[發明專利]真空蒸鍍坩堝及真空蒸鍍設備有效

申請號：	201810660550.4	申請日：	2018-06-25
公開（公告）號：	CN108823534B	公開（公告）日：	2020-05-12
發明（設計）人：	張永峰	申請（專利權）人：	京東方科技集團股份有限公司
主分類號：	C23C14/24	分類號：	C23C14/24;C23C14/12
代理公司：	北京鼎佳達知識產權代理事務所(普通合伙) 11348	代理人：	王偉鋒;劉鐵生
地址：	100015 ***	國省代碼：	北京;11
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摘要：
搜索關鍵詞：	真空坩堝設備
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【說明書】：

本發明是關于一種真空蒸鍍坩堝及真空蒸鍍設備，涉及真空蒸鍍技術領域，使其能夠在基體上鍍制膜厚均勻的有機材料鍍層。主要采用的技術方案為：真空蒸鍍坩堝，其包括：坩堝主體，所述坩堝主體設置有開口；蓋體，所述蓋體蓋在所述坩堝主體的開口上，并與所述坩堝主體可分離連接，所述蓋體上設置有連通所述坩堝主體內外的主噴嘴和輔噴嘴；其中，所述主噴嘴垂直設置在所述蓋體上，所述輔噴嘴與豎直方向呈預設角度。使用本發明提供的真空蒸鍍坩堝對有機發光器件的基體進行鍍膜工作時，輔噴嘴噴出的鍍膜材料能夠對主噴嘴噴出并鍍制在基體表面的膜層進行厚度補償，使最終鍍制的膜層更均勻。

技術領域

本發明涉及真空蒸鍍技術領域，特別是涉及一種真空蒸鍍坩堝及真空蒸鍍設備。

背景技術

有機發光器件基本結構是在兩個電極之間堆疊多層有機薄膜材料，有機薄膜材料的總厚度約為幾百納米，與發光波長為同一數量級。由于各種材料的光學特性不匹配，導致OLED結構內部產生的光子在傳輸過程中在各層材料間會有反射，折射，波導，吸收和再發射各種光學效應，其發光特性的變化不僅與材料本身特性有關，也與器件光學結構變化有關。

但是，使用現有技術中的鍍膜設備制造出來的有機發光器件，其基體上的有機薄膜層膜厚不夠均勻，常出現基體中心位置較厚，邊緣位置較薄的情況。另外，微共振腔的器件結構設計中，為了達到最佳的出光效果，需要將共振腔共振波長設定于發光體本質發光的峰值波長，且需將發光體至于兩鏡面電極的共同反節點附近，但由于各有機薄膜層膜厚均一性水平的差異，使得基板不同位置共振腔腔體長度及發光體與共振腔的位置出現差異，最終影響到耦合出光的峰值出現紅移或藍移，致使OLED顯示器顯示時顏色的均一性差，顯示效果達不到要求。

發明內容

本發明的主要目的在于，提供一種新型結構的真空蒸鍍坩堝及真空蒸鍍設備，使其能夠在基體上鍍制膜厚均勻的有機材料鍍層。

本發明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現的。依據本發明提出的一種真空蒸鍍坩堝，其包括：

坩堝主體，所述坩堝主體設置有開口；

蓋體，所述蓋體蓋在所述開口上，并與所述坩堝主體可分離連接，所述蓋體上設置有連通所述坩堝主體內外的主噴嘴和輔噴嘴；

其中，所述主噴嘴垂直設置在所述蓋體上，所述輔噴嘴與豎直方向呈預設角度。

本發明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現。

優選的，前述的真空蒸鍍坩堝，其中所述輔噴嘴與豎直方向的夾角為0-30度。

優選的，前述的真空蒸鍍坩堝，其中所述主噴嘴在水平方向的截面積大于所述輔噴嘴在垂直于其設置方向的截面積。

優選的，前述的真空蒸鍍坩堝，其中所述主噴嘴與所述輔噴嘴均為圓柱形噴嘴；

所述主噴嘴的口徑與所述輔噴嘴的口徑比為1:1-3:1。

優選的，前述的真空蒸鍍坩堝，其中所述主噴嘴與所述輔噴嘴相對的分布在以所述蓋體中心為原點的圓周上，且所述主噴嘴的中心與所述輔噴嘴的中心均設置在所述圓周上。