[發(fā)明專利]一種復(fù)合薄膜在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810653476.3 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108766631A | 公開(公告)日: | 2018-11-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王旭;褚繁;錢娟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 無錫眾創(chuàng)未來科技應(yīng)用有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01B5/14 | 分類號(hào): | H01B5/14 |
| 代理公司: | 廣州市百拓共享專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44497 | 代理人: | 盧剛 |
| 地址: | 214100 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透明層 導(dǎo)電層 沉積 側(cè)面 基材 氧化物透明導(dǎo)電薄膜 復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu) 透明導(dǎo)電薄膜 薄膜結(jié)構(gòu) 導(dǎo)電薄膜 低溫制備 復(fù)合薄膜 高導(dǎo)電性 高透光性 光電元件 金屬電極 薄型化 納米級(jí) 半導(dǎo)體 | ||
本發(fā)明的具有低溫制備、高導(dǎo)電性、高透光性的薄型化復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu),設(shè)置于光電元件的基材及至少一個(gè)金屬電極之間,其特征在于:該薄膜結(jié)構(gòu)具有第一透明層、導(dǎo)電層及第二透明層。該第一透明層為半導(dǎo)體透明導(dǎo)電薄膜,沉積在該基材的一側(cè)面;該導(dǎo)電層為納米級(jí)的導(dǎo)電薄膜,沉積在該第一透明層的一側(cè)面,第二透明層為氧化物透明導(dǎo)電薄膜,沉積在該導(dǎo)電層的一側(cè)面。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于一種透明導(dǎo)電薄膜,具有薄型化三層復(fù)合結(jié)構(gòu),于低溫制備完成,并具有高導(dǎo)電性及高穿透率的復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
一般常見的光電元件如發(fā)光二極體(LED)、平面顯示器(FPD)、太陽能電池、觸摸式面板屏幕及電子書等,其內(nèi)部是具有透明的導(dǎo)電薄膜作為傳導(dǎo)橋梁,是不可或缺的結(jié)構(gòu)。該導(dǎo)電薄膜必須同時(shí)具備良好的導(dǎo)電特性與光穿透度。
一般透明導(dǎo)電薄膜分為兩種,第一種是金屬薄膜,當(dāng)金屬厚度約10nm時(shí),金屬薄膜會(huì)具有透光性,但實(shí)際上大部分的金屬在沉積成厚度約10nm時(shí),需要良好的工藝控制,避免形成島狀不連續(xù)薄膜,同時(shí),金屬薄膜對(duì)于所使用環(huán)境較為敏感,如溫度、濕度以及氧化等,均可能造成金屬薄膜物化性質(zhì)產(chǎn)生質(zhì)變而影響元件效果。第二種是氧化物透明導(dǎo)電薄膜,可以穩(wěn)定保有其光電物理性質(zhì),但氧化物透明導(dǎo)電薄膜的導(dǎo)電性相較金屬薄膜較差,需增加其厚度來達(dá)到優(yōu)異的導(dǎo)電特性,對(duì)光的穿透度就會(huì)降低。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問題,提出一種半導(dǎo)體-金屬-半導(dǎo)體的復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu),此結(jié)構(gòu)可以薄化透明導(dǎo)電薄膜厚度且不形成島狀不連續(xù)薄膜,仍具有高導(dǎo)電性以及高光穿透率。
為達(dá)上述目的,本發(fā)明的具有低溫制備、高導(dǎo)電性、高透光性的薄型化復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu),設(shè)置于光電元件的基材及至少一個(gè)金屬電極之間,其特征在于:該薄膜結(jié)構(gòu)具有第一透明層、導(dǎo)電層及第二透明層。該第一透明層為半導(dǎo)體透明導(dǎo)電薄膜,沉積在該基材的一側(cè)面;該導(dǎo)電層為納米級(jí)的導(dǎo)電薄膜,沉積在該第一透明層的一側(cè)面,第二透明層為氧化物透明導(dǎo)電薄膜,沉積在該導(dǎo)電層的一側(cè)面。
其中,該第一透明層與第二透明層通過物理或化學(xué)沉積方式形成,且該第一透明層和該第二透明層的材質(zhì)皆為氧化物透明導(dǎo)電薄膜,氧化物透明導(dǎo)電薄膜為氧化銦和氧化鋅,其組成是為GaxTiyZn1-x-yO,且0<x<1,0<y<1,1-x-y>0,而該第一透明層的厚度與第二透明層的厚度總和為70-140納米。
該導(dǎo)電層的材質(zhì)是通過物理或化學(xué)沉積方式形成薄化金屬或石墨烯薄膜,薄化金屬是具有高導(dǎo)電系數(shù)的金屬,如金、銀、銅、鈦、鋁、鎢或其合金等。該導(dǎo)電層厚度是介于10-25納米。
本發(fā)明提供的一種于低溫下制備的具有高導(dǎo)電性及高穿透率的薄型化復(fù)合薄膜。其應(yīng)用于光電元件內(nèi),具有高導(dǎo)電性及兼具高透光度等物理特性,且于低溫下制備此復(fù)合結(jié)構(gòu),使所應(yīng)用的光電元件可達(dá)到更佳的運(yùn)作效率。
附圖說明
為了清楚了解本發(fā)明的內(nèi)容,參考以下附圖。
圖1是實(shí)施例的剖面示意圖。
圖2是實(shí)施例在未經(jīng)高溫?zé)崽幚淼膶?dǎo)電層的各厚度針對(duì)電阻測(cè)試的曲線圖。
圖3是實(shí)施例的光穿透率測(cè)量圖。
具體實(shí)施方式
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