[發(fā)明專利]用于測量激光鉆機(jī)孔位精度的治具及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810651810.1
• 申請日: 2018-06-22
• 公開（公告）號: CN108901119B
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 廉澤陽;彭超;李艷國
• 申請（專利權(quán)）人: 廣州興森快捷電路科技有限公司;深圳市興森快捷電路科技股份有限公司;宜興硅谷電子科技有限公司
• 主分類號: H05K1/02
• 分類號: H05K1/02;H05K3/00
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 李丹

1.一種用于測量激光鉆機(jī)孔位精度的治具，其特征在于，包括治具本體，所述治具本體為透明板件或半透明板件，所述治具本體上形成有定位標(biāo)識，所述定位標(biāo)識為黑色或深色的圓形圖標(biāo)，所述定位標(biāo)識用于確定坐標(biāo)系；所述治具本體上還形成有多個測量圖標(biāo)，所述多個測量圖標(biāo)相互間隔設(shè)置并位于所述坐標(biāo)系內(nèi)，單個所述測量圖標(biāo)包括多個間隔設(shè)置的參考標(biāo)識，所述參考標(biāo)識為黑色或深色的圓形圖標(biāo)，所述參考標(biāo)識的圓心的坐標(biāo)與鉆孔坐標(biāo)一一對應(yīng)相同，所述參考標(biāo)識的尺寸大于激光孔的尺寸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的治具，其特征在于，所述測量圖標(biāo)至少為五個，其中一所述測量圖標(biāo)位于所述治具本體的中部或靠近中部的位置，另外四個所述測量圖標(biāo)圍繞一所述測量圖標(biāo)陣列位于所述治具本體上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的治具，其特征在于，多個所述測量圖標(biāo)呈陣列式分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的治具，其特征在于，單個所述測量圖標(biāo)的所述參考標(biāo)識之間相互間隔設(shè)置，并按照排數(shù)為m，列數(shù)為n的方式分布，其中，m與n均為正整數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的治具，其特征在于，所述排數(shù)m與所述列數(shù)n相同，且均大于或等于3。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的治具，其特征在于，所述參考標(biāo)識的直徑為100μm-300μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的治具，其特征在于，所述定位標(biāo)識至少為四個，至少四個所述定位標(biāo)識均勻分布于所述治具本體的邊緣處。

8.一種用于測量激光鉆機(jī)孔位精度的方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供如權(quán)利要求1至7中任意一項(xiàng)所述的治具，根據(jù)所述治具上的定位標(biāo)識確定坐標(biāo)系；

在激光鉆機(jī)上設(shè)定鉆孔坐標(biāo)，所述鉆孔坐標(biāo)與所述治具上的參考標(biāo)識的圓心的坐標(biāo)一一對應(yīng)相同；

根據(jù)所述鉆孔坐標(biāo)在所述治具本體上鉆孔，以形成激光孔，所述激光孔的尺寸小于所述參考標(biāo)識的尺寸；

測量所述參考標(biāo)識的圓心與和該參考標(biāo)識的坐標(biāo)相對應(yīng)的所述激光孔的圓心之間的圓心距，以確定所述激光鉆機(jī)的孔位精度。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述用于測量激光鉆機(jī)孔位精度的方法，其特征在于，測量所述參考標(biāo)識的圓心與和該參考標(biāo)識的坐標(biāo)相對應(yīng)的所述激光孔的圓心之間的圓心距，以確定所述激光鉆機(jī)的孔位精度的步驟包括：

每一所述測量圖標(biāo)選取5個至10個所述參考標(biāo)識，測量選取的所述參考標(biāo)識的圓心及與該參考標(biāo)識的坐標(biāo)相對應(yīng)的所述激光孔的圓心之間的圓心距；

將測量的所述圓心距的數(shù)據(jù)通過CPK進(jìn)行統(tǒng)計(jì)計(jì)算，計(jì)算當(dāng)所述CPK的值大于或等于1.33時(shí)所述激光鉆機(jī)的孔位精度值。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述用于測量激光鉆機(jī)孔位精度的方法，其特征在于，所述治具本體為菲林基板、玻璃板或亞克力板。