處理：大口徑精密光學(xué)元件拋光完成后，采用清潔工具對大口徑精密光學(xué)元件邊緣的殘留的拋光粉和固體污漬進(jìn)行清除處理；

S2)大口徑精密光學(xué)元件的預(yù)固定：經(jīng)過步驟S1)后的大口徑精密光學(xué)元件預(yù)固定在一個方形框架上，大口徑精密光學(xué)元件的邊緣嵌入所述方形框架內(nèi)；

S3)大口徑精密光學(xué)元件的上線輸送：將步驟S2)中固定在方形框架上的大口徑精密光學(xué)元件吊掛在產(chǎn)品輸送線上，大口徑精密光學(xué)元件的吊掛方式采用傾斜吊掛方式；

S4)大口徑精密光學(xué)元件的首次沖洗：步驟S3)中產(chǎn)品輸送線上的產(chǎn)品依次進(jìn)入到去離子水沖洗室，經(jīng)過特定導(dǎo)電率的去離子水沖洗一定的時間后進(jìn)入超聲波清洗槽；

S5)大口徑精密光學(xué)元件的二次沖洗：經(jīng)過步驟S4)去離子水沖洗后的產(chǎn)品進(jìn)入特定頻率的超聲波清洗槽；產(chǎn)品在超聲波清洗槽內(nèi)清洗特定的時間后進(jìn)入優(yōu)級純酒精置換槽；

S6)大口徑精密光學(xué)元件的酒精清洗：經(jīng)過步驟S5)超聲波清洗后的產(chǎn)品進(jìn)入到優(yōu)級純酒精置換槽進(jìn)行酒精清洗，優(yōu)級純酒精的乙醇含量>99.8％；

S7)大口徑精密光學(xué)元件的酒精脫水：經(jīng)過步驟S6)優(yōu)級純酒精置換后的產(chǎn)品進(jìn)入到酒精蒸汽脫水室，將酒精加熱至沸騰狀態(tài)，使酒精蒸汽對產(chǎn)品進(jìn)行一定時間的處理；

S8)大口徑精密光學(xué)元件的擦拭：酒精蒸汽脫水后的產(chǎn)品從產(chǎn)品輸送線出來后采用柔軟的長纖維布對產(chǎn)品的表面進(jìn)行擦拭，避免元件在清洗過程中損傷；產(chǎn)品擦拭完成后封箱隔離包裝。

作為本發(fā)明大口徑精密光學(xué)元件表面潔凈處理方法的一種改進(jìn)，步驟S3)中的傾斜吊掛方式是將方形框架其中一個轉(zhuǎn)角進(jìn)行吊掛，使吊掛的轉(zhuǎn)角與其對角呈垂直狀態(tài)。

作為本發(fā)明大口徑精密光學(xué)元件表面潔凈處理方法的一種改進(jìn)，步驟S4)中的去離子水的導(dǎo)電率為15兆去離子水清洗產(chǎn)品的時間為3分鐘～5分鐘，去離子水清洗產(chǎn)品時的壓力為常態(tài)壓力。

作為本發(fā)明大口徑精密光學(xué)元件表面潔凈處理方法的一種改進(jìn)，所述步驟S5)中的超聲波清洗槽使用的超聲波量為270KHZ～300KHZ，超聲波清洗槽對產(chǎn)品的處理時間是2分鐘～5分鐘。

作為本發(fā)明大口徑精密光學(xué)元件表面潔凈處理方法的一種改進(jìn)，所述步驟S7)中的酒精蒸汽脫水的時間為5分鐘～7分鐘。