[發(fā)明專(zhuān)利]真空蒸鍍坩堝及真空蒸鍍?cè)O(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810660550.4
• 申請(qǐng)日: 2018-06-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108823534B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張永峰
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/24
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/24;C23C14/12
• 代理公司: 北京鼎佳達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11348
• 代理人: 王偉鋒;劉鐵生

1.一種真空蒸鍍坩堝，其特征在于，其包括：

坩堝主體，所述坩堝主體設(shè)置有開(kāi)口；

蓋體，所述蓋體蓋在所述開(kāi)口上，并與所述坩堝主體分離連接，所述蓋體上設(shè)置有連通所述坩堝主體內(nèi)外的主噴嘴和輔噴嘴；

其中，所述主噴嘴垂直設(shè)置在所述蓋體上，所述輔噴嘴與豎直方向呈預(yù)設(shè)角度；

導(dǎo)流片，所述導(dǎo)流片上設(shè)置有通孔，所述導(dǎo)流片設(shè)置在所述坩堝主體中，將所述坩堝主體分成上腔體和下腔體；

其中，所述下腔體中用于放置待蒸鍍材料；

分流片，所述分流片設(shè)置在所述上腔體中與所述蓋體轉(zhuǎn)動(dòng)連接，將所述上腔體分成與所述主噴嘴連通的第一子腔室，以及與所述輔噴嘴連通的第二子腔室。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍坩堝，其特征在于，

所述輔噴嘴與豎直方向的夾角為0-30度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍坩堝，其特征在于，

所述主噴嘴在水平方向的截面積大于所述輔噴嘴在垂直于其設(shè)置方向的截面積。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空蒸鍍坩堝，其特征在于，

所述主噴嘴與所述輔噴嘴均為圓柱形噴嘴；

所述主噴嘴的口徑與所述輔噴嘴的口徑比為1:1-3:1。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍坩堝，其特征在于，

所述主噴嘴與所述輔噴嘴相對(duì)的分布在以所述蓋體中心為原點(diǎn)的圓周上，且所述主噴嘴的中心與所述輔噴嘴的中心均設(shè)置在所述圓周上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍坩堝，其特征在于，

所述蓋體的厚度為30-50mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍坩堝，其特征在于，

所述通孔的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述通孔以所述導(dǎo)流片的中心為軸均布一周。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍坩堝，其特征在于，還包括：

轉(zhuǎn)動(dòng)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述蓋體的上表面；

所述分流片與所述蓋體下表面的中心位置轉(zhuǎn)動(dòng)連接；

其中，所述轉(zhuǎn)動(dòng)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)端穿過(guò)所述蓋體與所述分流片連接，用于驅(qū)動(dòng)所述分流片轉(zhuǎn)動(dòng)，以調(diào)整所述第一子腔室的容積以及調(diào)整所述第二子腔室的容積。

9.一種真空蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，其包括：

如權(quán)利要求1-8中任一所述真空蒸鍍坩堝。